PL3907B1 - Sposób i urzadzenie do odparowywania lotnych skladników roztworów, emulsyj i zawiesin. - Google Patents

Description

Przedmiotem niniejszego wynalazku jest sposób, który nalezy do pierwsizej z wymie¬ nionych grup, lecz w swojem dalszem prze¬ ksztalceniu laczy metody obu grup, wyzy¬ skujac ich wspólne zalety. Sposób podlug wynalazku wykazuje zatem nalstepujace za¬ lety, mianowicie warstwa srodka odparo- wywujacego, zachowujac nadana sobie po¬ stac i kierunek ruchu, wchodzi w zetkniecie z przerabiana ciecza zaraz po jej wyjsciu z rozpylacza i styka sie z nia na calej drodze przelotu i spadku, tak, ze krótki czas prze¬ lotu jest calkowicie wyzyskany dla odpa¬ rowywania cieczy; poza tern, srodek odpa- rowywujacy dziala w przeciwpradzie, przy- czem stykanie sie i wzajemne przenikanie czastek jest bardzo doklaidne i dlugotrwale, tak, ze wyzyskanie srodka odpajrowywuja- cego jest calkowite.Korzysci te osiaga sie wskutek tego, ze ciecz rozpyla sie bardzo drobno pod dzia¬ laniem cisnienia oraz sily odsrodkowej, a wychodzac z pewnego punktu rozposciera sie pozioma warstwe w przestrzeni parowaJ- nia o kolowej lub wielobocznej podstawie.Pod te warstwe wprowadza sie w jednem lub w kilku miejscach srodek odparowywu- jacy i wyprowadza sie go ponad strefa roz¬ pylania w ten sposób, ze tworzy wirujaca warstwe, zajmujaca caly przekrój prze¬ strzeni parowania i unoszaca rozpylona ciecz, tak, ze czastki cieczy i srodka odpa- rowywujacego stykaja sie ze soba na calej drodze przelotu i spadku, przyczem droga ta jest dluga i kreta, co umozliwia osia¬ gniecie zadanego stopnia odparowywania lotnych skladników z przerabianej cieczy.Rysunek uwidacznial schematycznie przyklad wykonania urzadzenia db przepro¬ wadzenia nowego siposobu.Fig. 1 jest pionowym przekrojem, a fig. 2 — widokiem zgóry po zdjeciu nakrywy. 1 oznacza cylindryczna przestrzen osu^ szania, wzglednie parowania, W której znaj¬ duje sie cylindryczna wstawka 2, która w górnej czesci posiada urzadzenie db rozpy¬ lania, np. odrzutnice 3, zasilana ciecza z ru¬ ry 4. Pod warstwa rozpylonej cieczy miedzy plaszczem komory 1 i wstawka 2 znajduje sie pierscieniowa przestrzen. Do tej prze¬ strzeni wprowadza sie srodek, powodujacy parowanie, np, gorace powietrze, za/pomoca kanalów 5, których osie przebiegaja wfcpól- srodkowo wzgledem pierscieniowe\ prze¬ strzeni. Szczeliny wlotowe 6 sa poziome lub nieco pochylone wgóre, wiec latwo zrozu¬ miec, ze prad goracego powietrza bedzie sie wznosil w pierscieniowej przestrzeni sru¬ bowo wgóre i wypelni caly poziomy prze¬ krój przestrzeni parowania. Srodek odparo- wywujacy odprowadza sie kanalem 7.Zasadnicza czescia niniejszego wynalaz¬ ku jest dalsze przeprowadzenie nowej me¬ tody, która stara sie zjednoczyc zalety obu sposobów odparowywania. Osiaga sie to w ten siposób, ze srodek odiparowywujacy do¬ prowadza sie dwojako, mianowicie, mniej¬ sza'jego czesc wchodzi równolegle i w zgod- — 2 .