PL30960B1 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
PL30960B1
PL30960B1 PL30960A PL3096039A PL30960B1 PL 30960 B1 PL30960 B1 PL 30960B1 PL 30960 A PL30960 A PL 30960A PL 3096039 A PL3096039 A PL 3096039A PL 30960 B1 PL30960 B1 PL 30960B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plate
planes
tile according
plane
setting
Prior art date
Application number
PL30960A
Other languages
English (en)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of PL30960B1 publication Critical patent/PL30960B1/pl

Links

Description

Wynalazek dotyczy plytki pomiarowej lub nastawczej do przyrzadów optycznych.Wynalazek ma na celu osiagniecie na¬ stawienia calkowicie ostrego obrazu w przyrzadach optycznych, np. fotograficz¬ nych lub kinematograficznych aparatach do zdjec i aparatach projekcyjnych, apa¬ ratach wytwarzajacych widmo, epidiasko¬ pach, mikroskopach, odleglosciomierzach lub przyrzadach podobnych.Wynalazek niniejszy moze miec zasto¬ sowanie we wszystkich przyrzadach optycz¬ nych, w których chodzi o dokladne usta¬ lenie plaszczyzny rzeczywistego obrazu, który moze byc takze obrazem posrednim.Wynalazek polega na tym, ze plytke, na której tworzy sie obraz przynajmniej w dwóch plaszczyznach, umieszcza sie w takim polozeniu na drodze promieni, ze plaszczyzna najwiekszej ostrosci, miano¬ wicie plaszczyzna nastawcza, znajduje sie miedzy plaszczyznami obrazów.W aparatach projekcyjnych urzadze¬ nie wedlug wynalazku jest wykonane tak, ze plaszczyzny plytki nastawczej zawiera¬ ja miedzy soba plaszczyzne przedmiotu rzutowanego.Plytka pomiarowa i nastawcza jest jako taka wykonana w ten sposób, ze po¬ siada dwie plaszczyzny równolegle, po¬ dzielone w na przemian matowane, rastro- wane pola lub w odpowiednio rozmiesz¬ czone obrazy czesciowe, których linie po¬ dzialowe moga byc szczególnie zazna¬ czone.Pola siatkowe lub rastrowane moga bycna dwóch powierzchniach plytki pomiaro¬ wej wykonane tak, iz sie nieznacznie po¬ krywaja. Plytki pomiarowe, stosowane do soczewek o malej dlugosci ogniskowej, sa stosunkowo bardzo cienkie, Jest wiec bar¬ dzo trudno wytworzyc takie plytki mato¬ wane z dwóch stron. Wynalazek usuwa takze i te trudnosc, gdyz plytka pomiaro¬ wa jest wykonana jako plytka dwudzielna, skladajaca sie z dwóch plytek równoleg¬ lych, przy czym powierzchnie matowe sa zwrócone ku sobie, dzieki czemu plasz¬ czyzna nastawcza znajduje sie w prze¬ strzeni miedzy tymi dwiema powierzchnia¬ mi matowymi. W celu przystosowywania plytki do ukladów optycznych o róznej dlugosci ogniskowej odstep tych dwóch powierzchni plytek moze byc nastawny.Matowanie plytki wzglednie czesci tej¬ ze moze byc przeprowadzane w dowolny sposób odpowiedni, np. przez wytrawianie, szlifowanie, nadmuchiwanie piaskiem kwar¬ cowym, szmerglem lub w inny sposób. Ma¬ towanie moze byc w dwóch plaszczyznach rózne. Mozna równiez nakladac matowe powierzchnie z odpowiednich emulsji. Moz¬ na równiez stosowac przezroczyste zywice sztuczne i szkla o dzialaniu filtrujacym, Rysunek przedstawia przyklady wyko¬ nania przedmiotu wynalazku. Fig. 1 wy¬ jasnia umieszczenie plytki nastawczej na linii przebiegu promieni ukladu optyczne¬ go, fig. 2 przedstawia te plytke w widoku z przodu, fig. 3 — te sama plytke w prze¬ kroju poprzecznym wzdluz linii A — B na fig. 2, fig. 4 — umieszczenie plytki na¬ stawczej na linii przebiegu promieni apa¬ ratu projekcyjnego, fig. 5 — odmiane plytki pomiarowej wedlug wynalazku, w widoku z przodu, fig. 6 — dalsza odmia¬ ne takiej plytki, fig. 7 — jeszcze inna od¬ miane w wTidoku z przodu, fig. 8 — plyt¬ ke w przekroju poprzecznym wzdluz linii IV — IV na fig. 5, fig. 9 — zestaw skla¬ dajacy sie z dwóch równoleglych plytek w stanie rozsunietym, w przekroju po¬ przecznym, fig. 10 — plytke obiektywowa w widoku perspektywicznym, a fig. 11 i 12 — odmiane plytki nastawczej w wi¬ doku i przekroju poprzecznym.Na fig. 1 litera a oznacza przedmiot rzutowany, b — dowolny uklad optyczny, c — jeden z glównych promieni wiazki promieni, d zas — plytke wedlug wyna¬ lazku niniejszego. Litera e oznacza odleg¬ losc ukladu optycznego od obrazu. Jest rzecza jasna, ze gdyby plytka d znajdowa¬ la sie jedna ze swych powierzchni doklad¬ nie w plaszczyznie nastawczej E, E, otrzy¬ mano by zupelnie ostry obraz przedmiotu odtwarzanego. Takie nastawianie jest jed¬ nakze zawsze bardzo trudne, gdyz oko ludzkie nie posiada w dostatecznym stop¬ niu moznosci spostrzegania róznych ostro¬ sci obrazów czasowo kolejno obserwowa¬ nych. Wedlug wynalazku stosuje sie wiec na plytce nastawczej d dwie plaszczyzny pomiarowe m, n, które sa malo oddalone od siebie (fig. 3). Na tych plaszczyznach m, n powstaja wiec obrazy przedmiotu a, które, poniewaz nie znajduja sie dokladnie w plaszczyznie E, E, nie wystepuja ostro.Mozna jednak uklad optyczny b nastawic tak, iz obrazy na plaszczyznach m, n po¬ siadaja jednakowa nieostrosc, dzieki cze¬ mu mozna okreslic dokladnie polozenie plaszczyzny E, E, wskutek czego przy od¬ powiednim ustaleniu warstwy swiatloczu¬ lej otrzyma sie obraz o najlepszej ostrosci.Plaszczyzna nastawcza tego najostrzejsze¬ go obrazu rzeczywistego znajduje sie wiec miedzy plaszczyznami m, n.Plytka nastawcza jest, w celu umoz¬ liwienia równomiernego porównywania ostrosci obrazów na plaszczyznach m, n, wykonana w ten sposób, ze posiada na przemian matowane, w postaci rastrów wy¬ konane pola lub odpowiednio rozmieszczo¬ ne obrazy czesciowe, których linie prze¬ dzialowe sa szczególnie zaznaczone. Takie wykonanie jest opisane szczególowiej w zwiazku z przykladami wedlug fig. 5 — 10. — 2 —Z figur tych wynika, ze plytki pomiaro¬ we lub nastawcze posiadaja rastrowe lub siatkowe plaszczyzny matowe m, n, wyko¬ nane na przemian na przedniej i tylnej stronie plytki. Wykonanie powierzchni ra¬ strowych jest dowolne. Moga one byc tas¬ mowe, krzyzujace sie lub wspólsrodkowe.Przyklad wykonania wedlug tej ostatniej odmiany jest uwidoczniony na fig. 7.Skuteczne jest, gdy poszczególne po¬ równawcze plaszczyzny rastrowe m, n wzajemnie sie pokrywaja do pewnego stop¬ nia, wskutek czego na przezroczu powsta¬ je obraz optyczny linii przedzialowej.W przykladzie wykonania wedlug fig. 9 pokrywanie sie to jest zaznaczone liniami tj. Oczywiscie mozna linie przedzialowe od¬ dzielnie nakladac na plytki.Na fig. 4 uwidocznione jest zastosowa¬ nie plytki nastawczej. wedlug wynalazku.W aparatach projekcyjnych. Na tej figurze litera o oznacza zródlo swiatla, np. lampe lukowa, litera b skupiajacy uklad optycz¬ ny, litera k —. obiektyw, litera zas / — ekran. Jeden z promieni glównych jest oznaczony litera c.Gdy plytka, nastawcza ma byc uzyta w ukladzie optycznym jako przedmiot, umieszcza sie zamiast powierzchni rastro¬ wych, wykonanych na przemian na dwóch plaszczyznach, obrazy czesciowe lub inne wzory, jak to uwidoczniono na fig. 10.Plytka d (fig. 4) zostaje tak umieszczo¬ na w plaszczyznie przedmiotu lub blisko niej na drodze promieni, ze plaszczyzna E, E o najlepszej ostrosci znajduje sie mie¬ dzy obrazami, czesciowo na plytce na¬ stawczej (fig. 10). Na ekranie / odtworzo¬ ne zostaja odbicia z obrazów czesciowych, które sa nieostre. Gdy po odpowiednim nastawieniu plytki d wszystkie obrazy cze¬ sciowe na ekranie maja jednakowa nie¬ ostrosc, wtedy ustalona jest odpowiednia plaszczyzna nastawienia E, E o najlepszej ostrosci. W plaszczyzne te wprowadza sie nastepnie obiekt odtwarzany, diapozytyw, film lub podobny przedmiot, aby obraz na ekranie /posiadal jak najlepsza