PL43937B1 - - Google Patents

Description

2 Op»btffco*«no dnia 3 marca 1962 r. tf lilii ^ "Wf& POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 43937 Przemyslowy Instytut Elektroniki*) Warszawa, Polska KI. 21 g, 13/25 Sposób oczyszczania podloza i nanoszenia warstwy fotoczulej w lampach analizujacych Patent trwa od dnia 13 kwietnia 1960 r.Przedmiotem wynalazku jest sposób oczysz¬ czania podloza i nanoszenia warstwy fotoczulej w lampach analizujacych, polegajacy na wyko¬ rzystaniu balonu lampy jako oslony prózniowej.Jedna z operacji w produkcji lamp analizuja¬ cych jest oczyszczanie powierzchni ekranu oraz pokrywanie go warstwa fotoczula. Jakosc lampy w duzej mierze zalezy od stopnia czystosci pod¬ loza, w zwiazku z czym stosuje sie kilkakrotne oczyszczanie, zarówno metodami chemicznymi i elektrycznymi- Operacje te przeprowadzane sa w pomieszczeniach, wymagajacych nadcisnienia i klimatyzacji. Proces nanoszenia warstwy foto¬ czulej przeprowadza sie w znanych dotychczas sposobach wytwarzania lamp pod kloszem pom¬ py prózniowej, gdzie w odpowiednich uchwy¬ tach umocowany jest balon lampy.W odróznieniu sposób wedlug wynalazku umo¬ zliwia znaczne uproszczenie technologii oczysz- *) Wlasciciel patentu oswiadczyl, ze wspól¬ twórcami wynalazku sa Aleksander Fryszman, Jerzy Kolodziejski i Ewa Rusinowska. czania i nanoszenia warstwy fotoczulej oraz wy¬ konywania tych operacji w pomieszczeniach nie posiadaj acych klimatyzacji, dzieki temu, ze balon lampy "wykorzystuje sie równoczesnie jako oslo¬ ne prózniowa. Sposób ten umozliwia ponadto bezposrednia regulacje, temperatury podloza za pomoca dowolnego urzadzenia pomiarowego, umieszczonego przy ekranie, co bylo dotychczas utrudnione ze wzgledu na próznie otaczajaca ekran, oraz pomiar grubosci nanoszonej warstwy za pomoca fotokomórki umieszczonej nad ekra¬ nem lampy.Sposób uczyszczania podloza i nanoszenia war¬ stwy fotoczulej wedlug wynalazku wyjasniony jest na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia ogrzewany balon lampy analizujacej, ustawiony na wylocie ukladu prózniowego, a fig. 2—spo¬ sób pomiaru grubosci warstwy fotoczulej w trakcie jej nanoszenia za pomoca fotokomórki.Istota sposobu wedlug wynalazku polega na wy¬ korzystaniu balonu larnpy jako oslony próznio¬ wej. Operacje oczyszczania podloza oraz nano-ASW&* WSJftftfwy 'SWalfo^tifej ^wyfcotraje sie przy tym w nastepujacej kolejnosci.Oczyszczony sposobem chemicznym balon 1 lampy analizujacej ustawia sie na uszczelce 2 wylotu 3 ukladu prózniowego, z umieszczanym w jego wnetrzu urzadzeniem 4, sluzacym do na¬ parowywania warstwy fotoczulej. Na balon na¬ suwa sie nastepnie piecyk elektryczny 5, który wygrzewa go. Dalej przeprowadza sie oczyszcza¬ nie elektryczne wnetrza balonu przez wylado¬ wanie pradów wysokiej czestotliwoscia doprowa¬ dzonych do ekranu la lampy oraz elektrod 4a urzadzenia naparowywujacego. Po oczyszczeniu wytwarza sie próznie, odpowiednia do pozada¬ nej struktury warstwy fotoczulej, ustawia nad ekranem la lampy fotokomórke 6 oraz urucha¬ mia sie urzadzenie do naparowywania warstwy fotoczulej, mierzac fotokomórka 6 grubosc na¬ noszonej warstwy. Dalsze operacje wykonuje sie znanymi dotychczas sposobami. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób oczyszczania podloza i nanoszenia warstwy fotoczulej w lampach analizujacych, w których oczyszczony sposobem chemicznym balon lampy ustawia sie na uszczelce wylotu ukladu prózniowego, znamienny tym, ze we wnetrzu balonu (1) lampy umieszcza sie urza¬ dzenie (4), sluzace do naparowywania war¬ stwy fotoczulej, a nastepnie na balon (1) na¬ suwa sie piecyk elektryczny (5) i poddaje go wygrzewaniu w prózni, po czym przeprowa¬ dza sie oczyszczanie wnetrza balonu (1) przez wyladowania pradów wysokiej czestotliwosci, doprowadzonych do ekranu (la) lampy oraz elektrod (4a) urzadzenia naparowujacego, po czym wytwarza sie próznie odpowiednia do pozadanej struktury warstwy fotoczulej oraz wlacza urzadzenie (4) do jej naparowywania.
2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze nad ekranem balonu (1) lampy jest umiesz¬ czona fotokomórka (6), która sluzy do pomia¬ ru grubosci nanoszonej warstwy fotoczulej. Przemyslowy Instytut Elektroniki Zastepca: inz. Zbigniew Kaminski rzecznik patentowy Fi g.1 Ftg.2 2021, RSW „Prasa", Kielce. PL