PL23365B1 - Sposób suszenia, odparowywania lub stezania substancyj organicznych lub mineralnych oraz urzadzenie do wykonywania tego sposobu. - Google Patents

Description

W przemysle chemicznym, zwlaszcza farmaceutycznym niekiedy jest rzecza ko¬ nieczna przeprowadzenie procesu suszenia, odparowywania lub stezania rozmaitego rodzaju substancyj, wrazliwych na dziala¬ nie ciepla w wyzszych temperaturach, za- pomoca powietrza lub gazu o pewnej sta¬ lej temperaturze, W znanych urzadzeniach osiaga sie to w ten sposób, ze powietrze lub gaz, sluza¬ cy do unoszenia ze soba skladnika odparo¬ wywanego, podgrzewa sie do stalej tem¬ peratury pozadanej i po przepuszczeniu przez suszarke odprowadza nazewnatrz.Tego rodzaju podgrzewanie gazu, sluza¬ cego do porywania czynnika odparowywa¬ nego, wymaga stosowania termostatów, gdyz np. powietrze, czerpane z zewnatrz, posiadajac zmienna wilgotnosc i tempera¬ ture, zapomoca urzadzenia grzejnego tru¬ dno jest doprowadzic do stalej temperatu¬ ry pozadanej, gdyz wymagaloby to ciagle¬ go regulowania ilosci ciepla w zaleznosci od temperatury i wilgotnosci powietrza o- taczajacego.Sposób suszenia, odparowywania lub stezenia wszelkiego rodzaju substancyj or¬ ganicznych lub mineralnych wedlug wy¬ nalazku polega na tern, ze powietrze lub gaz, sluzacy do porywania czynnika odpa¬ rowywanego, utrzymuje sie w obiegu ko¬ lowym w przestrzeni szczelnie zamknietej,przy/cz^m poddaje sie go naprzeniian 0- gr^ewaniu przed doprowadzeniem do sub- st&nSyj traktowanych^ oziebianiu po pfze- proiw^dzenim gq przez sutj&tancje trakto¬ wane lub nad niemi. Prowadzac suszenie, odparowywanie lub stezanie w przestrzeni zamknietej zapomoca powietrza lub gazu i ustaliwszy liczbe kaloryj, doprowadza¬ nych do urzadzenia grzejnego, jak i licz¬ be kaloryj, odprowadzanych z urzadzenia chlodniczego jedna i ta sama iloscia gazu, mozna latwo prowadzic powyzsze czynno-, sci w temperaturze stalej.Urzadzenie, sluzace do przeprowadza¬ nia sposobu powyzszego* przedstawiono na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia u- rzadzenie w przekroju podluznym, fig. 2 — w przekroju poprzecznym i fig. 3 — w wi¬ doku zigóry. Urzadzenie to sklada sie z ko¬ mory szczelnie zamknietej /, oraz komory 2, cieplnie izolowanej, wewnatrz której u- mieszczone jest dowolne urzadzenie chlod¬ nicze 3. Komora 2 otworem 7 jest polaczo¬ na z komora 5, w której znajduje sie grzej¬ nik 4. Wlot do komory 2 jest zaopatrzony w przewietrznik 6, utrzymujacy w obiegu kolowym powietrze lub gaz, sluzacy do po¬ rywania czynnika odparowywanego, np. wody, eteru, alkoholu i substancyj podob¬ nych.Opisane powyzej urzadzenie dziala w sposób nastepujacy.Po umieszczeniu substancyj, poddawa¬ nych dzialaniu powietrza lub gazu o stalej temperaturze, w komorze 1 przetlacza sie przez nie zapomoca przewietrznika 6 stru¬ mien powietrza lub gazu, który uprzednio przeplywa przez komore chlodnicza 2, a nastepnie przez komore grzejna 2. Gaz, przeplywajac przez komore 1, unosi z so¬ ba czynnik odparowywany i otworem 8 jest ssany i wtlaczany do komory 2, w której pary czynnika odparowywanego skraplaja sie, poczem gaz otworem 7 plynie do ko¬ mory 5, w której ogrzewa sie do tempera¬ tury zadanej i t. d. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób suszenia, odparowywania lub stezania, substancyj organicznych lub mineralnych zapomoca pradu powietrza lufo innego gazu, przeplywajacego przez nie lub nad niemi, znamienny tem, ze gaz jest utrzymywany w obiegu zamknietym, bedac naprzemian najpierw ogrzewany do zadanej temperatury, a po przejsciu przez substancje traktowane lub nad niemi — oziebiany w celu skroplenia par w nim za¬ wartych.
2. 2. Urzadzenie do wykonywania sposo¬ bu wedlug zastrz. 1, znamienne tem, ze sklada sie z komory szczelnie zamknietej (1), zaopatrzonej w urzadzenie grzejne (4), urzadzenia chlodnicze (3) oraz urza¬ dzenia, np. przewietrznika (6), sluzacego do utrzymywania gazu w obiegu kolowym i przetlaczania go kolejno przez urzadze¬ nie chlodnicze i urzadzenie grzejne. Leon. N a s i e r o w s k i. Zastepca: M. Skrzypkowski, rzecznik patentowy.Do opisu patentowego Nr 23365. Fig.1 Fig.2 3 2 Fig 3 ^k Pfr S I / ^^ ^ ^^ z: Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL