^ & i £ l. ! O T E K Aj JUrzedu Patentowego |?olskisj Bz8GZjfpPcsa!?Jt;J •.,? Opublikowano dnia 3 wrzesnia 1962 r. i yKTB»* POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 45986 KL 42 b, 19 VEB Oschatzer Waagenfabrik Oschatz, Niemiecka Republika Demokratyczna Mikrometr optyczny Patent trwa od dnia 5 stycznia 1961 r.Wynalazek dotyczy mikrometru optycznego do wyznaczania bardzo malych dlugosci po- dzialek, które moga byc takze ustalane pro¬ porcjonalnie do wielkosci katowej, dzielac naj¬ mniejsza jednostke rzutowa na mniejsze war¬ tosci albo ich dziesietne przez dalszy podzial kresek wskaznikowych i namiarowanie war¬ tosci rzutowanych na skali przyrzadów optycz¬ nych z urzadzeniem rzutujacym.W znanych dotychczas mikrometrach optycz¬ nych najmniejsza jednostka podzialkowa rzu¬ towana na skale jest podzielona za pomoca znaków wskaznikowych, które za posrednic¬ twem trzpieni sa poruszane wzdluz dlugosci najmniejszej jednostki podzialkowej rzutowa¬ nej, na dalsze punkty dziesietne.Te znane mikrometry optyczne maja te wa¬ de, ze wskutek malej wielkosci najmniejszej rzutowanej jednostki dalszy jej podzial ma jednak okreslona granice, poniewaz dokladnosc nastawienia znaku wskaznikowego nie da sie odczytac nieuzbrojonym okiem. W ten sposób otrzymany odczyt ma charakter przyblizony, a wiec niedokladny.Przyrzad wedlug wynalazku ma na celu usu¬ niecie tych wad i stworzenie takich warunków, w których dlugosc przesuniecia znaku wskazni¬ kowego osiagnie wielokrotnosc dlugosci naj¬ mniejszej jednostki rzutowanej na skale. Cel ten zostaje osiagniety przez optyczne n —krot¬ ne powiekszenie najmniejszej jednostki po¬ dzialkowej rzutowanej na skale i odczytanie pomiaru tej powiekszonej jednostki w talti sposób, ze podzialka ma skale glówna i skale mikrometryczna, które oddzielnie sa rzutowa¬ ne na wspólna nieruchoma powierzchnie obra¬ zu, na której skala glówna jest widoczna bez¬ posrednio, a odcinek skali mikrometrycznej poprzez obiektyw rzutowany na dodatkowa dru¬ ga powierzchnie obrazu, na której odcinek ska¬ li mikrometrycznej jest mierzony przez prze¬ suniecie tej i na drugiej powierzchni obrazu za pomoca znaku. Ta wartosc zostaje odczyta¬ na na bebnie pomiarowym*Na rysunku fig. 1 przedstawia podzialke do rzutowania z oznaczonymi kreskami, fig. 2 — widok z boku urzadzenia do rzutowania w po¬ lozeniu zerowym, fig. 3 — widok z góry na powierzchnie obrazu wedlug fig. 2 w ustawie¬ niu zerowym urzadzenia do rzutowania, fig. 4 — widok z boku wedlug fig. 2 przy przechy¬ leniu belki wagowej z przynalezna optyczna konstrukcja, fig. 5 — widok z góry na po¬ wierzchnie obrazu wedlug fig. 4 przy zmie¬ nionej rzutowanej skali glównej, fig. 6 — wi¬ dok z boku wedlug fig. 2 i 4 przy obróconym bebnie pomiarowym i podniesionej innej dru¬ giej powierzchni obrazu, a fig. 7 — widok z góry na powierzchnie obrazu z fig. 6 z pod¬ niesiona inna druga powierzchnia obrazu z obróconym bebnem pomiarowym i rzutowa¬ nym odcinkiem skali mikrometrycznej.Do kazdego urzadzenia rzutujacego naleza nieodzowne elementy podstawowe, jak zródlo swiatla 1, kondensator zbierajacy 2, podzialka 3 i obiektyw 4. Na belce wagowej 5 jest umieszczony element odbijajacy 6, który za¬ leznie od obciazenia belki wagowej 5 rajzem z nia sie pochyla i wskutek tej czynnosci jednoczesnie odchyla rzutowana podzialke na nieruchomej powierzchni obrazu, zgodnie z kazdorazowa jej pozycja. Na podzialce 3 znaj¬ duja sie, jak to uwidoczniono na fig. 1, dwie skale, a mianowicie skala glówna 8 i skala mikrometryczna 9. Obok pierwszej skali o obie¬ ralnej dlugosci i ksztalcie umieszczona jest druga skala o tej samej dlugosci ale uprosz¬ czonej formie. Obydwie sa naszkicowane przez urzadzenie projekcyjne na wspólnej powierz¬ chni obrazu 7, tak, ze rzutowana glówna skala 10 jest usytuowana po lewej stronie 11 po¬ wierzchni obrazu 7. Po tej samej stronie sa oznaczone wartosci pomiarowe skali glównej 8/10 za pomoca kreski glównego wskaznika 12, umieszczonej po lewej stronie 11 obrazu. Po prawej stronie 13 wspólnej powierzchni obra¬ zu 7 jest rzutowana skala mikrometryczna 14 (fig. 5). Skala ta nie jest jednak w calosci wi¬ doczna, poniewaz ta strona powierzchni obra¬ zu jest zaslonieta przez przeslone 15, wypo¬ sazona w mikroobiektyw 16 (fig. 2). W polu mikroobiektywu znajduje sie stale podzialka skali mikrometrycznej 14, która bedzie rzuto¬ wana zgodnie z kazdorazowa pozycja skali glównej 8 (fig. 1) na druga powierzchnie obra¬ zu 17 za posrednictwem mikroobiektywu 16 (fig. 2).W przeciwienstwie do nieruchomej wspólnej powierzchni obrazu 7 jest ta druga powierz¬ chnia obrazu 17 przesuwalna w kierunku pio¬ nowym, przy czym poziom wysokosci jej be¬ dzie regulowany przez obrotowy beben pomia¬ rowy 18, a szczególnie przez umieszczona w nim krzywizne 19 oraz przymocowany do powierzchni obrazu 17 trzpien slizgowy 20 (fig. 2, 4). Znaki wskaznikowe 22 usytuowane na drugiej powierzchni obrazu 17 sa pokrywane przez rzutowana kreske mikroskali 14, a war¬ tosc przesuwu odczytana na podzialce 21 bebna pomiarowego. Do namiarowania rzutowanej kreski mikroskalowej przy stabilizowanej dru¬ giej powierzchni obrazu 17 sluzy przesuwalna przeslona szczelinowa nie uwidoczniona na ry¬ sunku.Mozna równiez zastapic krzywizne 19 z slizgo¬ wym trzpieniem 20 innymi elementami rucho¬ mymi, np. pomiarowym wrzecionem.Stosujac system wedlug wynalazku w in¬ nych podobnych przyrzadach pomiarowych na¬ lezy powierzchnie obrazu, przeslony, optyke, bebny pomiarowe itp. wykonac nieruchome albo przesuwalne w kazdym kierunku do po¬ lozenia zerowego. PL