PL183918B1 - Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego - Google Patents

Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego

Info

Publication number
PL183918B1
PL183918B1 PL97338632A PL33863297A PL183918B1 PL 183918 B1 PL183918 B1 PL 183918B1 PL 97338632 A PL97338632 A PL 97338632A PL 33863297 A PL33863297 A PL 33863297A PL 183918 B1 PL183918 B1 PL 183918B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
electrode
lower electrode
active layer
signal
Prior art date
Application number
PL97338632A
Other languages
English (en)
Other versions
PL338632A1 (en
Inventor
Yoon J. Choi
Original Assignee
Daewoo Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daewoo Electronics Co Ltd filed Critical Daewoo Electronics Co Ltd
Priority to PL97338632A priority Critical patent/PL183918B1/pl
Priority claimed from PCT/KR1997/000015 external-priority patent/WO1998033327A1/en
Publication of PL338632A1 publication Critical patent/PL338632A1/xx
Publication of PL183918B1 publication Critical patent/PL183918B1/pl

Links

Landscapes

  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocą dwóch doprowadzanych sygnałów, znamienny tym, że zawiera podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające doprowadzony pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, elementy odbijające światło, które to elementy odbijające są zwierciadłami, oraz zawiera utworzone na podłożu urządzenia uruchamiające do przechylania elementów odbijających, przy czym każde z nich ma elektrodę dolnąodbierającąpierwszy sygnał, elektrodę górną przyporządkowaną elektrodzie dolnej, do odbioru drugiego sygnału, które to elektrody są skonfigurowane do generowania pola elektrycznego pomiędzy górną elektrodą i dolną elektrodą, odkształcalną przez pole elektryczne warstwę aktywną utworzoną pomiędzy elektrodą górną i elektrodą dolną oraz warstwę podporowąmającąpierwszączęść przymocowanąponiżej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza elektrodę dolną i odsłoniętą, przy czym element odbijający jest utworzony na drugiej części warstwy podporowej, a urządzenie uruchamiającejest przystosowane do przechylania elementu odbijającego, gdyjego warstwa aktywnajest odkształcona przez pole elektryczne.

Description

Przedmiotem wynalazku jest cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych, do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób jego wytwarzania, a w szczególności układ zwierciadeł cienkowarstwowych ruchomych do systemu projekcyjnego, zaopatrzony w urządzenie uruchamiające, które jest przemieszczane o określony kąt oraz element odbijający dla odbicia padającego światła, który to element jest wykonany niezależnie od urządzenia uruchamiającego oraz sposób wytwarzania wspomnianych elementów.
Zasadniczo, modulatory światła są podzielone na dwie grupy w zależności od ich systemów optycznych. Jeden rodzaj to bezpośredni modulator światła taki jak lampa obrazowa CRT, drugim rodzajem jest pośredni modulator światła, taki jak wyświetlacz ciekłokrystaliczny LCD. Lampa obrazowa wytwarza na ekranie doskonały pod względem jakości obraz, ale waga, wielkość oraz koszty produkcji lampy CRT zwiększają się wraz ze wzrostem wielkości ekranu. Wyświetlacz ciekłokrystaliczny LCD ma prostą strukturę optyczną, tak więc waga oraz wielkość
183 918 wyświetlacza LCD sąmniejsze niż w przypadku lampy CRT wyświetlającej obraz tej samej wielkości. Jednakże wyświetlacz LCD ma niskąwydajność świetlną, poniżej 1 -2%, wynikającąz polaryzacji emitowanego światła. Ponadto, występują problemy związane z samymi materiałami ciekłokrystalicznymi wyświetlacza, takie jak powolna reakcja na sygnały oraz przegrzewanie się.
Tak więc w celu przezwyciężenia powyższych problemów opracowano cyfrowe urządzenie zwierciadlane DMD oraz układ zwierciadeł ruchomych AMA. Obecnie urządzenie zwierciadlane DMD ma sprawność świetlną na poziomie około 5%, a układ zwierciadeł ruchomych AMA ma sprawność świetlną na poziomie powyżej 10%. Układ AMA zwiększa kontrast wyświetlanego obrazu, tak iż obraz na ekranie staje się bardziej widoczny i jaśniejszy. Układ AMA nie podlega wpływom polaryzacji światła, ani nie wpływa w żaden sposób na polaryzację światła, tak więc układ zwierciadeł ruchomych AMA ma większą sprawność świetlną niż wyświetlacz ciekłokrystaliczny LCD, czy też cyfrowe urządzenie zwierciadlane DMD.
Znane urządzenie projekcyjne z układem zwierciadeł .ruchomych przedstawiono w opisie patentowym nr US 5 126 836.
Urządzenie to jest zaopatrzone w układ zwierciadeł ruchomych AMA. Promień światła ze źródła światła przechodzi przez pierwszą szczelinę oraz pierwszy zespół soczewek, następnie rozdzielany jest na składowe promieniowanie czerwone, zielone i niebieskie według systemu reprezentacji koloru RGB. Po rozdzieleniu, wiązki światła w kolorze czerwonym, zielonym i niebieskim są odbijane za pomocą trzech luster, a światło odbite pada odpowiednio na trzy układy zwierciadeł ruchomych AMA, przyporządkowane trzem lustrom. Lustra zainstalowane w układach zwierciadeł ruchomych są przechylane w zależności od odkształcenia aktywnych warstw utworzonych pod lustrami. Światło odbite przez układy zwierciadeł ruchomych AMA przechodzi przez drugi zespół soczewek oraz drugą szczelinę, tworząc na ekranie obraz, z wykorzystaniem soczewek projekcyjnych.
W większości przypadków warstwę aktywną stanowi ZnO. Jednakże cyrkonian-tytanian ołowiu Pb(Zr,Ti)O3 ma lepsze własności piezoelektryczne niż ZnO. Cyrkonian-tytanian ołowiu jest całkowitym roztworem 'stałym cyrkonianu ołowiu PbZrO3 i tytanianu ołowiu PbTiO3. Cyrkonian-tytanian ołowiu zachowuje budowę regularną nawet w fazie paraelektrycznej w wysokich temperaturach. Cyrkonian-tytanian ołowiu zachowuje strukturę rombową w fazie antyferroelektrycznej, strukturę trygonalnącyrkonian-tytanian ołowiu zachowuje w fazie ferroelektrycznej, a strukturę tetragonalną yrkonian-tytanian ołowiu zachowuje w fazie ferromagnetycznej, zależnie od proporcji składników Zr oraz Ti w temperaturze pokojowej. Morfotropiczna granica faz MPB, fazy tetragonalnej i trygonalnej występuje w przypadku gdy skład został dobrany na poziomie Zr:Ti w proporcji 1:1. Cyrkonian-tytanian ołowiu posiada największe własności dielektryczne oraz maksymalne własności piezoelektryczne w stanie MPB. Stan MPB występuje w szerokim zakresie, w którym współistnieją fazy tetragonalna i trygonalna, ale nie występuje w szczególnych przypadkach dobrania proporcji zestawu składników. Obecnie nie ma zgodności co do zestawu składników przy którym współistnieeą fazy cyrkonianu-tytanianu ołowiu. Jako próba wyjaśnienia zjawiska występowania obszaru współistnienia faz zaproponowano różne teorie, takie jak stabilności termodynamicznej, fluktuacji składników, naprężeń wewnętrznych. Cienka warstwa cyrkonianu-tytanianu ołowiu jest wytwarzana przy wykorzystaniu wielu procesów, takich jak powlekanie spinowe, metaloorganiczne naparowywanie chemiczne, napylanie katodowe.
Układy zwierciadeł ruchomych AMA dzielą się zasadniczo na objętościowe układy AMA oraz cienkowarstwowe układy AMA.
Objętościowe układy AMA przedstawione sąw opisie patentowym nr US 5 469 302. W objętościowym układzie AMA, po osadzeniu na metalowych elektrodach ceramicznej płytki wykonanej z wielu warstw materiału ceramicznego, zespoły takie mocowane są na aktywnej matrycy zawierającej tranzystory, a lustra osadzane są na płytkach ceramicznych za pomocą docierania płytki ceramicznej. Technologia cienkowarstwowych układów AMA polega na wykorzystaniu technologii półprzewodnikowej.