ostrosc.Przy malych odleglosciach ogniskowych powstaje koniecznosc stosowania dosc cien- kieh plytek. Na takich plytkach nie mozna w zwykly sposób wykonac matowych po¬ wierzchni z dwóch stron, gdyz powstaje niebezpieczenstwo ich pekniecia. Wedlug wynalazku wykonuje sie w takich przypad¬ kach plytke z dwóch czesci (fig. 9), czyli rozdziela plytke wlasciwie na dwie war* stwy. Powierzchnie rastrowe moga byc wte¬ dy wykonane bez trudnosci jednostronnie.Przy ukladaniu powierzchni rastrowych, zwróconych ku sobie (fig. 9), powstaje od¬ step miedzy powierzchniami, odpowiada¬ jacy szerokosci szczeliny powietrznej h miedzy nimi. W tej szczelinie znajduje sie plaszczyzna, w która pózniej wprowadza sie np. warstwe swiatloczula, w celu osiag¬ niecia obrazu o najwiekszej ostrosci. Taka budowa umozliwia przystosowywanie plyt¬ ki nastawczej do ukladów optycznych o róznych odleglosciach ogniskowych.Wedlug innej odmiany wynalazku moz¬ na na plytce nastawczej zastosowac dal¬ sza wzglednie dalsze powierzchnie, znaj¬ dujace sie miedzy jej zewnetrzna wzgled¬ nie zewnetrznymi powierzchniami. Taki przyklad wykonania jest uwidoczniony na fig. 11 i 12. Dwie skitowane plytki szklane o jednakowej grubosci sa zaopatrzone w przestawione wzgledem siebie jmatowane powierzchnie czesciowe m, n, podobnie jak matowane powierzchnie na fig. 8. Plytki te maja rózny ksztalt, wobec czego po¬ wstaja na wiekszej plytce p górna i dolna powierzchnie r, które najlepiej sa takze zmatowane. Powierzchnie r, wykonane "w ten sposób, znajduja sie w plaszczyznie o najwiekszej ostrosci, w która wprowadza sie, np. w aparatach fotograficznych, war¬ stwe swiatloczula po ukonczeniu nastawia¬ nia ukladu optycznego i usunieciu plytki nastawczej. Gdy powierzchnie r sa takze matowe, ulatwiaja one wstepne nastawia-¦ — 3 —nie ukladu optycznego. W tym celu nasta¬ wia sie uklad optyczny poczatkowo w ten sposób, ze najpierw ustala sie przyblizo¬ na ostrosc na powierzchniach r, natomiast ostateczne nastawienie ostrosci uskutecz¬ nia sie przez porównywanie ostrosci po¬ wierzchni m, n.Oczywiscie podobne urzadzenia, jak uwidocznione na fig. lii 12, moga byc za¬ stosowane takze w aparatach kinematogra¬ ficznych. W tym przypadku zastepuje sie matowe powierzchnie m, n obrazami prze¬ zroczystymi.Powierzchnie matowe moga byc wyko¬ nane w kazdy odpowiedni sposób, np. przez wytrawianie albo przez nakladanie odpo¬ wiedniej emulsji matujacej. Do wyrobu plytek nastawczych mozna równiez stoso¬ wac przezroczyste zywice sztuczne lub szkla o dzialaniu filtrujacym.Poniewaz przy zastosowaniu dwóch równoleglych powierzchni matowych po¬ wstaja rózne zalamania, moze powstac po¬ trzeba poprawiania ich. Wedlug wynalaz¬ ku osiaga sie to w ten sposób, ze powierzch¬ niom matowym nadaje sie rózna budowe, np. rózna ziarnistosc, albo przy stosowa¬ niu emulsji -— rózna wielkosc ziarn srebra lub gradacje, dzieki czemu zapewnione jest osiagniecie obrazu beznagannego.Plytki popiiarowe lub nastawcze we¬ dlug wynalazku niniejszego moga byc sto¬ sowane w tych przypadkach, w których w przyrzadach optycztnych pozadane jest na¬ stawianie ostrosci obrazu rzeczywistego.Plytka nastawcza wedlug wynalazku moze byc zastosowana w dowolnych przy¬ rzadach optycznych. W przestrzeni przed* okularem taki uklad moze byc z dobrym skutkiem uzyty do mierzenia odleglosci.Równiez w aparatach kinematograficznych mozna za pomoca plytki nastawczej osia¬ gnac pokrywanie sie plaszczyzny ekranu z plaszczyzna obrazu o najwiekszej ostrosci. PL

Claims (9)

  1. Zastrzezenia patentowe. 1. Plytka pomiarowa lub nastawcza do przyrzadów optycznych, znamienna tym, ze posiada w dwóch równoleglych plasz¬ czyznach podzielone, na przemian mato¬ wane powierzchnie rastrowe.
