PL24702B1 - w izolacyjnych aparatach tlenowych. - Google Patents

Description

Rozróznia sie trzy rodzaje mas che¬ micznych uzywanych w sprzetach przeciw¬ gazowych: 1. masy, które dzialaja jako filtr chemiczny oczyszczajac powietrze od zewnetrznych gazów trujacych, 2. masy, które wydzielaja tlen, oraz 3. masy, które pochlaniaja tylko dwutlenek wegla i pare wodna wydychane przez czlowieka.Przy zastosowaniu filtrów chemicz¬ nych wdycha sie otaczajace powietrze at¬ mosferyczne, przy czym gazy trujace zo¬ staja pochloniete za pomoca róznych srod¬ ków chemicznych umieszczonych w fil¬ trach, jak np. chlorku wapniowego wedlug patentu Nr 11 347 i innych.Przy uzyciu aparatów izolacyjnych, to znaczy takich aparatów, przy uzyciu któ¬ rych nie potrzeba wdychac powietrza at¬ mosferycznego, stosuje sie masy wydziela¬ jace tlen i pochlaniajace dwutlenek wegla oraz pare wodna. Jako masy wydzielajace tlen stosowane w aparatach bez tlenu zge- szczonego sluza nadtlenki alkaliczne, chlo¬ rany i nadchlorki. I W aparatach izolacyjnych z tlenem zgeszczonym potrzebne sa do pochlaniania dwutlenku wegla i pary wodnej powietrza wydychanego zasady zrace, a przede wszystkim soda zraca (NaOH).Starano sie polepszyc zdolnosc pochla-niania ostatnio wymienionych srodków chemicznych w ten sposób, ze dodawano np. do sody zracej pewne ilosci potasu zra¬ cego, wapna palonego albo tez cial poro¬ watych, j ZaT"pomoca wszystkich tych domieszek nie osiagnieto jednak skutku pozadanego.Wedlug wynalazku niniejszego dodaje sie do glównej masy chlonnej, to jest do sody zracej lub substancji podobnej, mala ilosc weglanów potasowcowych, weglanów wapniowcowych, weglanu amonu (NHJ lub mala ilosc chlorku wapnia (CaCl2).Postepuje sie przy tym w ten sposób, ze dodaje sie wyzej wymienionych zwiaz¬ ków do stopu masy glównej pojedyn¬ czo albo po dwa zwiazki w odpowiedniej ich mieszaninie. Postepowac mozna takze w ten sposób, ze przyrzadza sie mieszanine zasad zracych ze zwiazkami wymieniony¬ mi przed ich stopieniem. Przy roztapianiu nalezy uwazac na to, aby temperatura ma¬ sy nie przekraczala temperatury, w której roztapiaja sie zwiazki wprowadzone do ma¬ sy glównej. W ogólnoscia zatem temperatu¬ ra nie moze przekraczac 700°C. Po osty¬ gnieciu zmieszanej masy stopionej w zna¬ ny sposób rozdrabnia sie mase te na ziarna zadanej wielkosci i umieszcza je w pochla¬ niaczach. Próby wykazaly, ze wystarczy juz dodanie malej ilosci wymienionych srodków chemicznych do glównej masy chlonnej, to jest sody zracej lub substancji podobnej, aby spotegowac zdolnosc pochla¬ niania dwutlenku wegla oraz pary wodnej z powietrza wydychanego. Ponadto okaza¬ lo sie, ze wyzej podane weglany powstrzy¬ muja roztapianie sie masy glównej pod¬ czas pochlaniania. W celu uzyskania do¬ brej porowatosci masy pochlaniajacej do¬ daje sie azotanu amonu (NH^NO^J lub w ogóle jakiejkolwiek soli amonowej. Chlorek wapnia (CaCl2J dodany do stopu masy glównej zwieksza twardosc produktu, do¬ dany zas do masy ostudzonej, chociaz juz zawierajacej go, w celu zwiekszenia twar¬ dosci —¦ obniza temperature wytwarzajaca sie podczas reakcji chemicznej przy po¬ chlanianiu dwutlenku wegla oraz pary wod¬ nej w pochlaniaczach. PL

Claims (1)

Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób wytwarzania mas pochlania¬ jacych dwutlenek wegla oraz pare wodna i nadajacych sie do napelniania puszek re¬ generacyjnych (pochlaniaczy) w izolacyj¬ nych aparatach tlenowych, znamienny tym, ze do glównej masy chlonnej skladajacej sie z zasad zracych dodaje sie weglanów potasowcowych, weglanów wapniowco¬ wych, weglanu amonu lub jakiejkolwiek in¬ nej; soli amonowej wzglednie chlorku wap¬ nia pojedynczo lub w odpowiedniej miesza¬ ninie. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze chlorek wapnia stapia sie z glówna masa chlonna skladajaca sie z zasad zra¬ cych lub z glówna masa chlonna zawiera¬ jaca domieszki wedlug zastrz. 1. 3. Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, zna¬ mienny tym, ze chlorku wapnia dodaje sie do ostudzonej masy chlonnej zawierajacej juz chlorek wapnia uprzednio stopiony z ta masa, wzglednie — do ostudzonej masy chlonnej zawierajacej inne domieszki we¬ dlug zastrz.

1. Gwidon Suchy. Stanislaw K. Gryger. Zastepca: Inz. Cz. Raczynski, rzecznik patentowy. Druk L. BoBruslawslrieg© i Ski, Warszawa. PL