183 918
Układ cienkowarstwowy zwierciadeł ruchomych AMA jest przedstawiony w opisie zgłoszenia patentowego USA numer 08/331,399. Cienkowarstwowy układ AMA zawiera aktywnąmatrycę, umieszczony na tej aktywnej matrycy element uruchamiający oraz lustro zainstalowane na elemencie uruchamiającym. Matryca aktywna ma podłoże, na którym zainstalowany jest układ MxN (gdzie Μ, N są liczbami całkowitymi) tranzystorów oraz układ MxN końcówek łączących, utworzonych na tranzystorach. Element uruchamiający ma element podporowy utworzony na matrycy aktywnej i otaczający końcówkę łączącą, ma elektrodę połączoną od dołu jej pierwszej części z elementem podporowym, której druga część jest usytuowana równolegle do matrycy aktywnej. Wewnątrz elementu podporowego jest utworzony przewód, który łączy końcówkę łączącą z elektrodą utworzoną na matrycy aktywnej. Na elektrodzie zainstalowane jest lustro odbijające padające światło, pochodzące ze źródła światła.
W znanym cienkowarstwowym układzie zwierciadeł ruchomych AMA natężenie światła odbitego od zwierciadłajest mniejsze niż natężenie światła padającego na ten układ AMA, biorąc pod uwagę powierzchnię układu AMA, ponieważ element podporowy jest większy niż część odbijająca zwierciadła. Jest tak, ponieważ element podporowy podczas pochylania zwierciadła jest większy niż część odbijająca zwierciadła, która aktualnie odbija światło padające na układ AMA, sprawność świetlna zmniejsza się w stosunku do aktualnej powierzchni układu AMA, tak więc jakość obrazu rzutowanego na ekran zmniejsza się. Ponadto, światło padające jest rozproszone w miejscach, w których występują elementy podporowe zwierciadła, które znajdują się w bezpośrednim sąsiedztwie części odbijającej zwierciadła, ponieważ światło padające jest także odbijane w miejscu, w którym znajduje się element podporowy'. Tak więc jakość obrazu wyświetlanego przez cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych AMA na ekranie, także ulega pogorszeniu.
Według wynalazku, cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocą dwóch doprowadzanych sygnałów, charakteryzuje się tym, że zawiera podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające doprowadzony pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, elementy odbijające światło, które to elementy odbijające są zwierciadłami, oraz zawiera utworzone na podłożu urządzenia uruchamiające do przechylania elementów odbijających, przy czym każde z nich ma elektrodę dolną odbierającąpierwszy sygnał, elektrodę górną przyporządkowaną elektrodzie dolnej, do odbioru drugiego sygnału, które to elektrody są skonfigurowane do generowania pola elektrycznego pomiędzy górną elektrodą i dolną elektrodą, odkształcalną przez pole elektryczne warstwę aktywną utworzoną pomiędzy elektrodą górną i elektrodą dolną oraz warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej elektrody dolnej oraz drugą część wystającąpoza elektrodę dołnąi odsłoniętą, przy czym element odbijający jest utworzony na drugiej części warstwy podporowej, a urządzenie uruchamiające jest przystosowane do przechylania elementu odbijającego, gdyjego warstwa aktywnajest odkształcona przez pole elektryczne.
Korzystnym jest, że urządzenie uruchamiające zawiera styk doprowadzający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do dolnej elektrody, który to styk jest utworzony w otworze, który sięga od części warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez elektrodę dolną oraz warstwę podporową
Korzystnym jest, że warstwa podporowajest utworzona ze sztywnego materiału, elektroda dolna jest utworzona z metalu przewodzącego prąd elektryczny, warstwa aktywna jest utworzona z materiału piezoelektrycznego lub materiału elektrostrykcyjnego, a elektroda górna jest utworzona z metalu przewodzącego prąd elektryczny i odblaskowego.
Korzystnym jest, że warstwa podporowajest utworzona z azotku lub metalu, elektroda dolna jest utworzona z platyny, tantalu lub platyno-tantalu, warstwa aktywna jest utworzona z cyrkonianu-tytanianu ołowiu Pb(Zr, Ti)O3, cyrkonianu-tytanianu ołowiu-lantanu (Pb, La) (Zr, Ti)O3 lub niobianu magnezowo-ołowiowego Pb(Mg, Nb)O3, a elektroda górna jest utworzona z aluminium, platyny lub srebra.
Korzystnym jest, że elektroda dolna, warstwa aktywna i elektroda górna ma kształt litery U, a druga część warstwy podporowej ma kształt prostokąta.
183 918
Korzystnym jest, że elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części warstwy podporowej, warstwa aktywna jest mniejsza od elektrody dolnej, a elektroda górna jest mniejsza od warstwy aktywnej.
Korzystnym jest, że element odbijający ma kształt prostokąta.
Korzystnym jest, że element odbijający światło jest utworzony z metalu odblaskowego.
Korzystnym jest, że element odbijający jest utworzony z platyny, aluminium lub srebra.
W odmiennym rozwiązaniu według wynalazku cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocądwóch doprowadzonych sygnałów, charakteryzuje się tym, że zawiera podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, elementy odbijające światło, które to elementy odbijające są zwierciadłami, oraz utworzone na podłożu urządzenia uruchamiające do przechylania elementów odbijających, przy czym każde z nich ma pierwszą część uruchamiającą mającą pierwszą elektrodę dolną odbierającą pierwszy doprowadzony sygnał, przy czym pierwsza elektroda dolna jest utworzona na pierwszej części podłoża, ma przyporządkowaną pierwszej elektrodzie dolnej pierwszą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generuj ącąpole elektryczne pomiędzy pierwszą elektrodą górną i pierwszą elektrodą dolną, oraz pierwszą warstwę aktywną utworzoną pomiędzy pierwszą elektrodą górną i odkształcalną przez pole elektryczne pierwszą elektrodą dolną, oraz ma drugą część uruchamiającą mającą drugą dolną elektrodę odbierającą pierwszy doprowadzony sygnał, przy czym druga elektroda dolna jest utworzona na drugiej części podłoża, ma przyporządkowaną drugiej elektrodzie dolnej drugą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generujący pole elektryczne pomiędzy drugą elektrodą górną i drugą elektrodą dolną, oraz drugą warstwę aktywną utworzoną pomiędzy drugą elektrodą górną i odkształcalną przez pole elektryczne drugą elektrodą dolną, ponadto ma warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej pierwszej elektrody dolnej oraz poniżej drugiej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza pierwszą elektrodę dolną oraz poza drugą elektrodę dolną i odsłoniętą, przy czym element odbijający światło jest utworzony na drugiej części warstwy podporowej, a urządzenie uruchamiające jest przystosowane do przechylania elementu odbijającego gdy jego pierwsza i druga warstwa aktywna jest odkształcona przez pole elektryczne.
Korzystnym jest, że pierwsza część uruchamiająca zawiera pierwszy styk doprowadzający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do pierwszej elektrody dolnej, który to pierwszy styk jest utworzony w pierwszym otworze, który sięga od części pierwszej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez pierwszą elektrodę dolną oraz warstwę podporową, a druga część uruchamiająca zawiera drugi styk doprowadzający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do drugiej elektrody dolnej, który to drugi stykjest utworzony w drugim otworze, który sięga od drugiej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez drugąelektrodę dolnąoraz warstwę podporową.
Korzystnym jest, że warstwa podporowa jest utworzona ze sztywnego materiału, pierwsza elektroda dolna oraz druga elektroda dolna są utworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna są utworzone z materiału piezoelektrycznego lub materiału elektrostrykcyjnego, a pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna są utworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny i odblaskowego.
Korzystnym jest, że warstwa podporowa jest utworzona z azotku lub metalu, pierwsza elektroda dolna i druga elektroda dolna sąutworzone z platyny, tantalu lub platyno-tantalu, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna sąutworzone z cyrkonianu-tytanianu ołowiu Pb(Zr, Ti)O3, cyrkonianu-tytanianu ołowiu-lantanu (Pb, La)(Zr, Ti)O3 lub niobianu magnezowo-ołowiowego Pb(Mg, Nb)O3 a pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna sąutworzone z aluminium, platyny lub srebra.
