PL22539B3 - Sposób ciagly wytwarzania lugów bielacych. - Google Patents

Description

Najdluzszy czas trwania patentu do 23 marca 1949 r.W patencie Nr 19918 opisano sposób ciagly wytwarzania lugów bielacych z chlo¬ ru i wodnych roztworów podchlorynów wzglednie wodorotlenków potasowców albo wapniowców, wedlug którego otrzymuje sie kwas podchlorawy, praktycznie biorac, wolny od podchlorynu i chloranu. Tego ro¬ dzaju lugi odznaczaja sie miedzy innemi stosunkowo duza zawartoscia chloru czyn¬ nego, nadzwyczajna czystoscia i doskona- lem dzialaniem bielacem.Obecnie stwierdzono, iz do pewnych procesów bielenia jest rzecza korzystna, je¬ sli lug bielacy od poczatku zawiera pewna ilosc rozpuszczonego wolnego chloru, po¬ niewaz w ten sposób mozna latwiej usunac pewne zanieczyszczenia. Tego rodzaju lugi bielace, zawierajace obok kwasu podchlo- rawego chlor wolny, mozna wytwarzac co- prawda przez dzialanie chloru albo przez dzialanie kwasu solnego na lugi bielace, wytworzone sposobem wedlug patentu Nr 19918, jednak takie traktowanie lugów jest klopotliwe i polaczone ze stratami chloru czynnego.Obecnie stwierdzono, iz wspomniany cel mozna osiagnac sposobem znacznie prost¬ szym, a zatem bez traktowania lugu pod¬ chlorynu, unikajac strat chloru, jesli w mysl niniejszego wynalazku zmieni sie spo¬ sób wedlug patentu Nr 19918, mianowicie, na stale plynace roztwory wodorotlenkówlub podcW^rynów p9te«owfców albo wap- niowców lub ich mieszanin dziala sie zwy¬ kle w przeciwpradzie chlorem w stanie, mozliwie równomiernie rozproszonym, w ilosci równomiernej do ilosci, potrzebnej do wytworzenia kwasu podchlorawego, lecz nieprzekraczajacej zdolnosci absorbcyjnej plynacego lugu. Zamiast wodorotlenków lub podchlorynów potasowców lub wap* niowców mozna stosowac równiez weglany lub dwuweglany albo mieszaniny weglanów z wodorotlenkami i podchlorynami albo podchlorynami, chociaz najpierw wymie¬ nione polaczenia s% korzystniejsze pod wzgledem gospodarczym i z powodów tech¬ nicznych.Okazalo sie przytem nadspodziewanie, ze powyzsze lugi w porównaniu z lugami, otrzymanemi przez wprowadzenie chloru? do roztworu podchlorynów lub lugów, za* wierajacych posrednio utworzony podbhlo- ryn, przy takim stosunku ilosciowym, iz na 1 czasteczke podchlorynu nie przypad&fcr ponad dwie czasteczki chloru, wykazaly znacznie wieksza trwalosc. Ponizsza tabe¬ la uwidocznia korzystne wlasciwosci takich lugów.Stosunek czastecz¬ kowy pr*Y 20.054/1 chloru QAyaj*gcr 1,63 1,77 1,94 2,14 2,19 2,24 1 atmi* chloro ciy&pego go uplywie l€tt ¦•¦¦•- ¦ "11,46% i 6,58%- 1.80% r $05% 0,00%. 3ff r - ¦ 22;32% 12;€2% 7,17% 3,90% 1,65% 1 g&dfc 25,33% ! 16,48% 1*.52% 5,40% 3,80% 5goda 81,33% 2A\QK 17,53% 12,40%. 8,96% Powyzsze stwierdzenie nadaje proceso¬ wi specjalne znaczenie.\ / Przyklad. Do wiezy wprowadzano równomiernie roztwór podchlorynu wapnia, zawierajacy 9,10 g/litr chloru czynnego w ilosci 224 litrów na godzine, oraz w prze- ciwpradzie od dolu — 2,526 kg chloru na 1 godzine przy stosunku czasteczkowym 2,21.W dolnej czesci wiezy odplywalo równo¬ miernie na godzine 225 litrów roztworu kwasu podchlorawego, zawierajacego 19,88 g/lita! ogólnego chlotuczynnego, skladaja¬ cego sie z 17,75 g/litr chloru czynnego kwa¬ su podchlorawego l 2,13 g/litr rozpuszczo¬ nego chloru wolnego, co stanowi 98% wy¬ dajnosci wprowadzonego ogólnie czynnego chloru, a wiec chloru czynnego, zawartego w lugu wprowadzonym, oraz wprowadzone¬ go chloru wolnego. PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe. 1. Sposób wytwarzania lugu bielacego, zawierajacego wolny chlor i wolny kwas podchlorawy, wedlug patentu Nr 19918, znamienny tem, ze na stale plynace roz¬ twory wodorotlenków oraz podchlorynów lub podchlorynów potasowców lub wap- niowców dziala sie szybko w przeciwpra¬ dzie chlorem w ilosciach, przekraczaja¬ cych ilosc, potrzebna do- wytworzenia kwa¬ su podchlorawego, jednak nieprzekraoza- jacych zdolnosci absorpcyjnej In&L
2. 2. Sposób wedlug zaatra 1, znamienny tem, z& stasuje sie roztwory weglanów lub dwuweglanów albo mieszaniny wegjanów t odpowiedniemi wodotx)tlenkami Solvay fr GLe* Zastepca: In& F. Wkmickii Druk L. Boguslawskiego i Ski, Warszawa. PL