—nym kierunku pradów do wairstwy rozpylo¬ nej cieczy, aby mogla wplywac regulujaco i pomocniczo na jej rozposcieracie sie oraz wspóldzialac przy parowaniu, podczas gdy wieksza czesc srodka odparowywujacego przenika warstwe rozpylonej cieczy od do¬ lu. Uzywa sie zatem dwóch róznie skiero¬ wanych pradów srodka odparowywtijacego.Odbywa sie to w ten sposób, ze odrzut- nica, umieszczona w srodku lub blisko srod¬ ka kolowej lub wfelobocznej komory paro¬ wania, rozpyla ciecz na wszystkie strony w poziomej prawie warstwie, naitomialst z miejsca lezacego nieco nizej odl poprzednie¬ go rozpylacza wprowadza mala czesc srod¬ ka odparowywtijacego i rozposciera go rów¬ niez na wszystkie strony w plaszczyznie mozliwie równoleglej do utworzonej war¬ stwy cieczy. Mala czesc srodka odparowy¬ wtijacego rozposciera sie celowo ponad war¬ stwa rozpylonej cieczy, która w ten sposób dostaje sie pomiedzy dwie równolegle war¬ stwy srodka odparowywuJjacego. Wreszcie trzecia, najwieksza czesc srodka odparo- wywujacego wprowadza sie do komory pa¬ rowania zdolu, przyczem najlepszy sposób wprowadzania tej czesci srodka czynnego jest taki, ze wchodzi on pod równolegle warstwy rozpylonej cieczy i powietrza!, wy- peflnia caly przekrój komory parowania i wznosi sie wgóre srubowo wijaca sie war¬ stwa oraz w przeclwpradzse wzgledem war¬ stwy rozpylonej cieczy, a kiedy ja przenik¬ nie, to opuszcza przestrzen parowania góra.Zalety tej metody sa nastepujace: te czastki srodka odparowywujacego, które wchodza w warstwy równolegle stykalja sie natychmiast z czastkami cieczy i zapewnia¬ ja ich równomierne rozposcieranie sie, zapo¬ biegajac tworzeniu sie wirów i powodujac czesciowo parowanie; równolegle prady roz¬ pylonej cieczy i srodka czynnego sa tez przyczyna, ze poszczególne czastki cieczy, które opuszcza przepisana droge wracaja do niej zpowrotem pod dzialaniem srodka czynnego; równomierne rozposcieranie sie rozpylonej cieczy zapobiega równiez lacze¬ niu sie mniejszych czastek w wieksze kro¬ ple, co mialoby miejsce, gdyby mogly po¬ wstawac wiry i gdyby czastki nierównej wielkosci mialy rózne kierunki predkosci; równomierne rozposcieranie sie rozpylonej cieczy ulatwia parowaniei przenikanie srod¬ ka czynnego, doprowadzanego przeciwpra- dem zdolu; oprócz tego ogólny rozklad srodka odlparowywujacego jest taki, ze war¬ stwa rozpylonej cieczy opiera sie na jego warstwie, majac taka sile nosna, ze niema obawy, aby warstwa cieczy mogla sie prze¬ rwac.Wprowadzanie wiekszej czesci srodka czynnego od dblu i przeciw pradowi war¬ stwy rozpylonej cieczy mozna rozmaicie u- skutecznic. Mozna np. zastosowac wkladke wiezowa, umieszczona w srodku, tak, ze srodek czynny, wychodzac z niej energicz- iiie, uderza pod katem prostym w warstwe rozpylonej cieczy i przenika ja w calej roz¬ ciagliwosci. Srodek czynny, obciazony pa¬ rami lotnych skladników przerabianej cie¬ czy, odprowadza sie w górnej czesci komo¬ ry parowania. Na dolaczonych rysunkach przedstawiono przyklady wykonania obu opisanych odmian wynalazku.Na fig. 3 przedstawiono pionowy, a na fig. 4 poziomy przekrój wypamika, w któ¬ rym wieksza czesc srodka odlparowywuja¬ cego wznosi sie z wirujacemi