PL29148B1 - Adam Johannes ter Linden, Delft. ~3>&>^r^' Odsrodkowy oddzielacz pylu. - Google Patents

Description

Wynalazek niniejszy dotyczy odsrod¬ kowego oddzielacza pylu o stycznym wlo¬ cie gazu nieoczyszczonego i osiowym wy¬ locie gazu oczyszczonego. Na podstawie ba¬ dan stwierdzono, ze przy zmniejszeniu o- poru wewnetrznego oddzielacza pylu po¬ lepsza sie stopien wydajnosci oddzielacza, jesli glebokosc wpuszczenia rury wyloto¬ wej gazu oczyszczonego wynosi od 0,8 do 1,2 jej srednicy i jesli wlot gazu nieo¬ czyszczonego przylega do czesci cylindry¬ cznej oddzielacza na jego obwodzie naj¬ mniej pod katem 150°, a najwyzej 200°.Stosunkowo wysoka wydajnosc oddziela¬ cza otrzymano przy glebokosci wpuszcze¬ nia rury wylotowej gazu oczyszczonego równej srednicy tejze i gdy dlugosc przy¬ legania wlotu gazu nieoczyszczonego obej¬ muje kat powyzej 180° obwodu oslony od¬ dzielacza. Dzieki takim zaleznosciom osia¬ ga sie takze najmniejsza pojemnosc od¬ dzielacza pylu dla okreslonego stopnia od¬ dzielania.W celu otrzymania stosunkowo wyso¬ kiej wydajnosci odsrodkowy oddzielacz pylu nie powinien posiadac urzadzen we¬ wnetrznych. Urzadzenia wewnetrzne bo¬ wiem szczególnie szkodza korzystnemu wyzyskaniu podanej duzej dlugosci przy¬ legania wlotu gazu nieoczyszczonego, któ¬ ra to dlugosc obwodu, zawierajaca kat 180°, jest znana w oddzielaczach, wyposa¬ zonych w wewnetrzne urzadzenia. Z dru¬ giej strony znane jest umieszczenie osio¬ wej rury wylotowej gazu oczyszczonego z moznoscia regulowania wysokosci tejzew odsrodkowym oddzielaczu pylu, nie za¬ wierajacym wewnetrznych urzadzen, w którym jednak styczny wlot gazu nieo- czyszczonego przylega tylko na krótkiej dlugosci do czesci cylindrycznej oddziela¬ cza, tak iz istnieje mozliwosc osiagniecia wyzej podanej glebokosci wpuszczenia.Powyzsza mozliwosc nastawiania rury wy¬ lotowej gazu oczyszczonego powinna miec na celu dostosowanie sie do ilosci gazu, plynacego do oczyszczenia z pylu. Wedlug wynalazku wlasnie stosunek powyzej po¬ danej glebokosci wpuszczenia do sredni¬ cy rury wylotowej gazu oczyszczonego wplywa korzystnie na stopien wydajnosci, niezaleznie od ilosci gazu, doplywajacego do odpylenia.Dalej stwierdzono, choc moze w mniej¬ szym stopniu, ze stosunek wysokosci i sre¬ dnicy czesci cylindrycznej oslony oddzie¬ lacza do srednicy wylotu gazu oczyszczo¬ nego moze miec pewien wplyw na stopien wydajnosci oddzielacza. Znane sa pewne przyblizone proporcje, które moga byc z korzyscia stosowane w oddzielaczu, we¬ dlug których wysokosc czesci cylindrycz¬ nej oslony oddzielacza wynosi od 2,25 do 3-krotna, a srednica czesci cylindrycznej oslony oddzielacza od 2,25 do 2,75-krotna srednice rury wylotowej gazu oczyszczo¬ nego.Na rysunku uwidoczniono schematycz¬ nie przyklad postaci wykonania odsrodko¬ wego oddzielacza pylu wedlug wynalazku.Fig. 1 przedstawia przekrój pionowy oddzielacza, a fig. 2 — przekrój poziomy górnej czesci oddzielacza.Glebokosc wpuszczenia b rury wyloto¬ wej gazu oczyszczonego jest tu równa jej srednicy a, a wlot gazu nieoczyszczonego do oddzielacza obejmuje kat p równy 180° oslony oddzielacza. Otrzymana w ten spo¬ sób zewnetrzna scianka cylindryczna oslo¬ ny posiada promien r. Rura wlotowa gazu nieoczyszczonego posiada przekrój piono¬ wy prostokatny o wysokosci c i szerokosci /, przy czym nalezy zaznaczyc, ze wielkosc wymiarów tych moze byc rózna. W tym przykladzie wykonania wynalazku wyso¬ kosc e, jako tez i srednica d czesci cylin¬ drycznej oslony oddzielacza wynosza 2,5- krotna srednice a rury wylotowej gazu o- czyszczonego. PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe. 1. Odsrodkowy oddzielacz pylu, nie zawierajacy wewnetrznych urzadzen, o stycznym wlocie gazu nieoczyszczonego i osiowym wylocie gazu oczyszczonego, zna¬ mienny tym, ze posiada rure wylotowa gazu oczyszczonego, wpuszczona na glebo¬ kosc, wynoszaca od 0,8 do 1,2 srednicy tej¬ ze, przy czym wlot gazu nieoczyszczonego przylega do czesci cylindrycznej oddziela¬ cza na obwodzie, obejmujacym najmniej kat 150°, a najwyzej kat 200°.
2. 2. Odsrodkowy oddzielacz pylu we¬ dlug zastrz. 1, znamienny tym, ze glebo¬ kosc wpuszczenia (b) rury wylotowej ga¬ zu oczyszczonego jest równa srednicy (a) tejze, przy czym wlot gazu nieoczyszczo¬ nego przylega do oslony oddzielacza na obwodzie, obejmujacym kat ponad 180°.
3. 3. Odsrodkowy oddzielacz pylu we¬ dlug zastrz. 1, znamienny tym, ze wyso¬ kosc (e) czesci cylindrycznej oslony od¬ dzielacza wynosi od 2,25 do 3-krotna, a srednica (d) czesci cylindrycznej oslony oddzielacza od 2,25 do 2,75-krotna wiel¬ kosc srednicy (a) rury wylotowej gazu oczyszczonego. Adam Johannes ter Linden. Zastepca: inz. W. Zakrzewski, rzecznik patentowy. DRUK. M. ARCT. CZERNIAKOWSKA 225 ,**Do opisu patentowego Nr 29148 fy.2 PL