Korzystnym jest, że pierwsza elektroda dolna i druga elektroda dolna sąutworzone równolegle względem siebie, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna sąutworzone równolegle względem siebie i pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna są utworzone równolegle względem siebie, a druga część warstwy aktywnej ma kształt prostokąta.
183 918
Korzystnym jest, że pierwsza elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części warstwy podporowej, pierwsza warstwa aktywna jest mniejsza od pierwszej elektrody dolnej, a pierwsza elektroda górnajest mniejsza od pierwszej warstwy aktywnej, ponadto druga elektroda dolnajest mniejsza od drugiej części warstwy podporowej, druga warstwa aktywna jest mniejsza od drugiej elektrody dolnej, a druga elektroda górna jest mniejsza od drugiej warstwy aktywnej.
Korzystnym jest, że element odbijający ma kształt prostokąta.
Korzystnym jest, że element odbijający światło jest utworzony z metalu odblaskowego.
W drugim odmiennym rozwiązaniu według wynalazku, cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocą dwóch doprowadzonych sygnałów, charakteryzuje się tym, że zawiera podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające doprowadzony pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, elementy odbijające światło, które to elementy odbijające są zwierciadłami, oraz utworzone na podłożu urządzenia uruchamiające do przechylania elementów odbijających, przy czym każde z nich ma pierwszą część uruchamiającą mającą pierwszą elektrodę dolną odbierającąpierwszy doprowadzony sygnał, przy czym pierwsza elektroda dolna jest utworzona na pierwszej części podłoża, przyporządkowaną pierwszej elektrodzie dolnej pierwszą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generującą pole elektryczne pomiędzy pierwszą elektrodą górną i pierwsząelektrodądolną oraz pierwszą warstwę aktywnautworzonąpomiędzy pierwszą elektrodą górną i odkształcaną przez pole elektryczne pierwszą elektrodą dolną, pierwszą warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej pierwszej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza pierwszą elektrodę dolną i odsłoniętą, a ponadto ma drugą część uruchamiającą mającą drugą elektrodę dolną odbierającą pierwszy doprowadzony sygnał, przy czym druga elektroda dolna jest utworzona na drugiej części podłoża, przyporządkowaną drugiej elektrodzie dolnej drugą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generującą pole elektryczne pomiędzy drugą elektrodą górną i drugą elektrodą dolną, oraz drugą warstwę aktywną utworzoną pomiędzy drugą elektrodą górną i odkształcaną przez pole elektryczne drugą elektrodą dolną, oraz ma drugą warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej drugiej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza drugą elektrodę dolnąi odsłoniętą, przy czym element odbijający światło jest utworzony na drugiej części pierwszej warstwy podporowej i na drugiej części drugiej warstwy podporowej, a urządzenie uruchamiające jest przystosowane do przechylania elementu odbijającego światło, gdy pierwszą i druga warstwa aktywna jest odkształcona przez pole elektryczne.
Korzystnym jest, że pierwsza część uruchamiająca zawiera pierwszy styk przesyłający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do pierwszej elektrody dolnej, który to pierwszy styk jest utworzony w pierwszym otworze, który sięga od części pierwszej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez pierwszą elektrodę dolną oraz pierwszą warstwę podporową, a druga część uruchamiająca zawiera drugi styk przesyłający pierwszy doprowadzony sygnał od końcówki łączącej do drugiej elektrody dolnej, który to drugi styk jest utworzony w drugim otworze, który sięga od części drugiej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez drugą elektrodę dolną oraz drugą warstwę podporową.
Korzystnym jest, że pierwsza warstwa podporowa i druga warstwa podporowa sąutworzone ze sztywnego materiału, pierwsza elektroda dolna i druga elektroda dolna są utworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna są utworzone z materiału piezoelektrycznego lub elektrostrykcyjnego, a pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna sąutworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny i odblaskowego.
Korzystnym jest, że pierwsza elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części pierwszej warstwy podporowej,' pierwsza warstwa aktywna jest mniejsza od pierwszej elektrody dolnej, a pierwsza elektroda górna jest mniejsza od pierwszej warstwy aktywnej, ponadto druga elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części drugiej warstwy podporowej, druga warstwa aktywna jest mniejsza od drugiej elektrody dolnej, a druga elektroda górna jest mniejsza od drugiej warstwy aktywnej.
Korzystnym jest, że element odbijający światło ma kształt prostokąta.
183 918
Korzystnym jest, że element odbijający światło jest utworzony z metalu odblaskowego.
Sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocą dwóch doprowadzanych sygnałów, według wynalazku charakteryzuje się tym, że dostarcza się podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, formuje się pierwszą warstwę na podłożu, na tej pierwszej warstwie formuje się warstwę elektrody dolnej, na której formuje się drugą warstwę z materiału odkształcalnego przez pole elektryczne, na której z kolei formuje się warstwę elektrody górnej, następnie formuje się urządzenia uruchamiające przechylające ruchome zwierciadła układu, przy czym każde urządzenie uruchamiające kształtuje się przez odwzorowanie warstwy elektrody górnej tak aby utworzyła elektrodę górną urządzenia uruchamiającego odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generującą pole elektryczne, przez odwzorowanie drugiej warstwy tak, aby utworzyła warstwę aktywną urządzeni a uruchamiającego odkształcalną przez pole elektryczne, przez odwzorowanie warstwy elektrody dolnej tak aby utworzyła elektrodę dolną urządzenia uruchamiającego oraz przez odwzorowanie pierwszej warstwy tak, aby utworzyła warstwę podporową urządzenia uruchamiającego mającą pierwszą część połączoną poniżej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza elektrodę dolną i odsłoniętą, następnie formuje się otwór sięgający od części warstwy aktywnej do końcówki łączącej, w otworze tym formuje się styk łączący elektrodę dolną z końcówką łączącą oraz na drugiej części warstwy podporowej formuje się element odbijający światło, będący zwierciadłem.
Korzystnym jest, że formowanie pierwszej warstwy przeprowadza się z zastosowaniem metody niskociśnieniowego chemicznego osadzania z pary, z wykorzystaniem azotku lub metalu.
Korzystnym jest, że formowanie warstwy elektrody dolnej przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego osadzania z pary, z wykorzystaniem platyny, tantalu, lub platyno-tantalu, a formowanie warstwy elektrody górnej przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego osadzania z pary, z wykorzystaniem aluminium, platyny lub srebra.
Korzystnym jest, że formowanie drugiej warstwy przeprowadza się z zastosowaniem metody zolu-żelu, napylania katodowego, lub metody chemicznego osadzania z pary, przy wykorzystaniu cyrkonianu-tytanianu ołowiu Pb(Zr, Ti)O3, cyrkonianu-tytanianu ołowiu-lantanu (Pb, La) (Zr, Ti)O3 lub niobianu magnezowo-ołowiowego Pb(Mg, Nb)O3.
Korzystnym jest, że podczas formowania drugiej warstwy dodatkowo przeprowadza się wyżarzanie drugiej warstwy z zastosowaniem metody szybkiego wyżarzania termicznego i poleruje się tę drugą warstwę.
Korzystnym jest, że formowanie styku przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub chemicznego osadzania z pary przy wykorzystaniu metalu przewodzącego prąd elektryczny.
Korzystnym jest, że formowanie elementów odbijających światło przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego osadzania z pary przy wykorzystaniu platyny, aluminium lub srebra.
W cienkowarstwowym układzie zwierciadeł ruchomych AMA wykonanym według wynalazku, pierwszy sygnał jest doprowadzony do elektrody dolnej poprzez wkładkę panelu układu AMA, przewody instalacyjne, końcówki łączące oraz styk. Jednocześnie, drugi sygnałjest doprowadzony do elektrody górnej poprzez wkładkę panelu układu AMA i linię wspólną. Tak więc, pomiędzy elektrodą górną i elektrodą dolnąwytworzone zostaje pole elektryczne. Aktywna warstwa utworzona pomiędzy elektrodą górną i elektrodą dolną zostaje odkształcona przez pole elektryczne. Aktywna warstwa jest odkształcana w kierunku prostopadłym do pola elektrycznego. Urządzenie uruchamiające zawierające warstwę aktywnąjest przemieszczane w kierunku przeciwnym do miejsca, w którym znajduje się warstwa podporowa. Tak więc, urządzenie uruchamiające podnosi warstwę aktywną do góry, a warstwa podporowa przymocowana do części elektrody dolnej jest także podnoszona do góry wraz z przechylającym się urządzeniem uruchamiającym.
183 918
W centralnej części warstwy podporowej utworzony jest element odbijający. Element odbijający światło padające, pochodzące ze źródła światła, jest poruszany za pomocą urządzenia uruchamiającego. Tak więc element odbijający światło kieruje je na ekran, tak że na ekranie utworzony zostaje obraz.
Tak więc, cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych w projekcyjnym systemie optycznym według wynalazku, zawiera urządzenie uruchamiające przemieszczające się o określony kąt oraz element odbijający światło padające, który jest utworzony niezależnie od urządzenia uruchamiającego, przy czym znacznie zwiększa się sprawność świetlnąprzez zminimalizowanie powierzchni zajmowanej przez urządzenie uruchamiające i zmaksymalizowanie powierzchni zajmowanej przez element odbijający, tak że jakość obrazu wyświetlanego na ekranie została w sposób znaczący podwyższona.
Przedmiot wynalazku w przykładach wykonania jest odtworzony na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schematycznie znany system projekcyjny z układem zwierciadeł ruchomych, fig. 2 - przekrój poprzeczny stosowanego dotychczas cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, fig. 3a do 3C przedstawiają przekroje poprzeczne fragmentu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych z fig. 2, fig. 4 przedstawia widok z góry cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych w pierwszym przykładzie wykonania wynalazku, fig. 5 - perspektywiczny widok cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych z fig. 4, fig. 6 - przekrój poprzeczny wzdłuż linii Al -A2 z fig. 5, fig. 7 do 12B przedstawiają odpowiednio przekroje poprzeczne i odpowiednio widoki perspektywiczne przykładów wykonania fragmentu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, w pierwszymprzykładzie wykonania wynalazku, fig. 13 przedstawia widok z góry cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym w drugim przykładzie wykonania wynalazku, fig. 14 - perspektywiczny widok cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym z fig. 13, fig. 15 przekrój poprzeczny wzdłuż linii B 1 -B2 z fig. 14, fig. 16 do 20B przedstawiają odpowiednio przekroje poprzeczne i odpowiednio widoki perspektywiczne przykładów wykonania fragmentu cienko- warstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, w drugim przykładzie wykonania wynalazku, fig. 21 przedstawia widok z góry cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, w trzecim przykładzie wykonania wynalazku, fig. 22 - widok perspektywiczny cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych z fig. 21, a fig. 23 przedstawia przekrój poprzeczny wzdłuż linii C- C2z fig. 22.
Na fig. 1 przedstawiono schematycznie konwencjonalny system projekcyjny z układem zwierciadeł ruchomych AMA. Promień padającego światła ze źródła światła 1 przechodzi przez pierwszą szczelinę 3 oraz pierwszy zespół soczewek 5, a następnie zostaje rozdzielony na trzy wiązki światła: czerwoną, zielonąi niebieska, według systemu reprezentacji koloru RGB. Po rozdzieleniu wiązki światła w kolorze czerwonym, zielonym i niebieskim są odpowiednio odbijane przez pierwsze zwierciadło 7, drugie zwierciadło 9, oraz trzecie zwierciadło 11. Światło odbite pada odpowiednio na układy zwierciadeł ruchomych AMA 13,15,17 przyporządkowane zwierciadłom 7,9 i 11. Układy AMA 13,15 i 17 przechylają zwierciadła w nich zainstalowane, tak że światło zostaje odbite przez zwierciadła. W takim przypadku, zwierciadła zainstalowane w układach AMA 13,15, i 17 sąpochylane przez odkształcenie aktywnych warstw utworzonych pod zwierciadłami. Światło odbite przez układy AMA 13,15 i 17 przechodzi przez drugi zespół soczewek 19 oraz drugą szczelinę 21, tworząc obraz na ekranie (nie przedstawionym), za pomocą soczewek projekcyjnych 23.
Na fig. 2 przedstawiono przekrój poprzeczny cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych AMA dotychczas stosowanego w urządzeniach projekcyjnych. Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych zawiera aktywną matrycę 30, urządzenie uruchamiające 50 umieszczone na aktywnej matrycy 30 oraz zwierciadło 53 zainstalowane na urządzeniu uruchamiającym 50. Aktywna matryca 30 ma podłoże 33, układ MxN tranzystorów (nie pokazanych),
183 918 zainstalowanych w podłożu 33 oraz układ MxN końcówek łączących 35 utworzonych na tranzystorach.
Urządzenie uruchamiające 50 ma element podporowy 39 utworzony na aktywnej matrycy 30 i otaczający końcówkę łączącą35, ma drugą elektrodę 41, której dolna powierzchnia pierwszej części jest połączona z elementem podporowym 39, a jej druga część jest usytuowana równolegle do aktywnej matrycy 30. Wewnątrz elementu podporowego 39 jest utworzony przewód 37, który łączy końcówkę łącząca 35 z drugą elektrodą 41. Na drugiej elektrodzie 41 jest utworzona aktywna warstwa 43, a na aktywnej warstwie jest utworzona pierwsza elektroda 47. Zwierciadło 53 zainstalowane na drugiej elektrodzie 47 odbija padające światło, pochodzące ze źródła światła.
Na fig. od 3A do 3C przedstawiono przekroje poprzeczne fragmentów cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych z fig. 2, dla zilustrowania etapów wytwarzania układu. Na wstępie tworzy się aktywną matrycę 30, która zawiera podłoże 33 w którym utworzono układ MxN tranzystorów (nie pokazanych). Na tranzystorach wykonuje się układ MxN końcówek łączących 35. Następnie, po utworzeniu na aktywnej matrycy 30 warstwy protektorowej 55, tę warstwę protektorową 55 kształtuje się w taki sposób aby odsłonić te miejsca aktywnej matrycy 30, w których znajdują się końcówki łączące 35. Warstwa protektorowa 55 może być usunięta przy wykorzystaniu związków chemicznych lub przez wytrawianie.
Jak przedstawiono na fig. 3B, element podporowy 39 jest utworzony w odsłoniętych obszarach aktywnej matrycy 30 przy zastosowaniu napylania katodowego, lub metody chemicznego naparowywania. Następnie, po utworzeniu otworu w elemencie podporowym 39, formuje się w nim przewód 37, przez wypełnienie otworu przewodzącym elektrycznie materiałem, na przykład wolframem. Przewód 37 łączy elektrycznie końcówkę łączącą35 z drugąelektrodą41, utworzoną w następnej kolejności. Druga elektrodą 41 utworzona jest na elemencie podporowym 39 oraz na warstwie protektorowej 55, z materiału przewodzącego elektrycznie, takiego jak złoto (AU) lub srebro (Ag). Z materiału piezoelektrycznego na drugiej elektrodzie 41 utworzona zostaje aktywna warstwa 43, korzystnie z cyrkonianu-tytanianu ołowiu. Pierwsza elektroda 47 zostaje utworzona na aktywnej warstwie 43 z materiału przewodzącego elektrycznie, takiego jak złoto (Au) lub srebro (Ag).
Tranzystor umieszczony w aktywnej matrycy 30 przekształca sygnał obrazu który jest wywoływany przez światło padające ze źródła światła na sygnał prądowy obrazu. Prądowy sygnał obrazu jest doprowadzony do drugiej elektrody 41 poprzez końcówkę łączącą 35 i przewód 37. Jednocześnie, prąd polaryzacji pochodzący z linii wspólnej (nie pokazanej) utworzonej na spodzie aktywnej matrycy 30 jest doprowadzony do pierwszej elektrody 47, tak więc utworzone zostaje pole elektryczne pomiędzy pierwszą elektrodą 47 i drugą elektrodą 41. Aktywną warstwa 43 utworzona pomiędzy pierwszą elektrodą 47 i drugą elektrodą 41 zostaje odchylona przez pole elektryczne. Zwierciadło 53 jest uformowane na pierwszej elektrodzie 47 i odbija światło padające pochodzące ze źródła światła.
Jak przedstawiono na fig. 3C, zwierciadło 53, pierwsza elektroda 47, aktywna warstwa 43 i druga elektroda 41 są ukształtowane tak, że tworząukład MxN pikseli o określonych kształtach. W konsekwencji, po usunięciu warstwy protektorowej 55 przez trawienie, piksele te są płukane i suszone dla zakończenia procesu produkcji cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych AMA.
Na fig. 4 przedstawiono widok z góry cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, w pierwszym przykładzie wykonania według wynalazku. Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych według wynalazku zawiera podłoże 100, urządzenie uruchamiające 170 utworzone na podłożu 100 oraz element odbijający 160 zainstalowany w części centralnej urządzenia uruchamiającego 170.
Jak przedstawiono na fig. 5 i 6 podłoże 100 zaopatrzone w przewody instalacyjne (nie pokazane) zawiera końcówkę łączącą 105 utworzoną na przewodach instalacyjnych, pasywacyjną warstwę 110 nałożoną na podłoże 100 i na końcówkę łączącą 105 oraz warstwę powstrzymującą wytrawienie 115 nałożoną na pasywacyjną warstwę 110.
183 918
Urządzenie uruchamiające 170 ma dolną elektrodę 125, aktywną warstwę 130 utworzoną na dolnej elektrodzie 125, górną elektrodę 140 utworzoną na aktywnej warstwie 130 oraz warstwę podporową 120 posiadającą pierwszą część przymocowaną poniżej dolnej elektrody 125 oraz drugą część wystającą poza dolną elektrodę 125. W otworze 145 utworzony jest styk 150, który sięga od części aktywnej warstwy 130 do końcówki łączącej 105 poprzez dolną elektrodę 125.
Krańcowe części obu bocznych odcinków warstwy podporowej 120 są częściowo przymocowane do podłoża 100. Boczne odcinki warstwy podporowej 120 są uformowane równolegle do części przymocowanej. Część centralna warstwy podporowej 120 jest utworzona integralnie z bocznymi odcinkami pomiędzy nimi. Część centralna warstwy podporowej 120 ma kształt prostokąta. Dolna elektroda 125 utworzona jest na części centralnej oraz na odcinkach bocznych warstwy podporowej 120. Dolna elektroda 125 ma kształt litery U. Aktywna warstwa 130 jest mniejsza niż dolna elektroda 125 i ma taki sam kształtjak dolna elektroda 125. Górna elektroda 140 jest mniejsza niż aktywna warstwa 130 i ma ten sam kształt jak aktywna warstwa 130.
Element odbijający 160 światło padające, utworzonyjest w centralnej części warstwy podporowej 120. Element odbijający 160 ma określoną grubość począwszy od powierzchni warstwy podporowej 120 do części aktywnej warstwy 130. Korzystnie, element odbijający 160 ma kształt prostokąta, a elementem odbijającym 160 jest zwierciadło.
Na fig. 7 do 12B przedstawiono przekroje poprzeczne i widoki perspektywiczne przykładów wykonania fragmentu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, dla zilustrowania etapów sposobu wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, według pierwszego przykładu wykonania wynalazku. Pasywacyjna warstwa 110 zostaje nałożona na podłoże 100 posiadające w swej strukturze elektryczne przewody instalacyjne (nie pokazane) oraz końcówki łączące 105. Przewody instalacyjne oraz końcówki łączące 105 odbierają z zew- nątrz pierwszy sygnał, tojest prądowy sygnał obrazu i przesyłąjąten sygnał do dolnej elektrody 125. Korzystnie, przewody instalacyjne zawierają tranzystor MOS umożliwiający dokonanie operacji przełączania. Końcówka łącząca 105 jest wykonana z metalu, na przykład wolframu (W). Końcówka łącząca 105 jest elektrycznie połączona z przewodami instalacyjnymi. Warstwa pasywacyjna 110 jest wykonana ze szkliwa fosforowo-krzemowego. Warstwa pasywacyjna 110 może by wykonana przy wykorzystaniu chemicznego naparowywania i ma grubość około 0,1 pm do 1,0 pm. Warstwa pasywacyjna 110 osłania podłoże 100 mające elektryczne przewody instalacyjne oraz końcówki łączeniowe 105 podczas realizacji kolejnych etapów wytwarzania.
Warstwa powstrzymująca wytrawianie 115 jest nałożona na warstwę pasywacyjna 110 przy wykorzystaniu azotku w taki sposób, że warstwa powstrzymująca wytrawianie 115 ma grubość pomiędzy 1000A, a 2000A. Warstwa powstrzymująca wytrawianie 115 jest korzystnie wykonana za pomocą chemicznego niskociśnieniowego naparowywania. Warstwa zabezpieczająca przed wytrawianiem 115 ochrania warstwę pasywacyjną 110 i podłoże 100 podczas kolejnych etapów wytwarzania.
Warstwa protektorowa 117 jest nakładana na warstwę powstrzymującą wytrawianie 115 przy wykorzystaniu szkliwa fosforowo-krzemowego. Warstwa protektorowa 117 jest wykonana przy zastosowaniu metody chemicznego naparowywania w warunkach ciśnienia atmosferycznego, przy czym warstwa protektorowa 117 ma grubość pomiędzy 0,5 pm do 4,0 pm. W tym przypadku, stopień spłaszczenia warstwy protektorowej 117 jest niewielki, ponieważ warstwa protektorowa 117 pokrywa górną część 'podłoża 100 mającego przewody instalacyjne i końcówkę łączącą 105. Tak więc powierzchnia warstwy protektorowej 117 jest wyrównywana przy wykorzystaniu spinowego wytapiania szkła, lub przy wykorzystaniu chemiczno mechanicznego polerowania. Następnie pierwsza część warstwy protektorowej 117 zawierająca utworzoną w niej końcówkę łączącą 105 oraz druga część warstwy protektorowej 117, która sąsiaduje z pierwszą częścią warstwy protektorowej 117 zostają ukształtowane tak, aby odsłonić pierwszą część warstwy powstrzymującej wytrawianie 115 zawierającej w swojej strukturze końcówkę łączącą 105 oraz drugą część warstwy powstrzymującej wytrawianie 115, która sąsiaduje z pierwszą częścią warstwy powstrzymującej wytrawianie 115, odpowiadającą kształtem formie warstwy podporowej 120.
183 918
Jak przedstawiono na fig. 8, na pierwszej i drugiej części warstwy powstrzymującej wytrawianie 115 oraz na warstwie protektorowej 117 jest utworzona pierwsza warstwa 119 z zastosowaniem sztywnego materiału, na przykład azotku lub metalu. Pierwsza warstwa 119 jest osadzona metodą chemicznego naparowywania w warunkach niskiego ciśnienia, a jej grubość mieści się w granicach 0,1 gm -1,0 gm. Uformowana pierwsza warstwa 119 tworzy warstwę podporową 120.
Warstwa dolnej elektrody 124 jest nałożona na pierwszą warstwę 119, a utworzona jest z przewodzącego elektrycznie metalu takiego jak platyna (Pt), tantal (Ta), lub platyno-tantal (Pt-Ta). Warstwa dolnej elektrody 124 jest utworzona za pomocą napylania katodowego lub metodąchemicznego naparowywania, ajej grubość mieści się w granicach 0,1 gm -1,0 gm. Warstwa dolnej elektrody 124 po uformowaniu tworzy pierwszą dolną elektrodę 125.
Na warstwę dolnej elektrody dolnej 124 jest nałożona druga warstwa 129 utworzona z materiału piezoelektrycznego, korzystnie z cyrkonianu-tytanianu ołowiu (Pb (Zr, TJO3) lub z cyrkonianu-tytanianu ołowiu-lantanu ((Pb, La) (Zr, Ti)O3), a jej grubość mieści się w przedziale pomiędzy 0,1 gm -1,0 gm. Korzystnie, druga warstwa 129 ma grubość 0,4 gm. Druga warstwa 129 jest wykonana z materiału elektrostrykcyjnego, np. niobianu magnezowo-ołowiowego (Pb(Mg, Nb)O3). Po utworzeniu drugiej warstwy 129 z zastosowaniem metody zolu-żelu, metody napylania katodowego lub chemicznego naparowywania, wyżarza się ją metodą szybkiego wyżarzania termicznego. Następnie druga warstwa 129 jest polerowana. Po obróbce druga warstwa tworzy aktywną warstwę 130.
Warstwa górnej elektrody 139 nakładana jest na drugą warstwę 129. Warstwa górnej elektrody 139 jest utworzona z metalu przewodzącego elektrycznie i odbijającego, na przykład aluminium (Al), platyny, lub srebra (Ag). Warstwa górnej elektrody 139 jest utworzona metodą napylania katodowego lub metodą chemicznego naparowywania, a jej grubość mieści się w granicach 0,1 gm, a 1,0 gm. Uformowana warstwa górnej elektrody 139 tworzy górną elektrodę 140.
Na fig. 9A zilustrowano stan, w którym kształtowanajest warstwa górnej elektrody 139, druga warstwa 129, warstwa dolnej elektrody 124, a na fig. 9B przedstawiono konstrukcję z fig. 9A w częściowym perspektywicznym widoku.
Po nałożeniu pierwszego fotorezystu (nie przedstawionego) na górnej powierzchni warstwy górnej elektrody 139 przy zastosowaniu metody powlekania spinowego, warstwa górnej elektrody 139 jest formowana tak, że tworzy górną elektrodę 140 przez wykorzystanie pierwszego fotorezystu jako maski trawiennej. W rezultacie, górna elektroda 140 przyjmuje kształt litery U. Drugi sygnał, to jest prądowy sygnał polaryzacji, zostaje doprowadzony do górnej elektrody 140 dla wygenerowania pola elektrycznego pomiędzy górną elektrodą 140 i dolną elektrodą 125. Drugi fotorezyst (nie przedstawiony) zostaje nałożony na górną elektrodę 140 oraz na drugą warstwę 129, przy zastosowaniu powlekania spinowego, po usunięciu pierwszego fotorezystu, usuniętego w procesie wytrawiania. Uformowana druga warstwa 129 tworzy aktywną warstwę 130 przy wykorzystaniu drugiego fotorezystu jako maski trawiennej. Aktywna warstwa 130 ma kształt litery U, która jest szersza niż górna elektroda 140. Trzeci fotorezyst (nie przedstawiony) nałożony zostaje na górną elektrodę 140, na aktywną warstwę 130 oraz na warstwę dolnej elektrody 124, z zastosowaniem powlekania spinowego, po tym jak drugi fotorezyst zostaje usunięty podczas wytrawiania. Warstwa dolnej elektrody 124 zostaje ukształtowana w taki sposób, że tworzy dolną elektrodę 125 przy wykorzystaniu trzeciego fotorezystu jako maski trawiennej. Dolna elektroda 125 ma kształt litery U, która jest szersza od aktywnej warstwy 130. Następnie trzeci fotorezyst zostaje usunięty w procesie wytrawiania. Tak więc, jeśli pierwszy sygnał zostaje przyłożony do dolnej elektrody 125, a drugi sygnał jest przyłożony do górnej elektrody 140, wytworzone zostaje pole elektryczne pomiędzy tymi elektrodami, a aktywna warstwa 130 zostaje odkształcona przez pole elektryczne.
Na fig. 10A przedstawiono stan, w którym tworzony jest styk 150, a fig. 10B jest częściowym perspektywicznym widokiem struktury z fig. 10A. Części aktywnej warstwy 130, dolna elektroda 125, pierwsza warstwa 119, warstwa powstrzymująca wytrawianie 115 oraz warstwa pasywacyjna 110, są wytrawiane tak że powstaje otwór 145 sięgający od części warstwy aktywnej 130,
183 918 do końcówki łączącej 105. Styk 150 jest tworzony wewnątrz otworu 145 przy wykorzystaniu materiału przewodzącego elektrycznie, np. wolframu (W), platyny, aluminium czy tytanu. Styk 150 tworzy się z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego naparowywania, także styk 150 sięga od końcówki łączącej 105 do dolnej elektrody 125. Styk 150 łączy dolną elektrodę 125 z końcówką łączącą 105. Pierwszy sygnał przykładany jest z zewnątrz do dolnej elektrody 125 poprzez przewody instalacyjne, końcówkę łączącą 105 oraz styk 150. Jednocześnie, gdy drugi sygnał przykładany jest do górnej elektrody 140 poprzez linię wspólną (nie przedstawioną), pomiędzy górną elektrodą 140 i dolną elektrodą 125 wygenerowane zostaje pole elektryczne. Aktywna warstwa 130 utworzona pomiędzy górną elektrodą 140 i dolną elektrodą 125 zostaje odkształcona przez pole elektryczne.
Na fig. 11A zilustrowano stan, w którym pierwsza warstwa 119 jest kształtowana, a fig. 11B jest częściowym perspektywicznym widokiem struktury z fig. 11A. Pierwsza warstwa 119 zostaje ukształtowana tak, że tworzy warstwę podporową 120, przy wykorzystaniu czwartego fotorezystu (nie przedstawionego), jako maski trawiennej, po tym jak fotorezyst zostaje nałożony na dolną elektrodę 125 oraz na powierzchnię ograniczającą otwór 145 przy wykorzystaniu metody powlekania spinowego. Warstwa podporowa 120 ma boczne odcinki oraz część centralną. Krańce bocznych odcinków warstwy podporowej 120 są częściowo przymocowane do podłoża 100. Boczne odcinki warstwy podporowej 120 są tworzone równolegle i powyżej warstwy powstrzymującej wytrawianie 115, poczynając od punktów zamocowania. Część centralna warstwy podporowej 120 jest utworzona integralnie wraz z odcinkami bocznymi, pomiędzy nimi. Część centralna warstwy podporowej 120 ma kształt prostokąta. Następnie czwarty fotorezyst zostaje usunięty w procesie wytrawiania. Po ukształtowaniu pierwszej warstwy 119 odsłonięta zostaje część warstwy protektorowej 117.
Na fig. 12A przedstawiono stan, w którym w centralnej części warstwy podporowej utworzony zostaje element odbijający 160, a fig. 12B jest częściowym perspektywicznym widokiem struktury z fig. 12A. Po nałożeniu piątego fotorezystu (nie przedstawionego) na odsłonięte części warstwy protektorowej 117 oraz warstwy podporowej 120 przy wykorzystaniu metody powlekania spinowego, piąty fotorezyst jest kształtowany tak, że odsłania centralną część warstwy podporowej 120. Element odbijający 160 zostaje utworzony w centralnej części warstwy podporowej 120, z materiału odblaskowego takiego jak srebro, platyna, czy aluminium. Element odbijający 160 jest tworzony przy wykorzystaniu napylania katodowego lub metody chemicznego naparowywania, a grubość elementu odbijającego 160 mieści się w granicach 0,3 pm - 2,0 pm. Element odbijający 160 ma taki sam kształt jak część centralna warstwy podporowej 120 i odbija światło padające, pochodzące ze źródła światła (nie przedstawionego). Następnie piąty fotorezyst oraz warstwa protektorowa 117 zostają usunięte przy wykorzystaniu fluorku wodoru (HF), przy czym struktura urządzenia uruchamiającego j est kompletna. Gdy warstwa protektorowa 117 zostaj e usunięta, w miejscu w którym ona się znaj dowała, powstaje szczelina powietrzna 118.
