PL49615B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL49615B1 PL49615B1 PL99033A PL9903362A PL49615B1 PL 49615 B1 PL49615 B1 PL 49615B1 PL 99033 A PL99033 A PL 99033A PL 9903362 A PL9903362 A PL 9903362A PL 49615 B1 PL49615 B1 PL 49615B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- hydrochloric acid
- hydrogen chloride
- hydrogen
- spectrally pure
- chloride
- Prior art date
Links
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 69
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 7
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 6
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- TWFZGCMQGLPBSX-UHFFFAOYSA-N carbendazim Chemical compound C1=CC=C2NC(NC(=O)OC)=NC2=C1 TWFZGCMQGLPBSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011491 glass wool Substances 0.000 claims description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 238000009738 saturating Methods 0.000 claims description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M sodium chloride Inorganic materials [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000011005 laboratory method Methods 0.000 description 4
- 229940058401 polytetrafluoroethylene Drugs 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000497 Amalgam Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- VETKVGYBAMGARK-UHFFFAOYSA-N arsanylidyneiron Chemical compound [As]#[Fe] VETKVGYBAMGARK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 12. VII. 1965 49615 KI. 12i, 7/08 MKP dfno UKD Wspóltwórcy wynalazku: iinz. Tadeusz Bialas, mgr Wieslawa Górska, mgr inz. Jain Milianowicz, mgr Stanislaw Ze- bracki Wlasciciel patentu: Zaklady Azotowe im. Feliksa Dzierzynskiego, Tar¬ nów (Polska) Sposób wytwarzania kwasu solnego spektralnie czystego W nowoczesnej technice kwas solny o czystosci spektralnej znajduje szerokie zastosowanie, na przyklad przy otrzymywaniu pólprzewodników, w technice jadrowej, w przemysle elektrotechnicz¬ nym, przy otrzymywaniu zwiazków chemicznych o wysokiej czystosci, w analizie spektrochemicznej i wielu innych dziedzinach.Dotychczas znane sa przemyslowe metody otrzy¬ mywania kwasu solnego odczynnikowego o stop¬ niach czystosci: czysty, czysty do analiz i chemicz¬ nie czysty. Metody te polegaja na uzyskiwaniu technicznych roztworów kwasu solnego przez ab¬ sorpcje gazowego chlorowodoru w wodzie i desty¬ lacje tych roztworów w aparaturze szklanej.Znane sa równiez laboratoryjne sposoby otrzy¬ mywania kwasu solnego wedlug Hónigschmidta, gdzie kwas laboratoryjny rozciencza sie woda do 20% HC1, gotuje sie z niewielka iloscia nadmanga¬ nianu potasu dla usuniecia bromu i jodu, a na¬ stepnie destyluje przez chlodnice kwarcowa.Bardziej stezony kwas solny uzyskuje sie metoda laboratoryjna przez wysycanie wody gazowym chlorowodorem w aparaturze wedlug Seidla.W urzadzeniu tym stosuje sie wypelnienie w po¬ staci krzemionki lub perelek szklanych i 20% kwasem solnym dziala sie na stezony kwas siar¬ kowy, a utworzony w ten sposób gazowy chloro¬ wodór przepuszcza sie przez pluczke ze stezonym kwasem siarkowym i wykrapla go w wymrazal- 10 15 30 niku przy uzyciu cieklego powietrza. Po odtopieniu wymrazalnika prowadzi sie frakcjonowana desty¬ lacje roztworu chlorowodoru w wodzie z wykorzy¬ staniem frakcji srodkowej. Kwas solny otrzymy¬ wany wyzej wymieniona metoda przemyslowa wykazuje stopien czystosci: czysty, czysty do analiz i chemicznie czysty, w których rzad czystosci wy¬ nosi 1.10—4% wagowych. Natomiast