Opublikowano dnia 26 czerwca 1959 r. £ 1311 * MA iS9l [BIBLlbTEKfl \JQ Urzedu Palenl owego flttlll toCHH8HHIIJLll POLSKIEJ RZECZYPOSPOLITEJ LUDOWEJ OPIS PATENTOWY Nr 41999 KI. 21 g, 29/30 Mgr inz. Wieslain W olinski Warszawa, Polska Sposób wytwarzania fotokatod o zlozonych powierzchniach foloczulych Patent trwa od dnia 9 sierpnia 1958 r.Wynalazek dotyczy nowego sposobu wytwa¬ rzania fotokatod o zlozonych powierzchniach fotoczulych. Dotychczas fotokatody np. anty- monowo-cezowe wykonywane sa nizej poda¬ nym sposobem.Na stanowisko pompowe nalutowuje sie zmontowana lampe, w której ma byc wytwo¬ rzona fotokatoda, odpompowuje sie do cisnie¬ nia p ^ 10-5 Tr i wygrzewa piecem gazowym lub elektrycznym. Temperatura wygrzewania zalezy od gatunku szkla. Po ostudzeniu lampy i wstepnym odgazowaniu ladunku antymonu, napyla sie antymon na specjalnie umieszczona wewnatrz lampy elektrode lub wewnetrzna po¬ wierzchnie banki. Z kolei nastepuje proces for¬ mowania fotokatody, polegajacy na dostarcza¬ niu do lampy metalicznego cezu. Zródlem cezu moze byc ampulka z cezem lub ladunek za¬ wierajacy mieszanine, np. dwuchromianu Cezu i krzemu jaJ$la,.-fi#odkEl 'redukujacego. Ampulka --^ eezem, jak i ladunek z mieszanina^^moga byc umieszczone wewnatrz lampy^-WlD w osob¬ nej bance, polacjp^ bezposrednio z lampa.Ze wzgledu na skomplikowany sposób dostar¬ czania odpowiedniej ilosci cezu do fotokatody i ustalania wlasciwych temperatur dla poszcze¬ gólnych faz formowania, proces formowania praco- i czasochlonny musi byc przeprowadzony indywidualnie dla kazdej lampy. Po uformo¬ waniu fotokatody (optymalna charakterystyka widmowa) odtapia sie osobna banke, a nastep¬ nie lampe ze stanowiska pompowego.Wynalazek polega na calkowitym usunieciu skomplikowanego i czasochlonnego procesu for¬ mowania fotokatody przez wprowadzenie no¬ wej technologii, polegajacej na równoczesnym pyleniu skladników, wchodzacych w sklad war¬ stwy fotoczulej.W celu wykonania fotokatody nowym spo-_¦ sobem umieszcza sie w. ba^ee-laj|l^4alJunek lub. ladunki, z"awieraja^e-fl^a^cfniki, które wy¬ tworza war^twe-^fofoczula. Na przyklad dla ^pjtok^tc^cTantymonowo-cezowych ladunek skla¬ da sie z mieszaniny antymonu, dwuchromianu cezu i krzemu. Ogólny ciezar ladunku oraz sklad procentowy mieszaniny dobiera sie/w za-leznosci od zadanej powierzchni i charaktery¬ styki widmowej fotokatody. Po nalutowaniu lampy na stanowisko pompowe, odpompowa- niu i wygrzaniu rozpyla sie ladunek lub la¬ dunki i otrzymuje napylona warstwe fotoczula.Otrzymane w ten sposób warstwy fotoczule odznaczaja sie malym rozrzutem parametrów elektrycznych oraz duza czuloscia. W przypad¬ ku fotokatod antymonowo-cezowych czulosc wynosi okolo 50 |nA/Lm. Nowy sposób wyko¬ nywania fotokatod umozliwia ich produkcje na automatach pompowych. PLPublished on June 26, 1959. £ 1311 * MA iS9l [BIBLlbTEKfl \ JQ of the Palenl Office flttlll toCHH8HHIIJLll POLISH PEOPLE'S REPUBLIC PATENT DESCRIPTION No. 41999 KI. 21 g, 29/30 Mgr inz. Wieslain W olinski Warsaw, Poland Method of producing photocathodes with complex photocathode surfaces The patent is valid from August 9, 1958. The invention concerns a new method of producing photocathodes with complex photosensitive surfaces. So far, for example, anti-mono-cesium photocathodes are made in the following manner: The assembled lamp is soldered to the pump station, in which the photocathode is to be produced, pumped down to a pressure of p> 10-5 Torr and heated with a gas furnace or electric. The annealing temperature depends on the type of glass. After cooling down the lamp and initial degassing of the antimony charge, the antimony is sprayed on a specially placed electrode inside the lamp or on the inner surface of the bank. Next, the process of forming the photocathode takes place by supplying metallic cesium to the lamp. The source of cesium may be a cesium ampoule or a charge containing a mixture of, for example, cesium dichromate and silicon, and a reducing agent. The ampule - ^ eezem and the charge with the mixture ^ ^ can be placed inside the lamp ^ -WLD in a separate tube, directly connected to the lamp. Due to the complicated way of supplying the appropriate amount of cesium to the photocathode and determining the appropriate temperatures for the various phases of forming, the labor-intensive and time-consuming forming process must be carried out individually for each lamp. After the formation of the photocathode (optimal spectral characteristics), a separate bank is melted, and then the lamp from the pumping station. in the photosensitive layer. In order to make the photocathode, a new method is placed in a row or. the charges that contain "tephosphates" which form the tephosphate layer. For example, for tantimmonium-cesium the charge consists of a mixture of antimony, cesium dichromate, and silicon. The total weight of the charge and the percentage composition of the mixture are selected depending on the desired surface area and spectral characteristics of the photocathode. After the lamp is soldered to the pump station, pumped out and heated, the charge or loads are sprayed and a sprayed layer of photosensitivity is obtained. In this way, the photosensitive layers are characterized by a low dispersion of electrical parameters and high sensitivity. In the case of antimony-cesium photocathodes, the sensitivity is about 50 µA / Lm. The new method of making photocathodes enables their production on automatic pumping machines. EN