PL248337B1 - Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem - Google Patents

Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem

Info

Publication number
PL248337B1
PL248337B1 PL443993A PL44399323A PL248337B1 PL 248337 B1 PL248337 B1 PL 248337B1 PL 443993 A PL443993 A PL 443993A PL 44399323 A PL44399323 A PL 44399323A PL 248337 B1 PL248337 B1 PL 248337B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
log
reduction
virus
chamber
coating
Prior art date
Application number
PL443993A
Other languages
English (en)
Other versions
PL443993A1 (pl
Inventor
Przemysław Ząbek
Piotr Selwa
Original Assignee
D A Glass Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by D A Glass Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia filed Critical D A Glass Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia
Priority to PL443993A priority Critical patent/PL248337B1/pl
Publication of PL443993A1 publication Critical patent/PL443993A1/pl
Publication of PL248337B1 publication Critical patent/PL248337B1/pl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N59/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing elements or inorganic compounds
    • A01N59/16—Heavy metals; Compounds thereof
    • A01N59/20—Copper
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/087—Oxides of copper or solid solutions thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Dentistry (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Environmental Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Plant Pathology (AREA)
  • Pest Control & Pesticides (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Agronomy & Crop Science (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem. Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych na powierzchniach tafli szklanych przy pomocy magnetronu, umieszczonych na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowanych do kolejno wstępnej komory próżniowej, wytwarzającego próżnię wstępną i przetransportowane do komory procesowej charakteryzuje się tym, że we wstępnej komorze próżniowej wytwarza się próżnię wstępną wynoszącą od 10 do 1 Pa, zaś w komorze procesowej wytwarza się próżnię procesową wynoszącą od 1.0-3.8•10-2 do 3.3•10-1 9.4•10-2 Pa, po czym dozuje się gaz reaktywny w ilości 600 - 800 cm3/min oraz włącza zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 - 45 A, mocy efektywnej 3,8 - 4,5 kW oraz mocy krążącej 2,9 – 3,4 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym, po czym ustala się prędkość przesuwu skład wynoszącą 1,9 – 9,2 m/min i taflę transportuje się przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę oraz target co najmniej dwuskładnikowy, którego jednym ze składników jest miedź, otrzymuje się przezierną warstwę powłoki o grubości od 50 - 185 nm.

Description

Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania powłok o właściwościach wirusobójczych zwłaszcza na powierzchniach tafli szklanych przy pomocy magnetronu oraz powłoka otrzymywana tym sposobem.
Znany jest z polskiego opisu patentowego PL167391 sposób osadzania warstw polegający na umieszczeniu w zbiorniku próżniowym katody urządzenia magnetronowego, źródła jonów oraz podłoża, na które nanoszona jest warstwa, odparowywaniu zbiornika próżniowego do wysokiej próżni i wytwarzaniu przez źródło wiązki jonów, która kierowana jest na powierzchnię katody magnetronowego urządzenia rozpylającego, po czym na zespół tego urządzenia magnetronowego podawane jest wysokie napięcie i inicjowane wyładowanie magnetronowe.
Znany z polskiego opisu patentowego PL187951 sposób powlekania szkła polegający na kolejnym nakładaniu wewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej, zanieczyszczającej warstwę tlenku tytanu, co najmniej jednej warstwy srebra oraz zewnętrznej warstwy przeciwodbiciowej, przy czym warstwę tlenku tytanu nakłada się przez katodowe napylanie magnetronowe, stosując napięcie przemienne o częstotliwości wynoszącej 5-100 kHz charakteryzuje się tym, że nakładanie warstw tlenku tytanu metodą magnetronową prowadzi się w atmosferze zawierającej argon, tlen i azot do czasu osiągnięcia przez nią grubości 15-50 nm, a na tę warstwę bezpośrednio nakłada się warstwę tlenku cynku również przez katodowe napylanie magnetronowe, przy czym nakładanie tej warstwy prowadzi się aż osiągnie ona grubość 2-18 nm, a warstwę srebra nakłada się bezpośrednio na warstwę tlenku cynku.
Z polskiego opisu patentowego PL223800 znany jest sposób próżniowego napylania powłok metodą magnetronową z rurowym magnetronem polegający na tym, że katodę z materiału napylanego otacza się próżnią od 0,1 do 10 Pa, wprowadza się w pole magnetyczne o natężeniu od 2000 do 0,02 kA, między katodę i napylone podłoże przykłada się napięcie wynoszące od 250 do 2500 V, przy czym źródło pola magnetycznego dzieli się na człony oddalone między sobą na odległości od 1,0 mm do 100 mm i chłodzi, a następnie źródło pola magnetycznego wprowadza się w ruch posuwisto zwrotny o szybkości od 0,01 do 10 cm/sek. i skoku nie mniejszym od odległości między sąsiadującymi ze sobą członami magnetycznymi źródła pola magnetycznego oraz korzystnie w ruch obrotowy względem jego osi wzdłużnej o szybkości od 0,1 do 10 obr/sek.
Celem wynalazku jest opracowanie nowego sposobu nanoszenia metodą magnetronową na podłoża powłok funkcyjnych zwiększonych właściwościach biobójczych które pozwolą na zredukowanie liczebności wirusów o wartość większą niż 1,0 log w badaniach przeprowadzonych według normy ISO21702:2019 Measurement of antiviral activity on plastics and other non-porous surfaces dedykowanej do powierzchni pokrytej powłokami.
Istota sposobu otrzymywania powłok wirusobójczych na powierzchniach tafli szklanych przy pomocy magnetronu umieszczonych na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowanych do kolejno wstępnej komory próżniowej, wytwarzającego próżnię wstępną i przetransportowane do komory procesowej polega na tym, że we wstępnej komorze próżniowej wytwarza się próżnię wstępną wynoszącą od 10-1 Pa zaś w komorze procesowej wytwarza się próżnię procesową wynoszącą od 1.03.8-10-2 do 3.3-10-1 9.4-10-2 Pa, po czym dozuje się gaz reaktywny w ilości 600-800 cm3/min oraz włącza zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30-45 A, mocy efektywnej 3,8-4,5 kW oraz mocy krążącej 2,9-3,4 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym, po czym ustala się prędkość przesuwu skład wynoszącą 1,9-9,2 m/min i taflę transportuje się przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, oraz target co najmniej dwuskładnikowy którego jednym ze składników jest miedź, wybrany spośród: Cu90Zn10, Cu80Ti20, Cu80Ti15Sn5, Cu90Sn10, Cu70Zn25Ni5 otrzymuje się przezierną warstwę powłoki o grubości od 50-185 nm. Korzystnym gdy powłokę wykonuje się po kilkukrotnym powtórzeniu przejazdów przez magnetron.
Z kolei istota powłoki wirusobójczej wykonywanej na podłożu szklanym według wynalazku posiadającej w swym składzie miedź oraz co najmniej jeden dodatkowy pierwiastek zgodnie z wybranym targetem polega na tym, że ma w swym składzie co najmniej dwa pierwiastki z których pierwszym jest miedź w ilości 5-70% a także jedno spośród: tytan w ilości 0,5-20%; cynk w ilości 3-40%; cyna w ilości 1-40%; cynk w ilości 0,3-40% oraz nikiel w ilości 0,3-15%; tytan w ilości 0,5-20% i cynę w ilości 140%; zaś dopełnienie składu chemicznego powłoki stanowi tlen pochodzący z uzyskanych tlenków, przy czym powłoka ta cechuje się średnią redukcją liczebności co najmniej jednego z wirusów HHV-1, IVA bądź bakteriowirusa OC43 na poziomie > 1.0 log. Korzystnie powłoka pozwala na: redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość <1.0 log przy składzie 50-70% Cu oraz 0,5-10% Ti, redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 2.0 log przy składzie 25-30% Cu oraz 30-40% Zn, redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 2.0 log mierzonej według normy ISO 21702:2019 przy składzie 5-15% Cu oraz 30-40% Sn, redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 2.0 log, na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 1.5 log oraz na redukcję liczebności wirusa OC43 o wartość < 1.5 log przy składzie 5-15% Cu, 0,3-10% Zn oraz 0,3-5% Ni, redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 2.0 log, na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 1.5 log oraz na redukcję liczebności wirusa OC43 o wartość < 1.0 log przy składzie 1525% Cu, 0,5-10% Ti oraz 30-40% Ni.
Sposób według wynalazku umożliwia uzyskanie powłok funkcyjnych o właściwościach wirusobójczych pozwalających zredukowanie ich ilości do poziomu zapewniającego niezbędny poziom bezpieczeństwa w przypadku kontaktu z danym wirusem, minimalizując możliwość zarażenia.
Przykład 1
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.3 - 7.2-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 4.5 oraz krążącej 3.1 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 3.6 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu80Ti20 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 100 nm na tafli szklanej składającej się z tytanu 5% oraz miedzi 50%. Powłoka wykazała właściwości wirusobójcze na poziomie > 1 log względem wirusa opryszczki HHV-1 oraz < 1 log względem wirusa grypy IVA.
P rzy kła d 2
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.3 - 7.2-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 4.5 oraz krążącej 3.1 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 7.1 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu80Ti20 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 50 nm na tafli szklanej składającej się z tytanu 10% oraz miedzi 10%.
P rzy kła d 3
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.3 - 7.2-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 4.5 oraz krążącej 3.1 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 2.0 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu80Ti20 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 150 nm na tafli szklanej składającej się z tytanu 0.5% oraz miedzi 70%.
P rzy kła d 4
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.3 - 7.2-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 45 A, mocy efektywnej 4.5 oraz krążącej 3.1 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 2.0 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu80Ti20 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 180 nm na tafli szklanej składającej się z tytanu 5% oraz miedzi 70%.
Przykład 5
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 2.7 - 6.6-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 600 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.8 oraz krążącej 3.4 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 4.8 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu90Zn10 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 120 nm na tafli szklanej składającej się z cynku 20% oraz miedzi 25%. Powłoka wykazała właściwości wirusobójcze na poziomie > 1 log względem wirusa opryszczki HHV-1, > 2 log względem wirusa grypy IVA.
P rzy kła d 6
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 2.7 - 6.6-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 600 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.8 oraz krążącej 3.4 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 9.0 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu90Zn10 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 60 nm na tafli szklanej składającej się z cynku 40% oraz miedzi 10%.
P rzy kła d 7
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 2.7 - 6.6-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 600 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.8 oraz krążącej 3.4 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 3.9 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu90Zn10 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 160 nm na tafli szklanej składającej się z cynku 3% oraz miedzi 35%.
Przykład 8
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.1-8.6-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.9 oraz krążącej 3.2 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 5.8 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu90Sn10 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 125 nm na tafli szklanej składającej się z cyny 30% oraz miedzi 15%. Powłoka wykazała właściwości wirusobójcze na poziomie > 1.0 log względem wirusa opryszczki HHV-1, oraz > 2.0 log względem wirusa grypy IVA.
P rzy kła d 9
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.1-8.6-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.9 oraz krążącej 3.2 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 9.2 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu90Sn10 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 50 nm na tafli szklanej składającej się z cyny 40% oraz miedzi 5%.
Przykład 10
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.1-8.6-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.9 oraz krążącej 3.2 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 3.1 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu90Sn10 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 185 nm na tafli szklanej składającej się z cyny 1% oraz miedzi 50%.
Przykład 1 1
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 1.0-3.8-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.5 oraz krążącej 3.2 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 4.8 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu70Zn25Ni5 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 88 nm na tafli szklanej składającej się z miedzi 15%, cynku 10% oraz niklu 5%. Powłoka wykazała właściwości wirusobójcze na poziomie > 2.0 log względem wirusa opryszczki HHV-1, > 1.5 log względem wirusa grypy 1VA oraz < 1.5 log względem betakoronawirusa OC43.
Przykład 1 2
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 1.0-3.8-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.5 oraz krążącej 3.2 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 9.4 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu70Zn25Ni5 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 55 nm na tafli szklanej składającej się z miedzi 5%, cynku 40% oraz niklu 15%.
Przykład 1 3
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 1.0-3.8-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny - tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 3.5 oraz krążącej 3.2 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 2.5 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu70Zn25Ni5 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 170 nm na tafli szklanej składającej się z miedzi 25%, cynku 0.3% oraz niklu 0.3%.
PL 248337 Β1
Przykład 14
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.3-10-1 — 9.4-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny-tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe-stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 4.4 oraz krążącej 2.9 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 3.6 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu80Ti15Sn5 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 120 nm na tafli szklanej składającej się z miedzi 15%, tytanu 10% oraz cyny 30%. Powłoka wykazała właściwości wirusobójcze na poziomie > 2.0 log względem wirusa opryszczki HHV-1, > 1.5 log względem wirusa grypy IVA oraz < 1.0 log względem betakoronawirusa OC43.
Przykład 1 5
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.3-10-1 - 9.4-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny-tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe-stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 4.4 oraz krążącej 2.9 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 7.2 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu80Ti15Sn5 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 40 nm na tafli szklanej składającej się z miedzi 5%, tytanu 20% oraz cyny 40%.
Przykład 16
Taflę szklaną o grubości 4 mm umieszczono na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowano ją do wstępnej komory próżniowej, w której wytworzono próżnię wstępną wynoszącą 10-1 Pa. W kolejnym etapie taflę przetransportowano do komory procesowej (roboczej) tego stanowiska i wytworzono w niej próżnię procesową wynoszącą 3.3-10-1 - 9.4-10-2 Pa, po czym zadozowano gaz reaktywny-tlen w ilości 800 cm3/min oraz włączono zasilanie impulsowe-stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30 A, mocy efektywnej 4.4 oraz krążącej 2.9 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym. Następnie przy prędkości przesuwu wynoszącej 1.9 m/min szkło przetransportowano przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, którą stanowił target składający się z Cu80Ti15Sn5 otrzymano przezierną warstwę powłoki o grubości 175 nm na tafli szklanej składającej się z miedzi 25%, tytanu 0.5% oraz cyny 1.0%.
TABELA 1 -zbiorcze zestawienie parametrów opisywanych w przykładach 1-16.
LP Rodzaj targetu GRUBOŚĆ POWŁOKI Inm] PRĄD PRACY [A] PRĘDKOŚĆ PRZESUWU [m/min] ILOŚĆ PRZEJAZDÓW ILOŚĆ GAZU [cm3 min-1] Moc efektywna [kW] Moc krążąca [kW] Próżnia właściwa [Pa]
1 Cu80Ti20 100 30 3.6 2 800 4.5 3.1 3.3-7.2-10-2
2 Cu80Ti20 50 30 7.1 2 800 4.5 3.1 3.3-7.210-2
3 Cu80Ti20 150 30 2.0 2 800 4.5 3.1 3.3-7.2-10-2
PL 248337 Β1
LP Rodzaj targetu GRUBOŚĆ POWŁOKI [nm] PRĄD PRACY [A] PRĘDKOŚĆ PRZESUWU [m/min] ILOŚĆ PRZEJAZDÓW ILOŚĆ GAZU [cm3 min-1] Moc efektywna [kW] Moc krążąca [kW] Próżnia właściwa [Pa]
4 Cu80Ti20 180 45 3.6 2 800 4.5 3.1 3.3-7.2-10-2
5 Cu9OZnlO 120 30 4.8 1 600 3.8 3.4 2.7-6.6-10-2
6 Cu9OZnlO 60 30 9.0 1 600 3.8 3.4 2.7-6.6-10-2
7 Cu9OZnlO 160 30 3.9 1 600 3.8 3.4 2.7-6.6-10-2
8 Cu90Snl0 125 30 5.8 1 800 3.9 3.2 3.1-8.6-10-2
9 Cu90Snl0 50 30 9.2 1 800 3.9 3,2 3.1-8.6-10-2
10 Cu90Snl0 185 30 3.1 1 800 3.9 3.2 3.1-8.610-2
11 Cu70Zn25Ni5 88 30 4.8 1 800 3.5 3.2 1.0-3.8-10-2
12 Cu70Zn25Ni5 55 30 9.4 1 800 3.5 3.2 1.0-3.8-10-2
13 Cu70Zn25Ni5 170 30 2.5 1 800 3.5 3.2 1.0-3.8-10-2
14 Cu80Til5Sn5 120 30 3.6 1 800 4.4 2.9 3.3-10-1 9.4-10-2
15 Cu80Til5Sn5 40 30 7.2 1 800 4.4 2.9 3.3-10-1 9.4-10-2
16 Cu80Til5Sn5 175 30 1.9 1 800 4.4 2.9 3.3-10-1 9.4-10-2
Po wykonaniu powłok sposobem według wynalazku uzyskane powłoki posiadały w swym składzie pierwiastki zgodne ze stosowanym w danej metodzie targetem przy czym ilość procentowa pierwiastków wchodzących w skład powłoki opisano poniżej w przykładach 17 do 21.
Przykład 1 7
Powłoka uzyskana wskutek pracy magnetronu opisany w przykładach 1-4 dla targetu Cu80Ti20 posiada udział procentowy miedzi w zakresie od 10-70% oraz tytan na poziomie 0,5-20%. W związku z faktem, iż metale występują w powłoce w postaci tlenków pozostały udział pierwiastkowy (do 100%) stanowi tlen. Powłoka o tych parametrach pozwoliła na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość < 1.0 log mierzonej według normy ISO 21702:2019. Jednocześnie stwierdzono iż najskuteczniejsza wartość wirusobójcza osiągnięta została przy składzie 50-70% Cu oraz 0,5-10% Ti.
Przykład 1 8
Powłoka uzyskana wskutek pracy magnetronu opisany w przykładach 5-7 dla targetu Cu90Zn10 posiada udział procentowy miedzi w zakresie od 10-35% oraz cynk na poziomie 3-40%. W związku z faktem, iż metale występują w powłoce w postaci tlenków pozostały udział pierwiastkowy (do 100%)
PL 248337 Β1 stanowi tlen. Powłoka o tych parametrach pozwoliła na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 2.0 log mierzonej według normy ISO 21702:2019. Jednocześnie stwierdzono iż najskuteczniejsza wartość wirusobójcza osiągnięta została przy składzie 25-30% Cu oraz 30-40% Zn.
Przykład 1 9
Powłoka uzyskana wskutek pracy magnetronu opisany w przykładach 8-10 dla targetu Cu90Sn10 posiada udział procentowy miedzi w zakresie od 5-50% oraz cyny na poziomie 3-40%. W związku z faktem, iż metale występują w powłoce w postaci tlenków pozostały udział pierwiastkowy (do 100%) stanowi tlen. Powłoka o tych parametrach pozwoliła na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 2.0 log mierzonej według normy ISO 21702:2019. Jednocześnie stwierdzono iż najskuteczniejsza wartość wirusobójcza osiągnięta została przy składzie 5-15% Cu oraz 30-40% Sn.
Przykład 20
Powłoka uzyskana wskutek pracy magnetronu opisany w przykładach 11-13 dla targetu Cu70Zn25Ni5 posiada udział procentowy miedzi w zakresie od 5-25%, cynku na poziomie 0,3-40% oraz niklu na poziomie 0,3-15%. W związku z faktem, iż metale występują w powłoce w postaci tlenków pozostały udział pierwiastkowy (do 100%) stanowi tlen. Powłoka o tych parametrach pozwoliła na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 2.0 log, na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 1.5 log oraz na redukcję liczebności wirusa OC43 o wartość < 1.5 log mierzonej według normy ISO 21702:2019. Jednocześnie stwierdzono iż najskuteczniejsza wartość wirusobójcza osiągnięta została przy składzie 5-15% Cu, 0,3-10% Ti oraz 0,3-5% Ni.
Przykład 21
Powłoka uzyskana wskutek pracy magnetronu opisany w przykładach 14-16 dla targetu Cu80Ti15Sn5 posiada udział procentowy miedzi w zakresie od 5-25%, tytanu na poziomie 0,5-20% oraz cyny na poziomie 1-40%. W związku z faktem, iż metale występują w powłoce w postaci tlenków pozostały udział pierwiastkowy (do 100%) stanowi tlen. Powłoka o tych parametrach pozwoliła na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 2.0 log, na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 1.5 log oraz na redukcję liczebności wirusa OC43 o wartość < 1.0 log mierzonej według normy ISO 21702:2019. Jednocześnie stwierdzono iż najskuteczniejsza wartość wirusobójcza osiągnięta została przy składzie 15-25% Cu, 0,5-10% Ti oraz 30-40% Ni.
TABELA 2 - Udział poszczególnych składników w powłoce w zależności od rodzaju użytego targetu.
Rodzaj targetu Udział procentowy metalu w powłoce
Cu / % XI / % X2 Z %
Cu80Ti20 Cu 10-70 Ti 0.5-20 —
Cu90Znl0 Cu 10-35 Zn 3-40 —
Cu90Snl0 Cu 5-50 Sn 1-40 —
Cu70Zn25Ni5 Cu 5-25 Zn 0,3-40 Ni 0,3-15
Cu80Til5Sn5 Cu 5-25 Ti 0.5-20 Sn 1 -40
PL 248337 Β1
TABELA 3 Ilość redukcji wirusa grypy, HHV-1 oraz betakoronowirusa (wyrażona w log 10) mierzona według normy ISO 21702:2019.
Powłoka według przykładu Rodzaj targetu Średnia redukcja liczebności wirusa HHV-1 / log
18 Cu90Znl0 2: 1.0 log
17 Cu80Ti20 > 1.0 log
21 Cu80Til5Sn5 > 2.0 log
19 Cu90Snl0 > 1.0 log
20 Cu70Zn25Ni5 Z 2.0 log
Średnia redukcja liczebności wirusa 1VA / log
18 Cu90Znl0 > 2.0 log
17 Cu80Ti20 < 1.0 log
21 Cu80Til5Sn5 > 1.5 log
19 Cu90Snl0 > 2.0 log
20 Cu70Zn25Ni5 > 1.5 log
Średnia redukcja liczebności betakoronawirusa OC43 / log
21 Cu80Til5Sn5 < 1.0 log
20 Cu70Zn25Ni5 < 1.5 log