Gdy podłoże 100 zaopatrzone w urządzenie uruchamiające 170 zostaje przemyte i osuszone, u podstawy podłoża 100 utworzony zostaje z chromu (Cr), niklu (Ni) lub złota (Au) kontakt liniowy (nie pokazany). Kontakt liniowy jest tworzony przy wykorzystaniu napylania katodowego lub przez odparowywanie. Podłoże 100 jest wycięte tak, że przygotowane jest na osadzenie pakietu wtyczki końcowej taśmy, umożliwiającej przyłożenie pierwszego sygnału do elektrody dolnej 125 oraz przyłożenie drugiego sygnału do elektrody górnej 140. W tym przypadku, podłoże 100 jest wycięte na określoną głębokość w celu przygotowania do wykonania kolejnych etapów produkcyjnych. Następnie zostaje dołączona wkładka panelu (nie przedstawiona) cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych oraz wtyczka końcowa (nie przedstawiona), tak że moduł cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych jest kompletny.
Obecnie opisana zostanie zasada pracy cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, w pierwszym przykładzie wykonania wynalazku. Pierwszy sygnał jest przykładany poprzez wkładkę wtykową do elektrody dolnej 125, poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, przewody instalacyjne, końcówki łączące 105, oraz styk 150. Jednocześnie, drugi sygnał jest przykładany do
183 918 elektrody górnej 140 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych oraz linię wspólną. Tak więc pomiędzy elektrodą górną 140 i elektrodą dolną 125 wytworzone zostaje pole elektryczne. Warstwa aktywna 130 utworzona pomiędzy górną elektrodą 140 i dolną elektrodą 125 zostaje odkształcona przez pole elektryczne. Warstwa aktywna 130 zostaje odkształcona w kierunku prostopadłym do pola elektrycznego. Urządzenie uruchamiające 170 zawierające warstwę aktywną 130 zostaje odchylone w kierunku przeciwnym do pozycji w której znajduje się warstwa podporowa 120. Tak więc urządzenie uruchamiające 170 posiadające warstwę aktywną 130 jest unoszone do góry, a warstwa podporowa 120 przymocowana do spodu elektrody dolnej 125 jest także podnoszona do góry wraz z przechyleniem się urządzenia uruchamiającego 170.
W centralnej części warstwy podporowej 120 umieszczony jest element odbijający 160, odbija padające światło pochodzące ze źródła światła. Jest on przechylany wraz z przechyleniem się urządzenia uruchamiającego 170. Tak więc element odbijający 160 odbija światło na ekran, na którym zostaje utworzony obraz.
Drugi przykład wykonania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych według wynalazku, przedstawiono na fig. 13 - 20. Na fig. 13 przedstawiono w widoku z góry cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych, stosowany w projekcyjnym systemie optycznym, który zawiera podłoże 200, urządzenie uruchamiające 280 utworzone na podłożu 200, element odbijający 290 zainstalowany na urządzeniu uruchamiającym 280.
Urządzenie uruchamiające 280 ma pierwszą część uruchamiającą281 utworzoną na pierwszej części podłoża 200 oraz drugą część uruchamiającą 282 utworzoną na drugiej części podłoża 200. Element odbijający 290 jest utworzony pomiędzy pierwszą częścią uruchamiającą 281 i drugą częścią uruchamiającą 282.
Jak przedstawiono na fig. 14 i 15, podłoże 200, w którym zainstalowano przewody instalacyjne (nie przedstawione), posiada utworzone ponad tymi przewodami końcówki łączące 205, warstwę pasywacyjną210 nałożoną na podłoże 200 oraz na końcówki łączące 205, oraz warstwę powstrzymującą wytrawianie 215 nałożoną na warstwę pasywacyyną210.
Krańce obu bocznych odcinków warstwy podporowej 220 są częściowo połączone z podłożem 200. Odcinki boczne warstwy podporowej 220 są utworzone równolegle do siebie począwszy od części przymocowanych. Część centralna warstwy podporowej 220 jest utworzona integralnie wraz z odcinkami bocznymi, pomiędzy nimi. Część centralna warstwy podporowej 220 ma kształt prostokąta. Pomiędzy warstwą powstrzymującą wytrawianie 215 i warstwą podporową znajduj e się szczelina powietrzna 218. Pierwsza część uruchamiająca 281 jest utworzona na pierwszym odcinku bocznym warstwy podporowej 220, druga część uruchamiająca 282 jest utworzona na drugim odcinku bocznym warstwy podporowej 220.
Pierwsza część uruchamiająca 281 oraz druga część uruchamiająca 282 sąutworzone równolegle do siebie na warstwie podporowej 220. Pierwsza część uruchamiająca 281 ma pierwszą dolną elektrodę 231 utworzoną na pierwszym odcinku bocznym warstwy podporowej 220, pierwszą warstwę aktywną241 utworzonąna pierwszej elektrodzie dolnej 231 oraz pierwszą elektrodę górną 251 utworzoną na pierwszej warstwie aktywnej 241. Pierwszy styk 271 utworzony jest wewnątrz pierwszego otworu 261, który sięga od części pierwszej warstwy aktywnej 241 do końcówki łączącej 205 poprzez pierwszą elektrodę dolną231, pierwszy odcinek boczny warstwy podporowej 220, warstwę powstrzymującą wytrawianie 215 oraz warstwę pasywacyyną210.
Druga część uruchamiająca 282 ma taki sam kształt jak pierwsza część uruchamiająca 281. Druga część uruchamiająca 282 ma drugą elektrodę dolną 232 utworzonąna drugim odcinku bocznym warstwy podporowej 220, drugą warstwę aktywną 242 utworzonąna drugiej elektrodzie dolnej 232 oraz drugą elektrodę górną 252 utworzoną na drugiej warstwie aktywnej 242. Drugi styk 272 utworzony jest wewnątrz drugiego otworu 262, który sięga od części drugiej warstwy aktywnej 242 do końcówki łączącej 205 poprzez drugą elektrodę dolną 232, drugi odcinek boczny warstwy podporowej 220, warstwę powstrzymującąwytrawianie 215 i warstwę pasywacyjną210.
Pierwsza elektroda dolna 231 oraz druga elektroda dolna 232 są odpowiednio utworzone na pierwszym i drugim odcinku bocznym warstwy podporowej 220. Tak więc odcinki boczne
183 918 warstwy podporowej 220 są odpowiednio przymocowane poniżej pierwszej elektrody dolnej 231, oraz drugiej elektrody dolnej 232, a część centralna warstwy podporowej 220 wystaje poza pierwszą elektrodę dolną231 oraz drugą elektrodę dolną232. Pierwsza elektroda dolna 231 oraz druga elektroda dolna 232 są utworzone równolegle względem siebie. Pierwsza warstwa aktywna 241 oraz druga warstwa aktywna 242 są utworzone odpowiednio, na pierwszej elektrodzie dolnej 231 oraz na drugiej elektrodzie dolnej 232. Pierwsza elektroda górna 251 oraz druga elektroda górna 252 są także utworzone odpowiednio na pierwszej warstwie aktywnej 241 oraz drugiej warstwie aktywnej 242. Pierwsza warstwa aktywna 241 jest mniejsza niż pierwsza elektroda dolna 231, a druga warstwa aktywna 242jest niniejsza niż druga elektroda dolna 232. Pierwsza elektroda górna 251 jest mniejsza niż pierwsza warstwa aktywna 241, a druga elektroda górna 252 jest mniejsza niż druga warstwa aktywna 242.
Element odbijający 290 odbija padające światło pochodzące ze źródła światła (nie przedstawionego), a utworzony zostaje w centralnej części warstwy podporowej 220. Korzystnie, element odbijający 290 ma kształt prostokąta i jest zwierciadłem.
Obecnie opisany zostanie sposób wykonania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, stosowanego w optycznych systemach projekcyjnych, w drugim przykładzie wykonania wynalazku, w nawiązaniu do fig. 16 do 20B.
