PL42460B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL42460B1
PL42460B1 PL42460A PL4246059A PL42460B1 PL 42460 B1 PL42460 B1 PL 42460B1 PL 42460 A PL42460 A PL 42460A PL 4246059 A PL4246059 A PL 4246059A PL 42460 B1 PL42460 B1 PL 42460B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
electrodes
electrode
semiconductor base
added
active
Prior art date
Application number
PL42460A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL42460B1 publication Critical patent/PL42460B1/pl

Links

Description

Niniejszy wynalazek dotyczy sposobu wytwa¬ rzania ukladów pólprzewodnikowych elektrod, takich jak tranzystory lub diody krystaliczne, w których na pólprzewodnikowej bazie umoco¬ wane sa przez spawanie przynajmniej dwie elektrody, przy czym choc jedna z nich zawiera czynne zanieczyszczenie. Jako „czynne zanie- czyszczenie"rozumie sie pierwiastki i zwiazki, mogace wplywac na wlasciwosci elektryczne elektrod, na przyklad akceptory i donory.Te uklady elektrod posiadaja zwykle elektro¬ dy, wykazujace rózne wlasciwosci elektrycz¬ ne, na przyklad rozróznia sie elektrody prostow¬ nicze i nie prostownicze, czyli oporowe. W tym celu zwykle odpowiednio dobrany jest sklad materialu elektrod, przy czym z pólprzewodni¬ kowa baza spojone sa przynajmniej dwa ele¬ menty o róznym skladzie.Gdy elektrody umieszczone sa blisko jedna od drugiej przy powierzchni pólprzewodniko¬ wej bazy, zwlaszcza jesli jedna z tych elektrod zawiera czynne zanieczyszczenie szybko dyfu- zujace lub dazace do rozpraszania sie na po¬ wierzchni bazy, wówczas istnieje niebezpieczen¬ stwo zakazania przez te elektrode, co najmniej jednej z innych elektrod.Inna trudnoscia, powstajaca przy uzyciu elek¬ trod róznego rodzaju jest ta, ze poniewaz ma¬ ja one czesto ksztalt kulek o srednicy mniej¬ szej niz 1 mm, przeto moga byc latwo wziete jedna za druga. To niebezpieczenstwo istnieje zwlaszcza wtedy, gdy elektrody sa nakladane przez spawanie za pomoca formy, zawierajacej szereg bliskich siebie otworów do odlewania spawanych elektrod.Niniejszy wynalazek opiera sie na zjawisku, ze mozna wywierac wplyw na wlasciwosci ta¬ kich elektrod po umieszczeniu ich' na pólprze¬ wodnikowej bazie, wskutek czego zanieczysz¬ czenie, dazace do zakazenia innych elektrod nie potrzebuje byc poddawane obróbce cieplnej, stosowanej przy wyrobie.Zgodnie z wynalazkiem, na pólprzewodniko¬ wej bazie umieszcza sie przynajmniej dwierówne sobie elektrody, po czym co najmniej do jednej, z nich zostaje dodane czynne zanie¬ czyszczenie, przy czym zestaw zostaje poddany obróbce cieplnej w taki sposób, ze wlasciwosci ^elektrody lub elektrod, do których zostalo do¬ dane zanieczyszczenie róznia sie od wlasciwosci elektrody lub elektrod, do których nie dodano zanieczyszczenia.Wzajemnie równe elektrody moga byc otrzy¬ mane przez spawanie elementów elektrod przy stosunkowo niskiej temperaturze, podczas gdy obróbka cieplna nastepujaca po dodaniu zanie¬ czyszczenia moze byc uskuteczniona przy wyz¬ szej temperaturze.Jednakze zabieg ten moze byc odwrócony w ten sposób, ze równe sobie elektrody moga byc umieszczone przez spawanie przy wyzszej temperaturze niz ta, przy której wykonywana jest obróbka cieplna, nastepujaca po dodaniu zanieczyszczen.Ten ostatni sposób jest szczególnie korzystny wtedy, gdy dodaje sie zanieczyszczenie, które ma byc nastepnie rozproszone poza elektroda, do której zostalo dodane. Ma to miejsce wtedy, gdy sa to zanieczyszczenia posiadajace wyso¬ ka preznosc par, jak arsen lub antymon, lub gdy latwo rozpraszaja sie po powierzchni pól- przewodzacej. Niebezpieczenstwo wzajemnego zakazenia sie zalezy równiez od odstepów po¬ miedzy elektrodami.Gdy baza pólprzewodnikowa sklada sie z ger¬ manu, wtedy zanieczyszczenie, dodawane do " przynajmniej jednej z elektrod najkorzystniej sklada sie z aluminium.Dalsze szczególy wynalazku zostana podane w opisie kilku wykonan przedstawionych w ry¬ sunku.Fig. 1, 2 i 3 uwidaczniaja oddzielnie dwie glówne czesci formy oraz cztery bazy pólprze¬ wodnikowe, fig. 4 — forme zlozona, fig. 5 — nakladanie czynnego zanieczyszczenia, fig. 6 do 9 — widoki przekroju pólprzewodnikowych ukla¬ dów elektrod w róznych etapach wykonania, a fig. 10 — przekroju tranzystora, wykonanego sposobem wedlug wynalazku.Elementy elektrod moga byc nalozone przez spojenie za pomoca formy, której dwie glówne czesci sa uwidocznione na fig. 1 i 3. Forma ta posiada pokrywe 1, której grubosc jest w przy¬ blizeniu równa srednicy elementów elektrod, majacych byc nalozonych przez spawanie. Ta pokrywa moze skladac sie z miki o grubosci 100 mikronów. W plycie jest wywierconych osiem dziur 2, w czterech parach z odstepami okolo 100 mikronów. Ponadto forma posiada podstawe 3 (fig. 3), która moze byc wykonana z grafitu i w której zostaly wyszlifowane czte¬ ry wglebienia 4, mieszczace pólprzewodnikowe plytki 5, (fig. 2), stanowiace bazy.W fig. 4 przedstawiona jest ta sama forma w stanie zamknietym. Pokrywa 1 jest przycis¬ nieta do podstawy 3 za pomoca zacisków (nie uwidocznionych).Na pokrywie zostaje rozsiana pewna ilosc elementów 6 elektrod, najkorzystniej w posta¬ ci kulek tak uksztaltowanych, aby kazdy otwór 2 zostal calkowicie zapelniony jedna kulka 6.Ilosc rozsianych kulek winna byc dostateczna do zapelnienia wszystkich otworów 2. Po usu¬ nieciu pozostalych kulek, zestaw zostaje podda¬ ny obróbce cieplnej przy temperaturze umozli¬ wiajacej przywarcie elementów elektrod do pól¬ przewodnikowych plytek 5, wskutek czego zo¬ staje wytworzona elektroda 7. Dalsze szczegó¬ ly, odnoszace sie do skladu i temperatur, beda podane nizej.Nastepnie pokrywe 1 zdejmuje sie, jak uwi¬ doczniono na fig. 5. Jedna elektrode z kazdej pary elektrod 7 zaopatruje sie w czynne zanie¬ czyszczenie, które moze byc nalozone za pomo¬ ca pedzla 8, jako drobny proszek rozproszony w osrodku wiazacym. Dalej plytka 5 wraz ze swa zawartoscia zostaje ponownie umieszczona w piecu, wskutek czego czynne zanieczyszcze¬ nie ulega calkowicie wchlonieciu przez elektro¬ de, na która ono zostalo nalozone, podczas gdy inne elektrody zachowuja swoja pierwotna wlas¬ ciwosc. Jesli temperatura, przy której zostaje uskuteczniona druga obróbka cieplna jest wyz¬ sza, niz ta przy której wykonano pierwsza obrób¬ ke cieplna, to material elektrody bedzie od¬ dzialywac na plytke pólprzewodnikowa na wie¬ ksza glebokosc. Jednakze, jak to poprzednio wspomniano, druga obróbka moze byc tez prze¬ prowadzona przy nizszej temperaturze.W fig. 6 do 9 uwidocznione sa rózne etapy, przez które przechodzi uklad elektrod w tym sposobie wykonania. W pierwszym etapie ele¬ menty 6 elektrod sa luzno rozsiane na pólprze¬ wodnikowej plytce 5 (fig. 6). Po pierwszej obrób¬ ce cieplnej zostaja one spojone z powierzchnia tej plytki 5 i tworza elektrody 7 (fig. 7). Na¬ stepnie jedna z dwóch elektrod zostaje zaopa¬ trzona w pewna ilosc czynnego zanieczyszcze¬ nia 9, (fig. 8) i w koncu, po drugiej obróbce cieplnej, obie elektrody dalej przenikaja w pól¬ przewodnikowa plytke 5, podczas gdy czynne zanieczyszczenie 9 zostalo spojone z materia¬ lem elektrody i utworzylo elektrode 10 o innych wlasciwosciach, niz elektrody 7 (fig. 9).— I —Sposób wedlug wynalazku nie ogranicza sie jedynie do uzycia elementów elektrod lub pól¬ przewodnikowych plytek o ksztalcie powyzej opisanym, do spajania okreslonej ilosci ele¬ mentów elektrod, ani tez do uzycia pewnych form odlewania.Tranzystor moze byc przeto wytworzony przez spajanie dwóch elektrod z jedna powierzchnia cienkiej pólprzewodnikowej plytki 15 (fig. 11) w sposób poprzednio opisany. Jedna z elektrod wykonana jest jako elektroda prostownicza przez dodanie czynnego zanieczyszczenia. Na drugiej stronie plytki 15, równiez zostaje nalo¬ zona prostownicza elektroda 16.Nizej sa podane dwa przyklady skladu ele¬ mentów elektrod oraz dodawanych do nich za¬ nieczyszczen. Pierwszy przyklad opisuje two¬ rzenie styków na germanie, z których przynaj¬ mniej jeden zostaje przetworzony w styk p.Drugi przyklad opisuje tworzenie styków p na germanie, z których przynajmniej jeden zosta¬ je przetworzony w styk n* Przyklad I. Na pólprzewodnikowa plytke wykonana z germanu, zostaja nalozone i spojo¬ n/e z nia w wodorze przy 600°C elementy elek¬ trod, skladajace sie z bizmutu. Na jedna z tych elektrod naklada sie 40 g sproszkowanego alu¬ minium, rozproszone w osrodku wiazacym, skla¬ dajacym sie z roztworu 20 g metakrylatu na 100 mgs ksylenu. Ilosc alminium, stanowiacego tu¬ taj czynne zanieczyszczenie nie jest scisle okre¬ slona, gdyz mala ilosc jest na ogól dostateczna.Nalozona ilosc jest tak mala, ze nie rozprasza sie poza elektrode, na której zostala umieszczo¬ na. Druga obróbka cieplna zostaje uskutecznio¬ na przy 750°C, równiez w wodorze, wskutek czego czynnik rozpraszajacy znika i aluminium spaja sie z elektroda, uzyskujaca wtedy wlas¬ ciwosc styku p. Te ostatnie elektrody staja sie wiec prostowniczymi na germanie typu n i omo¬ wymi na germanie typu p. Przed dodaniem alu¬ minium, elektrody bizmutowe tworzyly styki omowe na germanie typu n i cokolwiek prosto¬ wnicze styki na germanie typu p.Przyklad II. Stosunek ten zostaje odwró¬ cony, gdy pewna ilosc elementów, elektrod skla¬ dajacych sie z indu zostaje spojona z plytkami germanu. Nagrzewanie odbywa sie równiez w wodorze przy temperaturze 500°C. Do przynaj¬ mniej jednej z elektrod zostaje dodany sprosz¬ kowany antymon, rozproszony w takim samym osrodku wiazacym, po tzym zestaw zostaje po¬ nownie nagrzany w wodorze przy temperaturze 450°C. Wytworzone elektrody tworza styki ty¬ pu n, podczas gdy pierwotne elektrody z indu byly typu p. W ten sposób niebezpieczenstwo niepozadanego zakazenia elektrody lub elektrod nie zawierajacych antymonu, jest znacznie zmniejszone. PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania ukladów pólprzewodni¬ kowych elektrod, takich jak tranzystory i diody krystaliczne, w których z baza pól¬ przewodnikowa spojone sa przynajmniej dwa elementy elektrod, z których co naj¬ mniej jedna zawiera czynne zanieczyszczenie, znamienny tym, ze przynajmniej dwie rów¬ ne sobie elektrody umieszczone sa na pólprze- wodnikowowej bazie, po czym nie do wszyst¬ kich tych elektrod, lecz co najmniej do jed¬ nej z nich, zostaje dodane czynne zanieczysz¬ czenie, a otrzymany w taki sposób zestaw zostaje poddany obróbce cieplnej tak, ze wlasciwosci elektrody lub elektrod, do któ¬ rych bylo dodane zanieczyszczenie, staja sie inne, niz wlasciwosci elektrody lub elek¬ trod, do których zanieczyszczenie nie bylo dodane.