Claims (8)

1. Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych na powierzchniach tafli szklanych przy pomocy magnetronu umieszczonych na rolkach wstępnego podajnika, a następnie przetransportowanych do kolejno wstępnej komory próżniowej, wytwarzającego próżnię wstępną i przetransportowane do komory procesowej, znamienny tym, że we wstępnej komorze próżniowej wytwarza się próżnię wstępną wynoszącą od 10-1 Pa zaś w komorze procesowej wytwarza się próżnię procesową wynoszącą od 1.0-3.8-10-2 do 3.3-10-1 9.4-10-2 Pa, po czym dozuje się gaz reaktywny - tlen w ilości 600-800 cm3/min oraz włącza zasilanie impulsowe - stałoprądowe przy natężeniu prądu elektrycznego wynoszącym 30-45 A, mocy efektywnej 3,8-4,5 kW oraz mocy krążącej 2,9-3,4 kW pracując w wytworzonym w komorze polu magnetycznym, po czym ustala się prędkość przesuwu szkła wynoszącą 1,9-9,2 m/min i taflę transportuje się przez pierwszy magnetron komory procesowej przy jarzącej się wytworzonej plazmie i wykorzystując katodę, oraz target co najmniej dwuskładnikowy którego jednym ze składników jest miedź wybrany spośród: Cu90Zn10, Cu80Ti20, Cu80Ti15Sn5, Cu90Sn10, Cu70Zn25Ni5 i otrzymuje się przezierną warstwę powłoki o grubości od 50-185 nm.
2. Sposób otrzymywania powłok według zastrz. 1, znamienny tym, że powłokę wykonuje się po kilkukrotnym powtórzeniu przejazdów przez magnetron.
3. Powłoka wirusobójcza na podłożu szklanym otrzymana sposobem określonym zastrzeżeniami 1-2 posiadająca w swym składzie miedź oraz co najmniej jeden dodatkowy pierwiastek zgodnie w wybranym targetem, znamienna tym, że ma w swym składzie co najmniej dwa pierwiastki z których pierwszym jest miedź w ilości 5-70% a także jedno spośród:
• tytan w ilości 0,5-20% • cynk w ilości 3-40% • cyna w ilości 1-40% • cynk w ilości 0,3-40% oraz nikiel w ilości 0,3-15% • tytan w ilości 0,5-20% i cynę w ilości 1-40% dopełnienie składu chemicznego powłoki stanowi tlen pochodzący z uzyskanych tlenków, przy czym powłoka ta cechuje się średnią redukcją liczebności co najmniej jednego z wirusów HHV-1, IVA bądź bakteriowirusa OC43 na poziomie > 1.0 log.
4. Powłoka wirusobójcza na podłożu szklanym według zastrz. 3, znamienna tym, że pozwala na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość < 1.0 log przy składzie 50-70% Cu oraz 0,5-10% Ti.
5. Powłoka wirusobójcza na podłożu szklanym według zastrz. 3, znamienna tym, że pozwala na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 2.0 log przy składzie 25-30% Cu oraz 30-40% Zn.
6. Powłoka wirusobójcza na podłożu szklanym według zastrz. 3, znamienna tym, że pozwala na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 1.0 log oraz na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 2.0 log mierzonej według normy ISO 21702:2019 przy składzie 5-15% Cu oraz 30-40% Sn.
7. Powłoka wirusobójcza na podłożu szklanym według zastrz. 3, znamienna tym, że pozwala na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 2.0 log, na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 1.5 log oraz na redukcję liczebności wirusa OC43 o wartość <1.5 log przy składzie 5-15% Cu, 0,3-10% Zn oraz 0,3-5% Ni.
8. Powłoka wirusobójcza na podłożu szklanym według zastrz. 3, znamienna tym, że pozwala na redukcję liczebności wirusa HHV-1 o wartość > 2.0 log, na redukcję liczebności wirusa IVA o wartość > 1.5 log oraz na redukcję liczebności wirusa OC43 o wartość < 1.0 log przy składzie 15-25% Cu, 0,5-10% Ti oraz 30-40% Ni.
PL443993A 2023-03-07 2023-03-07 Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem PL248337B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL443993A PL248337B1 (pl) 2023-03-07 2023-03-07 Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL443993A PL248337B1 (pl) 2023-03-07 2023-03-07 Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL443993A1 PL443993A1 (pl) 2024-09-09
PL248337B1 true PL248337B1 (pl) 2025-12-01