  2. 2. Odmiana plytki wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze posiada w dwóch rów¬ noleglych plaszczyznach odpowiednio roz¬ mieszczone obrazy czesciowe, których brzegi sa szczególnie zaznaczone.
  3. 3. Plytka wedlug zastrz. 1, znamien¬ na tym, ze linie brzegowe powierzchni siat¬ kowych lub rastrowych pokrywaja sie na waskim pasku.
  4. 4. Plytka wedlug zastrz. 1 i 3, zna¬ mienna tym, ze sklada sie z dwóch plytek równoleglych, z których kazda posiada ra¬ strowa powierzchnie matowa, przy czym te matowe powierzchnie sa wykonane na przemian.
  5. 5. Plytka wedlug zastrz. 4, znamien¬ na tym, ze powierzchnie matowe sa skie¬ rowane ku sobie.
  6. 6. Plytka wedlug zastrz. 4 i 5, zna¬ mienna tym, ze odstep miedzy czesciami plytki jest nastawny.
  7. 7. Plytka wedlug zastrz, 1 — 6, zna¬ mienna tym, ze powierzchnie matowe w dwóch plaszczyznach maja rózna budowe.
  8. 8. Plytka wedlug zastrz. 4 — 7, zna¬ mienna tym, ze dwie czesci plytki maja rózna wielkosc i jedna z nich jest zaopa¬ trzona w dodatkowa powierzchnie nastaw¬ cza frj, znajdujaca sie w plaszczyznie naj¬ wiekszej ostrosci.
  9. 9. Plytka wedlug zastrz. 1 — 8, zna¬ mienna tym, ze jest wykonana ze szkla o dzialaniu filtrujacym. Joseph Dahl Zastepca: inz. F. Winnicki rzecznik patentowy Staatsdruckerei Warschau — Nr. 10884-42.'Do opisu patentowego Nr 30960 £ Fz9.7J £$12 m Fz PL
PL30960A 1939-02-25 PL30960B1 (pl)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL30960B1 true PL30960B1 (pl) 1942-10-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2991693A (en) Front projection screen
US1577388A (en) Projection apparatus
US1762932A (en) Projection system for color pictures
TWI669181B (zh) 光束塑形遮罩、雷射加工裝置及雷射加工方法
US3674339A (en) Stereoscopic photograph system using a stereoscopic attachment to a camera
US1651574A (en) Optical projection
US1749278A (en) Optical system for use in photographic color processes
US1972019A (en) Optical objective system
PL30960B1 (pl)
GB421120A (en) Method and apparatus for the production of motion pictures
US2204049A (en) Method for the production of images which are geometrically equivalent, applicable to photography and to cinematography
US3232166A (en) Method of and apparatus for projecting light images
US3366438A (en) Method of photography and apparatus to carry out the method
US2157099A (en) Optical system for stereoscopic motion picture production and projection
US1509936A (en) Device for producing duplicate images on photographic films
US1531693A (en) Method and apparatus for producing novel and double-image effects in photography
US2011263A (en) Device for working with lenticulated films
US2317810A (en) Finder for photogaphic purposes
GB508219A (en) Improvements in or relating to illuminating means for optical projection
US1840931A (en) Photographic lens and method of applying the same
US1708371A (en) Apparatus for photographic color process
US3274884A (en) Stereoscopic film viewing apparatus
DE461403C (de) Prismenblock zur Teilung der Lichtstrahlen bei Farbenphotographien
US1945029A (en) Optical light dividing system
US2088339A (en) Optical abbangement fob tjse in