  2. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze pierwszy zabieg spajania elementów elek¬ trod z baza pólprzewodnikowa, wykonuje sie przy temperaturze nizszej, niz ta przy której odbywa sie obróbka cieplna po dodaniu czyn¬ nego zanieczyszczenia. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tym, ze zanieczyszczenie w postaci aluminium do¬ daje sie do bazy pólprzewodnikowej, która sklada sie z germanu. 4. Sposób wedlug zastrz 1 — 3, znamienny tym, ze czynne zanieczyszczenie dodaje sie w po¬ staci rozprowadzonej w srodku wiazacym. 5. Sposób wedlug zastrz. 1 — 4, znamienny tym, ze baza pólprzewodnikowa jest umieszczona w formie, zaopatrzonej w sasiadujace z so¬ ba otwory do wlewania elementów elektrod, które maja byc spawane z baza pólprzewod¬ nikowa, przy czym otwory te zostaja napel¬ nione równymi sobie elementami elektrod, podczas gdy po spojeniu tych elementów elektrod z baza pólprzewodnikowa, do przy¬ najmniej jednej z wytworzonych elektrod dodaje sie czynne zanieczyszczenie, po czym wykonana zostaje dalsza obróbka cieplna. N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken Zastepca: mgr Józef Kaminski rzecznik patentowyDo opisu patentowego nr 42460 FIG1 «C ^^/ r * ™&/$i:^ X -b FIG5 mmmk W/A7*l^//'-/77ffi j^» ^M?^» ^/^ FIG 6 FIG 7 FIG 8 Ar£ « FIG9 FIG10 Wiór jednoraz. CtWD, zamT PL/Ife, Czeat lam. 2913 7. 9. 59. 100 egz. Al pism. ki.
  3. 3. IbibliotekaJ \-M '¦ ¦:v-..¥3q« PL
PL42460A 1959-01-10 PL42460B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL42460B1 true PL42460B1 (pl) 1959-08-15

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2759133A (en) Semiconductor devices
US2837704A (en) Junction transistors
CA2392342A1 (en) Method and apparatus for self-doping contacts to a semiconductor
US9824994B2 (en) Semiconductor device in which an electrode of a semiconductor element is joined to a joined member and methods of manufacturing the semiconductor device
EP3526809B1 (de) Schaltungsanordnung mit einer schmelzsicherung, kraftfahrzeug und verfahren zum herstellen der schaltungsanordnung
US3706915A (en) Semiconductor device with low impedance bond
US2994018A (en) Asymmetrically conductive device and method of making the same
US3179542A (en) Method of making semiconductor devices
US3665594A (en) Method of joining a body of semiconductor material to a contact or support member
US2702360A (en) Semiconductor rectifier
PL42460B1 (pl)
US3291578A (en) Metallized semiconductor support and mounting structure
US3903494A (en) Metal oxide varistor with coating that enhances contact adhesion
US2843511A (en) Semi-conductor devices
US9812376B2 (en) Electrically conductive element, power semiconductor device having an electrically conductive element and method of manufacturing a power semiconductor device
DE1564534B2 (de) Transistor
US2865794A (en) Semi-conductor device with telluride containing ohmic contact and method of forming the same
US3280392A (en) Electronic semiconductor device of the four-layer junction type
US20100314599A1 (en) Chalcogenide film and method of manufacturing same
US2867899A (en) Method of soldering germanium diodes
US3877061A (en) Semiconductor component with mixed aluminum silver electrode
US2959718A (en) Rectifier assembly
US2874340A (en) Rectifying contact
US6159846A (en) Method of metallization in semiconductor devices
US3086892A (en) Semiconductor devices and method of making same