Family

ID=92676912

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL443993A PL248337B1 (pl) 2023-03-07 2023-03-07 Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL248337B1 (pl)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112941476A (zh) * 2021-01-28 2021-06-11 山东省科学院能源研究所 一种二氧化锡/铜/二氧化锡多层透明导电薄膜及其制备方法与应用
PL435460A1 (pl) * 2020-09-28 2022-04-04 Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny W Szczecinie Element z metalu, tworzywa sztucznego, szkła lub z tkaniny oraz sposób wytwarzania bariery antydrobnoustrojowej

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PL435460A1 (pl) * 2020-09-28 2022-04-04 Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny W Szczecinie Element z metalu, tworzywa sztucznego, szkła lub z tkaniny oraz sposób wytwarzania bariery antydrobnoustrojowej
CN112941476A (zh) * 2021-01-28 2021-06-11 山东省科学院能源研究所 一种二氧化锡/铜/二氧化锡多层透明导电薄膜及其制备方法与应用

Also Published As

Publication number Publication date
PL443993A1 (pl) 2024-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101175867B (zh) 硬材料层
RU2630090C2 (ru) Способ нанесения покрытия для осаждения системы слоев на подложку и подложка с системой слоев
EP0975818B1 (en) Method and device for pvd coating
WO2013045454A3 (en) Coating of substrates using hipims
EP0432090B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung und Werkstück beschichtet nach dem Verfahren
PL248337B1 (pl) Sposób otrzymywania powłok wirusobójczych oraz powłoka otrzymywana tym sposobem
CN102534514A (zh) 一种多弧离子镀镀膜的方法
CN102560338A (zh) 一种金属陶瓷涂层及其制备方法
US10465278B2 (en) Coating containing macroparticles and cathodic arc process of making the coating
US20170226629A1 (en) Method for plating pvd germ repellent film
RU2339735C1 (ru) Способ нанесения пленочного покрытия
Vetter et al. Domino platform: PVD coaters for arc evaporation and high current pulsed magnetron sputtering
DE102007004760A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten von plattenförmigen oder bandförmigen metallischen Substraten
DE102014207454B4 (de) Vorrichtung zur Ausbildung einer Beschichtung auf einer Substratoberfläche
KR101245324B1 (ko) 알루미늄 코팅 강판 및 그 제조 방법
RU2052540C1 (ru) Способ нанесения пленочного покрытия
RU2726187C1 (ru) Устройство для обработки изделий быстрыми атомами
ES2946664T3 (es) Método para producir una herramienta de corte con recubrimiento de doble capa con resistencia mejorada al desgaste
RU99104616A (ru) Способ формирования теплоотражающего покрытия на стекле
US12121029B2 (en) Antimicrobial products containing silver and copper particles
Shandrikov et al. DC Magnetron Discharge with Pure Calcium Target.
KR102010769B1 (ko) 아연도금층에 형성되는 주석/마그네슘 박막 및 그 제조방법
RU2463382C2 (ru) Способ и устройство для получения многослойно-композиционных наноструктурированных покрытий и материалов
Yakovlev et al. Electron beam surface alloying of carbon steel by aluminium followed by micro-arc oxidation
Dohtarenko et al. Investigation of the emission spectra of a high-power impulse gas discharge of a magnetron during reactive sputtering