kwas solny otrzymany opisana metoda laboratoryjna wykazuje rzad czystosci 1.10—5% wagowych. W metodzie laboratoryjnej uzywanie stezonego kwasu siarko¬ wego do syntezy chlorowodoru ma te niedogodnosc, ze kwas siarkowy pozostawia w produkcie zanie¬ czyszczenia szczególnie metale ciezkie oraz zwiazki siarki, co daje niski rzad czystosci kwasu solnego.Równiez wprowadzenie nadmanganianu potasu wykazuje niedogodnosc, gdyz wprawdzie usuwa brom i jod, ale wprowadza zanieczyszczenia manganu i potasu. Ponadto stosowanie krzemionki lub perelek szklanych powoduje przejscie zanie¬ czyszczen sodu, wapnia, krzemionki, potasu i in¬ nych do kwasu solnego.Obecny wzrost wymagan odnosnie czystosci kwasu solnego stosowanego w nowej technice, przesunal sie znacznie poza granice 1.10—* do 1.10—5% wagowych, a wymagania, stawiane dla kwasu solnego spektralnie czystego, zadaja, aby sladowe zanieczyszczenia wynosily 1.10—7 do 1.10—8% wagowych. 4961549615 Zanieczyszczenia sladowe rzedu 1.10—? do 1.10—8% wagowych, zawarte w kwasie solnym spektralnie czystym oznacza sie specjalnymi meto¬ dami, jak na przyklad metoda spektrograficzna lub aktywacyjna z zachowaniem ochrony przed zanieczyszczeniami przypadkowymi.Kwas solny spektralnie czysty o stezeniu 20,5% do 38% , w którym zawartosc poszczególnych sladowych zanieczyszczen Al, B, Mn, K, Fe, Cu, As, Ni i Pb wynosi 1.10—? do 1.10—8% wagowych, otrzymuje $te. sposobem wedlug wynalazku, w którym jaka siirowce wyjsciowe stosuje sie gazo¬ wy chlor i wodór z elektrolizy wodnych roz¬ tworów chlorków sodowego lub potasowego me¬ toda przeponowa. Gazowy chlor i wodór z elektro¬ lizy rteciowej nie nadaja sie do tego celu, gdyz niosa zawsze zanieczyszczenia rteci, sodu lub po¬ tasu z rozkladu amalgamatu.Synteze gazowego chlorowodoru prowadzi sie wedlug reakcji H2 + Cl2 = 2 HClZlH = — 44,12 kcal w palniku karbatowym lub kwarcowym, przy czym ustala sie objetosciowy stosunek wodoru do chloru H2 : Cl2 = 1,5. Taki nadmiar wodoru potrzebny jest po to, aby w chlorowodorze nie otrzymywac wolnego chloru. \ Otrzymywany gazowy chlorowodór oczyszcza sie kolejno w filtrze porolitowym i filtrze z poli¬ chlorku winylu wypelnionym wata szklana, w celu uwolnienia go od zanieczyszczen, jak krzemionka, zwiazki zelaza i inne.Oczyszczony chlorowodór absorbuje sie w wodzie dejonizowanej, uzyskujac kwas solny odczynni¬ kowy o stezeniu okolo 38%. W kwasie tym za¬ wartosc zanieczyszczen wynosi: pozostalosc nielotna siarczany wolny chlor metale ciezkie . zelazo arsen 5.10^*% wagowych 2.10-*% 5.10—4% 2.10-1% 1.10^o/o 1.10-5% Odczynnikowy kwas solny rozciencza sie woda dejonizowana wysokiej czystosci do stezenia okolo 25% HC1 najkorzystniej 21,5% HC1 i poddaje de¬ stylacji frakcjonowanej z zastosowaniem refluksu pod zmniejszonym cisnieniem 100 do 650 mm Hg, najkorzystniej 500 mm Hg w aparaturze z poli- 10 15 25 35 40 45 50 tetrafluoroetylenu i odbiera frakcje II w ilosci okolo 75% jako kwas solny 20,5%-owy o czystosci spektralnej zawierajacy sladowe zanieczyszczenia w granicach 1.10—7 do 1.10-*% wagowych. Frakcje pozostale, I przedgon i III pogon, odrzuca sie jako kwas solny odczynnikowy.W przypadku produkcji kwasu solnego spek¬ tralnie czystego o stezeniu 38%, produkt z desty¬ lacji frakcjonowanej o stezeniu 20,5% HC1 wysyca sie pod cisnieniem zmniejszonym do okolo 150 mm Hg, gazowym chlorowodorem, otrzymywanym przez termiczny przeponowy rozklad 38%-owego HC1 odczynnikowego w aparaturze z politetrafluoro¬ etylenu w temperaturze okolo 30° C. Uzyskany kwas solny spektralnie czysty 38%-owy zawiera sladowe zanieczyszczenia w granicach 1.10-7 do 1.10—8% wagowych.Kwas solny spektralnie czysty przechowuje sie w naczyniach z politetrafluoroetylenu. Przy braku takich naczyn — mozna stosowac zastepczo na¬ czynia wykonane z bialego wysokocisnieniowego polietylenu.Naczynia, tak politetrafluoroetylenowe, jak i polietylenowe musza byc uprzednio wytrawione. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania kwasu solnego spektralnie czystego, znamienny tym, ze jako surowce wyjscio¬ we stosuje sie gazowy chlor i wodór z elektro¬ lizy wodnych roztworów chlorku sodowego lub potasowego metoda przeponowa, laczy sie wodór w nadmiarze z chlorem na chlorowodór w palniku karbatowym lub kwarcowym, oczyszcza sie go w filtrze porolitowym i filtrze z polichlorku winylu z wata szklana, nastepnie oczyszczany chlorowodór absorbuje sie w wodzie dejonizowanej na kwas solny odczynnikowy, kwas ten rozciencza sie woda dejonizowana wysokiej czystosci i prowadzi desty¬ lacje frakcjonowana pod zmniejszonym cisnieniem od 100—600 mm Hg w aparaturze z politetrafluoro¬ etylenu, odbierajac tylko frakcje II, przy czym wysokoprocentowy kwas solny spektralnie czysty uzyskuje sie przez wysycanie spektralnie czystego HC1 20,5%-owego pod zmniejszonym do 150 mm Hg cisnieniem gazowym chlorowodorem, uzyska¬ nym przez termiczny przeponowy rozklad 38%- -owego HC1 odczynnikowego w aparaturze z po¬ litetrafluoroetylenu1 w temperaturze 30° C. RSW „Prasa" Wr. Zam. 647/65. Naklad 250. PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL49615B1 true PL49615B1 (pl) | 1965-04-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Booth | Inorganic Syntheses, Volume 1 | |
| Fernelius | Inorganic Syntheses, Volume 2 | |
| US2404374A (en) | Polyfluorinated cycloparaffins and process for producing them | |
| US2836622A (en) | Preparation of carbonyl fluoride | |
| EP0016290B1 (en) | Continuous process for the removal of sulphur dioxide from waste gases, and hydrogen and sulphuric acid produced thereby | |
| CN112357893A (zh) | 一种熔融过滤提纯粗硒的方法 | |
| PL49615B1 (pl) | ||
| Calingaert et al. | The partial additive chlorination of the benzene ring. I. Alpha benzene tetrachloride | |
| US3019087A (en) | Purification of silane | |
| Merrill et al. | Some Reactions of Bis-(pentafluorosulfur) Peroxide | |
| JPS6191335A (ja) | 白金族金属を回収する方法 | |
| Chadwell et al. | The Reactions of Atomic Hydrogen with Several Alkyl Halides | |
| Holleman | A text-book of inorganic chemistry | |
| JP4458044B2 (ja) | 高純度液体塩素の製造方法 | |
| US10046976B1 (en) | Method of making inorganic gold compound | |
| US3035890A (en) | Process for the production of sf5cl | |
| Sato et al. | The extraction of divalent cobalt, copper, zinc, and cadmium from hydrochloric acid solutions by tri‐n‐octyl phosphine oxide | |
| US2989375A (en) | Production of boron tribromide | |
| US1036224A (en) | Process of making penta- and hexa-chlorethanes. | |
| US3039846A (en) | Method for the recovery and purification of gaseous uf6 from gaseous mixtures and uf7no2 and uf7no2 products produced thereby | |
| US3056660A (en) | Production of pure phosphorus | |
| US3101997A (en) | Chlorodifluoroamine and a process for its preparation | |
| Gooch et al. | Outlines of inorganic chemistry | |
| Stover et al. | THE REACTION ALUMINIUM OXIDE–CARBON–CHLORINE | |
| Kalichevsky | MANUFACTURING OF PERGHLORIO ACID. |