Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mucha Sylwia Pphu ElektronfiledCriticalMucha Sylwia Pphu Elektron
Priority to PL408953ApriorityCriticalpatent/PL408953A1/pl
Publication of PL408953A1publicationCriticalpatent/PL408953A1/pl
Sposób niskotemperaturowej obróbki materiałów stałych, w którym tworzy się trwałe struktury nierównowagowe na powierzchni i w głębi materiału, znamienny tym, że obrabiany materiał poddaje się działaniu niskotemperaturowej plazmy wyładowania jarzeniowego o gęstości elektronowej w zakresie od 109[cm-3] do 1015[cm-3], temperaturze cząstek ciężkich obojętnych elektrycznie w zakresie od 50[°C] do 1500[°C], oraz energii elektronów w zakresie od 0,5[eV] do 1000[eV] w czasie od 1 [s] do 20 [h].
PL408953A2014-07-252014-07-25Sposób niskotemperaturowej obróbki materiałów stałych
PL408953A1
(pl)
A method for modifying the structure of materials by means of a glow discharge and a device for modifying the structure of materials by means of a glow discharge
A method for modifying the structure of materials by means of a glow discharge and a device for modifying the structure of materials by means of a glow discharge