PL49220B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano: 10.IV.1965 49220 KI. 4£x im IB \ B L i O) s.ii A Wspóltwórcy wynalazku: mgr Boleslaw Lesniak, inz. Zbigniew Krogulski Wlasciciel patentu: Polska Akademia Nauk, Instytut Podstawowych Problemów Techniki, Warszawa (Polska) Urzedu Tc lontowego | Polskiej f.zccr -' fsj Ld^iwij Sposób zasilania wanny ultradzwiekowej Przedmiotem wynalazku jest sposób zasilania energia ultradzwiekowa wanny do czyszczenia ultradzwiekowego, wanny galwanicznej lub reak¬ tora chemicznego o dowolnych gabarytach, w celu przeprowadzenia zalozonych procesów technolo¬ gicznych.Dotychczasowe sposoby przekazywania energii akustycznej do kapieli czyszczacych polegaja na: bezposrednim zanurzeniu w cieczy przetwornika za¬ konczonego niekiedy koncentratorem, — lutowaniu lub klejeniu przetwornika do dna wanny, oraz — stosowaniu plyty sprzezonej z przetwornikiem, zwanej czesto plyta dopasowujaca, jako dna wanny.Pierwsze rozwiazanie nie moze miec zastosowa¬ nia w przypadku uzycia, jako kapieli, aktywnych chemicznie roztworów (kwasy, lugi), ze wzgledu na mozliwosc korozji i uszkodzenia przetwornika.Drugie rozwiazanie moze byc wykorzystane jedy¬ nie w przypadku wanien o malej pojemnosci (cien¬ kie, nieusztywriione dno), zarówno ze wzgledu na koniecznosc zmniejszenia strat tlumienia, jak i trudnosci technologiczne zwiazane z lutowaniem przetworników magnetostrykcyjnych do pojemni¬ ków o duzych gabarytach. Ostatnie rozwiazanie moze miec równiez zastosowanie wylacznie w przy¬ padku wanien o malej pojemnosci, gdyz — dla unikniecia tlumienia — plyty sprzegajace musza byc cienkie, a ich wymiary poprzeczne sa dodat¬ kowo ograniczone wymagana wielkoscia natezenia pola ultradzwiekowego w kapieli, zalezna od sto¬ lo 15 20. 25 30 sunku powierzchni plyty do powierzchni czolowej przetwornika.Sposób wedlug wynalazku usuwa te niedogod¬ nosci i ograniczenia. Sposób ten polega na zasto¬ sowaniu dowolnej ilosci przetworników magneto¬ strykcyjnych lub piezoelektrycznych, polaczonych z plytami sprzegajacymi, dla zasilenia potrzebna iloscia energii ultradzwiekowej wanien do czyszcze¬ nia, wanien galwanicznych oraz wszelkiego typu reaktorów chemicznych o dowolnych gabarytach.Sposób wedlug wynalazku zapewnia ponadto za¬ bezpieczenie przetworników przed dzialaniem che¬ micznym kapieli czyszczacych oraz latwa ich wy¬ miane w przypadku uszkodzenia lub koniecznosci stosowania innych czestotliwosci.Na rysunku jest przedstawiony w przekroju po¬ przecznym przyklad zastosowania przetwornika do zasilania wedlug wynalazku energia ultradzwieko¬ wa wanny do czyszczenia ultradzwiekowego.Przetwornik magnetostrykcyjny lub piezoelek¬ tryczny 1 jest polaczony za pomoca lutowania lub klejenia z plyta sprzegajaca 2 o wymaganej opty¬ malnej grubosci i powierzchni. Plyta 2 z przetwor¬ nikiem 1 jest przymocowana do dna wanny 3 za pomoca srub, nitowania lub spawania w taki spo¬ sób, ze otwór dna wanny odpowiada czynnej po¬ wierzchni plyty.Potrzebna w przeprowadzanym procesie techno¬ logicznym ilosc zasilajacej energii ultradzwiekowej otrzymuje sie przez sprzezenie z wanna czyszczaca, 4922049220 wanna galwaniczna lub reaktorem chemicznym od¬ powiedniej ilosci przetworników magnetostrykcyj- nych lub piezoelektrycznych polaczonych z plytami sprzegajacymi. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób zasilania wanny ultradzwiekowej za po¬ moca kilku przetworników magnetostrykcyjnych lub piezoelektrycznych, znamienny tym, ze kazdy z przetworników (1) laczy sie za pomoca lutowania lub klejenia z oddzielna plyta sprzegajaca (2) o wy¬ maganej optymalnej grubosci i powierzchni, która to plyte przymocowuje sie nastepnie do dna lub sciany wanny. ZG „Ruch" W-wa, zam. 2205-64 naklad 250 egz. PL