warstwami, które wypelniaja caly poziomy przekrój ko¬ mory parowania* Cylindryczna komora pa¬ rowania 8 posiada plaszcz 9 i podstawe 10.Na srodku podstawy 10 znajduje sie wie¬ zyczka 11 dzwigajaca odrzutnice 12, która rozpyla ciecz na wszystkie strony. Ciecz te doprowadza sie przez lejek 13 i rure 14.Mniejsza czesc srodka odparowywtijacego, który ma sie rozposcierac równolegle do poziomej warstwy rozpylonej cieczy, dopro¬ wadza sie pierscieniowemi szczelinami 15 i 16 do komory parowania. Do dolnej szcze¬ liny 15 dostaje sie srodek czynny przez wie¬ zyczke 11, a do szczeliny 16 rura 17. Kanal — 3 —18 odprowadza srodek czynny, obciazony paranri lotnych skladkiików obrabianej cie¬ czy. Glówna czesc srodka czynnego dopro¬ wadza sie plaskiemi przewodami 19 z szcze- linowemj wylotami 20. Latwo zrozumiec, ze wskutek takiego doprowadzania srodka czynnego, zmusza go sie do wplywania war¬ stwami wypelniajacemi poziomy przekrój komory parowania* której cylindryczny ksztalt zmusza srodek czynny do wznosze¬ nia sie do wylotu 18 ruchem krajzacym.Strzalki, umieszczone na fig. 4, uwidoczniaja kierunki ruchu róznych partyj srodka czyn¬ nego. Strzalki przy 15 i 16 oznaczaja kieru¬ nek pradu rozpylonej cieczy i równoleglych pradów malej ilosci srodka czynnego. Wi¬ dac stad, ze kierunek ten zmusza rozpylona ciecz do spotykania sie pod prostym katem z krazacemu, warstwami glównej czesci srod¬ ka odparowywujacego. Fig. 5 przedstawia pionowy przekrój urzadzenia, w którem glówna czesc srodka odparowywujacego u- chodzi z czesci doprowadzajacej, umie¬ szczonej w srodku, i przeplywa przez ko¬ more parowania w taki sposób, ze w kazdem miejscu uderza i przenika warstwe rozpylo¬ nej cieczy od dolu pod katem prostym.Urzadzenie komory parowania, uklad odrzutnicy, doprowadzenie mniejszej czesci srodka od^arowywujacego i jego odprowa¬ dzanie po zuzyciu, odbywa sie scisle tak sa¬ mo jak w urzadzeniach podlug fig. 3 i 4.Glówna czesc srodka czynnego wchodzi do komory parowania otworami, które sa rozimesaezone wokolo wstawki 11. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób odparowywania lotnych skladników roztworów, emulsyj, zawiesin zapomoea g&zowego srodka odparowywuja¬ cego w ten sposób), ze przerabiana ciecz wprowadza sie przez rozpylacz, umieszczo¬ ny w samym srodku lub w jego bliskosci, do komory parowania o kolowej lub wielo- bocznej podstawie, gdzie ciecz rozpyla sie na wszystkie strony w kierunku poziomym lub prawie poziomym, znamienny tern, ze gazowy srodek odparowywujacy wchodzi warstwa wypelniajaca, w zasadzie, caly po¬ ziomy przekrój komory •parowatnia i wznosi sie, krazac po linji srubowej oraz przenika¬ jac w przeciwpradzie warstwe rozpylonej cieczy obrabianej, poczem ponad warstwa uchodzi z komory parowania. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tern, ze plynny materjal rozposciera sie w jednej poziomej warstwie, lezacej pod, po¬ nad lub pomiedzy dwoma równoleglemi warstwami mniejszej czesci srodka odparo- wywujaceigo, podczas gdy wieksza czesc u- zytego srodka odparowywujaceigo jest do¬ prowadzana do rozpylonej cieczy od dolu i przenika ja. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2 zna¬ mienny tern, ze przerabiana ciecz rozposcie¬ ra sie pod ailbo pomad jedna tylko warstwe, lub pomiedzy dwoma równoleglemi war¬ stwami mniejszej czesci srodka odparowy- wujaoego, podczas gdy wieksza jego czesc wchodzi i Wznosi sie ku rozpylonej cieczy krazacemi warslwaJJni oraz przenika ja przeciwpradem. 4. Sposób odparowywania lotnych skladników roztworów, emulsyj i zawiesin, wedlug zastrz. 1 i 2, znamienny tern, ze przerabiana ciecz rozpyla sie zapomoea od¬ rzutnicy na wszystkie strony, w poziomej lub prawie poziomej warstwie, rozposciera¬ jac ja pod lub ponad jedna warstwa, albo pomiedzy dwoma równoleglemi warstwami mniejszej czesci srodka odparowywujacego, podczas gdy wieksza czesc ulzyteigo srodka odparowywujacego wprowadza sie do ko¬ mory parowania od dolu i w ten sposób, ze ten dochodzi do warstwy rozpylonej cieczy najkrótsza droiga i przechodzi przez nia pod katem prostym, 5. Urzadzenie do przeprowadzenia sposobu wedlug zastrz. lif. znamienne tern, ze szczelinowe kanaly doprowadzajace sro¬ dek odparowywujacy wchodza w ten spo- — 4 —sób do komory parowania, ze ich osie prze¬ biegaja koncentrycznie wzgledem podstawy komory i sa skierowane najlepiej wgóre. 6. Urzadzenie do przeprowadzen^ sposobu wedlug zastrz, 1, 2 i 3, znamienne tern, ze w srodku dolnej czesci komory pa¬ rowania znajduje sie wiezowa wstawka, dzwigajaca odrzutnice i posiadajaca pod odrzutnica pierscieniowa szczeline do po¬ ziomego rozposcierania mniej sizej czesci srodka edparowywujacego, podczas gdy z górnego zamkniecia komory parowania wchodzi w tym samym celu rura, zaopa¬ trzona równiez w pierscieniowy otwór wy¬ lotowy, lezacy blisko ponad odrzutnica, na¬ tomiast do wprowadzania wiekszej czesci srodka odparowujacego sluza dwa plaskie kanaly, skierowane nieco wgóre i zaopa¬ trzone w szczeliny wylotowe, podczas gdy przerabiana ciecz wprowadza sie do odrzut- nicy zgóry zapomoca rury, a zuzyty srodek odparowywujacy odplywa z komory paro¬ wania przez otwór w górnem jej zamknieciu. 7. Urzadzenie do przeprowadzenia sposobu wedlulg zastrz. 1, 2 i 4, znamienne, tern, ze w srodku dolnej czesci komory pa¬ rowania znajdlije sie wiezowa wstawka, dzwigajaca odrzutnice i zaopatrzona pod odrzutnica czesciowo w otwory wylotowe, wprowadzajace srodek odparowywujacy do warstwy rozpylonej cieczy od dolu i pod katem, a czesciowo w otwory wylotowe, roz¬ poscierajace srodek odparowywujacy war¬ stwa równolegla i lezaca ponizej warstwy rozpylonej cieczy, natomiast do doprowar dzania malej czesci srodka odparowywuja- cego i rozposcierania go w pozioma war¬ stwe ponad warstwa rozpylonej cieczy slu¬ zy rura, zaopatrzona w stosownie skierowa¬ ny wylot i lezaca dokladnie lub w przybli¬ zeniu w miejscu osi komory parowania. Rappold & Volk Aktiengesellschaft. Zastepca: M. Kryzan, rzecznik patentowy.Do opisu patentowego Nr 3907. Ark. i. /£*•-? -rDo opisu patentowego Nr 3907. Ark.
2. 2. Druk L. Boguslawskiego, Warszawa. PL