PL44278B1 - - Google Patents

Description

Opublikowano dnia 15 marca 1961 r. &M4f /om POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 44278 KI. 15 1, 2/01 Zaklady Cynkoiue „Silesia"*) Swietochlowice, Polska Stop cynkowy do wyrobu drobnoziarnistych plyt poligraficznych Patent trwa od dnia 16 maja 1960 r.Znany stop cynkowy do wyrobu plyt poligra¬ ficznych zawiera od 0,2 do 0,3% wagowych ka¬ dmu. W czasie przygotowywania klisz drukar¬ skich plyty te ogrzewa sie do temperatury od 150 do 250°C, aby znajdujaca sie na ich po¬ wierzchni warstwe emalii uczynic kwasoodpor- na. Nastepnie, plyty trawi sie roztworami kwasu azotowego, azeby poglebic róznice wysokosci miedzy miejscami drukujacymi i nie drukujacy¬ mi. Poniewaz zas podczas tego trawienia zacho¬ dzi takze podtrawianie rysunku, przeto proces trawienia nalezy prowadzic stopniowo, to zna¬ czy trawi sie, a nastepnie zabezpiecza rysunek za pomoca lakieru ochronnego, po czym znów trawi i znów zabezpiecza, wykonujac te czynno¬ sci kilkakrotnie, przewaznie 3 do 5 razy.Plyty poligraficzne ze znanego stopu cynko¬ wego z dodatkiem kadmu maja strukture gru- *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspól¬ twórcami wynalazku sa Pawel Podbial, mgr inz.Stanislaw Brunne, mgr Herbert Czichon, Cze¬ slaw Orlowski, inz. Jan Mondry i mgr Tadeusz ' Niedek. bokrystaliczna, przy czym podczas ogrzewania do temperatury powyzej 150°C zachodzi w nich rekrystalizacja i ziarna ulegaja dalszemu po¬ wiekszaniu sie. Trawienie takich plyt przebiega nierównomiernie, a otrzymany przy ich pomocy rysunek jest nieostry.Wady te próbowano juz usunac przez dodawa¬ nie do stopu cynkowego okolo 0,1% wagowych magnezu. Dodatek ten wplywa wprawdzie ko¬ rzystnie na strukture plyt, ale nie rozwiazuje zagadnienia w sposób dostateczny, poniewaz podczas trawienia rysunek na plycie, zawiera¬ jacej wspomniany dodatek magnezu, ulega pod- trawianiu i szybko niszczy sie. Z tego tez wzgle¬ du plyty takie nie ruoga byc stosowane do tra¬ wienia jednostopniowego.Obecnie stwierdzono, ze wymienione wyzej wady usuwa sie prze/ zastosowanie do wyrobu drobnoziarnistych plyt poligraficznych stopu cynkowego, który, oprócz cynku z dodatkiem magnezu, zawiera nieduza ilosc, najkorzystniej od 0,05 do 0,4% wagowych aluminium.Zgodnie z wynalazkiem stop do wyrobu plyt poligraficznych otrzymuje sie w ten sposób, zew zwyklym piecu topielnym przetapia sie wstep¬ nie cynk o czystosci 99,9% Zn, a nastepnie wpro¬ wadza do niego odpowiednia ilosc stopu alumi- niowo-magnezowego, zawierajacego 90% wago¬ wych alljmiciani i ltiiPfo* wa*£lwych magnezu.Stop aluminio&o-magnezowy wprowadza sie do kapieli cynkowej w temperaturze 500—550°C i dla otrzymania równomiernego skladu che¬ micznego stosuje sie intesywne mieszanie ka¬ pieli. Po rozpuszczeniu sie dodatkowych sklad¬ ników w kapieli cynkowej obniza sie temperatu¬ re pieca do okolo 480—500°C i odlewa wlewki walcownicze do form poziomych, uprzednio pod¬ grzanych do temperatury co najmniej 180°C. W czasie krzepniecia metalu, formy chlodzi sie od dolu woda. Gotowe plyty otrzymuje sie przez wielostopniowe walcowanie tego stopu.Plyty wykonane ze stopu wedlug wynalazku maja strukture drobnokrystaliczna, totez proces ich trawienia przebiega bardzo równomiernie.Poza tym plyty te odznaczaja sie wyzsza tempe¬ ratura rekrystalizacji i nawet po ogrzaniu do temperatury 250°C nie rekrystalizuja, zachowu¬ jac swa drobnoziarnista strukture, dzieki czemu mozna je uzywac do trawienia jednostopniowe- go, w czasie którego w jednym tylko etapie otrzymuje sie klisze cynkowa o lepszych wlasci¬ wosciach, anizeli przy trawieniu kilkakrotnym plyt ze znanych stopów. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Stop cynkowy do wyrobu drobnoziarnistych plyt poligraficznych, zawierajacy magnez, zna¬ mienny tym, ze oprócz cynku z nieduzym do¬ datkiem magnezu zawiera dodatek aluminium, najkorzystniej w ilosci od 0,05 do 0,4% wago¬ wych, który wprowadza sie do kapieli cynko¬ wej w temperaturze od 500 do 550°C w postaci stopu aluminiowoHmagnezówego, skladajacego sie z 90% wagowych aluminium i 10 % wagowych magnezu. Zaklady Cynkowe „Silesia" Zastepca: mgr inz. Jerzy Haiike rzecznik patentowy 41. RSW „Prasa", Kielce. PL