Jak przedstawiono na fig. 16, warstwa pasywacyjna 210 nałożona zostaje na podłoże 200 zawierające przewody instalacyjne (nie przedstawione) oraz końcówki łączące 205 utworzone ponad tymi przewodami. Przewody instalacyjne oraz końcówka łącząca 205 odbierają z zewnątrz pierwszy sygnał i przesyłają go do pierwszej elektrody dolnej 231 oraz drugiej elektrody dolnej 232. Pierwszy sygnałjest prądowym sygnałem obrazu. Korzystnie, przewody instalacyjne zawierają tranzystor MOS umożliwiający dokonanie operacji przełączania. Warstwa pasywacyjna 210 utworzona jest ze szkliwa fosforowo-krzemowego, a jej grubość mieści się w granicach 0,1 pm, a 1,0 pm. Warstwa pasywacyjna 210 utworzona jest z zastosowaniem metody chemicznego naparowywania. Warstwa pasywacyjna 210 ochrania podłoże 200 zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące podczas kolejnych etapów wytwarzania.
Na warstwę pasy,^wa^ę^yj^ćą210 nałożona zostaje warstwa powstrzymująca wytrawianie 215, składająca się z azotku, której grubość mieści się w granicach 1000A - 2000A. Warstwa powstrzymująca wytrawianie 215 jest wykonana z zastosowaniem metody chemicznego naparowywania w warunkach niskiego ciśnienia. Warstwa powstrzymująca wytrawianie 215 ochrania warstwę pasywacyjną210 oraz podłoże 200 podczas kolejnych etapów wytrawiania.
Na warstwę powstrzymującą wytrawianie 215 nałożona zostaje warstwa protektorowa 217 wykonana ze szkliwa fosforowo-krzemowego. Warstwa protektorowa 217 wykonana jest z zastosowaniem metody chemicznego naparowywania w warunkach ciśnienia atmosferycznego, a grubość warstwy protektorowej 217 mieści się w granicach 0,5 pm, a 4,0 pm. W tym przypadku, stopień spłaszczenia warstwy protektorowej 217 jest niewielki, ponieważ warstwa protektorowa 217 pokrywa górną część podłoża posiadającego przewody instalacyjne i końcówki łączące 205. Powierzchnię warstwy protektorowej 217 wyrównuje się z zastosowaniem metody spinowego wytapiania szkła lub metody chemiczno-mechanicznego polerowania. Następnie pierwsza część oraz druga część warstwy protektorowej 217 poniżej których utworzone są końcówki łączące 205, zostają ukształtowane dla odsłonięcia pierwszej części i drugiej części warstwy zapobiegającej trawieniu 215, poniżej których utworzone są końcówki łączące 205, dla utworzenia warstwy podporowej 220.
Na pierwszej i drugiej części warstwy powstrzymującej wytrawianie 215 oraz warstwy protektorowej utworzona zostaje pierwsza warstwa 219, która jest wykonana ze sztywnego materiału, na przykład z azotku lub metalu. Pierwsza warstwa 219 jest wykonana z zastosowaniem metody chemicznego naparowywania w warunkach niskiego ciśnienia, a jej grubość mieści się w zakresie 0,1 pm, a 1,0 pm. Uformowana pierwsza warstwa 219 tworzy warstwę podporową220.
Na pierwszą warstwę 219 nałożona zostaje warstwa dolnej elektrody 230. Warstwa dolnej elektrody 230 jest wykonana z metalu przewodzącego elektrycznie, np. platyny, tantalu, platyno-tantalu. Warstwa elektrody dolnej 230 jest wykonana z zastosowaniem napylania katodowego
183 918 lub metody chemicznego naparowywania, a jej grubość mieści się w granicach 0,1 pm 1,0 pm.
Warstwa elektrody dolnej 230 po uformowaniu tworzy pierwszą elektrodę dolną 231 oraz drugą elektrodę dolną 232.
Na warstwę elektrody dolnej 230 nałożona zostaje warstwa aktywna 240 wykonana z materiału piezoelektrycznego, takiego jak cyrkonian-tytanian ołowiu (Pb(Zr,Ti)O3) lub cyrkonianty-tanian ołowiu-lantanu ((Pb, La) (Zr, Ti)O3), ajej grubość mieści się w granicach 0,1 pm - 1,0 pm. Korzystnie, warstwa aktywna 240 ma grubość 0,4 pm. Aktywna warstwa 240 jest wykonana z materiału elektrostrykcyjnego np. niobianu magnezowo-ołowiowego (Pb(Mg, Nb)O3). Po ukształtowaniu warstwy aktywnej z zastosowaniem metody zolu-żelu, napylania katodowego czy metody chemicznego naparowywania, warstwa aktywna 240 jest wyżarzana w procesie szybkiego wyżarzania. Następnie warstwa aktywna 240 jest polerowana. Uformowana warstwa aktywna 240 tworzy pierwszą warstwę aktywną 241 oraz drugą warstwę aktywną 242.
Na warstwę aktywną240 nałożona zostaje warstwa elektrody górnej 250. Warstwa elektrody górnej 250 jest wykonana z metalu odblaskowego i przewodzącego elektrycznie, np. aluminium, platyny czy srebra. Warstwa elektrody górnej 250 jest wykonana z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego naparowywania, a jej grubość mieści się w granicach 0,1 pm -10 pm. Uformowana warstwa elektrody górnej 250 tworzy pierwszą elektrodę górną 251 oraz drugą elektrodę górną 252.
Na fig. 17A zilustrowano stan, w którym warstwa elektrody górnej 250, warstwa aktywna 240 oraz warstwa elektrody dolnej 230 podlegają kształtowaniu, a fig. 17B przedstawia częściowy perspektywiczny widok struktury z fig. 17A. Po nałożeniu pierwszego fotorezystu (nie przedstawionego) na warstwie elektrody górnej 250 przy wykorzystaniu metody powlekania spino- wego, warstwa elektrody górnej 250 zostaje ukształtowana tak, że tworzy pierwszą elektrodę górną 251 oraz drugą elektrodę górną 252, przy wykorzystaniu pierwszego fotorezystu jako maski trawiennej. Pierwsza elektroda górna 251 oraz druga elektroda górna 252 są tworzone równolegle do siebie. Drugi sygnał jest przykładany do pierwszej elektrody górnej 251 oraz do drugiej elektrody górnej 252 poprzez linię wspólną (nie przedstawioną). Drugi sygnałjest prądowym sygnałem polaryzacj i. Drugi fotorezyst (nie przedstawiony) zostaje nałożona na pierwszą elektrodę górną251, na drugą elektrodę górną 252 oraz na warstwę aktywną 240 z zastosowaniem metody powlekania spinowego, po tym jak pierwszy fotorezyst został usunięty przy wytrawianiu. Uformowana warstwa aktywna 240 tworzy pierwszą warstwę aktywną 241 oraz drugą warstwę aktywną 242 przy wykorzystaniu drugiego fotorrezystu jako maski trawiennej. Pierwsza warstwa aktywna 241 oraz druga warstwa aktywna 242 są odpowiednio szersze od pierwszej elektrody górnej 251 oraz drugiej elektrody górnej 252.
Trzeci fotorezyst (nie przedstawiony) zostaje naniesiony na pierwszą elektrodę górną 251, drugą elektrodę górną 252, pierwszą warstwę aktywną 241, drugą warstwę aktywną 242 oraz na warstwę elektrody dolnej 230 z zastosowaniem metody powlekania spinowego, po tym jak drugi fotorezyst został usunięty w procesie wytrawiania. Uformowana warstwa elektrody dolnej tworzy pierwszą elektrodę dolną 231, drugą elektrodę dolną 232, wykorzystując trzeci fotorezyst jako maskę do trawienia. Pierwsza elektroda dolna 231 oraz druga elektroda dolna 232 są szersze od odpowiednio pierwszej warstwy aktywnej 241 i drugiej warstwy aktywnej 242. Następnie trzeci fotorezyst zostaje usunięty w procesie wytrawiania. Gdy pierwszy sygnał przyłożony zostaje do pierwszej elektrody dolnej 231 oraz drugiej elektrody dolnej 232, a drugi sygnał przyłożony zostaje do pierwszej elektrody górnej 251 oraz drugiej elektrody górnej 252, wygenerowane zostająpola elektryczne odpowiednio pomiędzy pierwszą elektrodą górną 251 i pierwszą elektrodądolną231, oraz pomiędzy drugą elektrodą górną 252 i drugą elektrodą dolną232. Pierwsza warstwa aktywna 241 oraz druga warstwa aktywna 242 są odkształcane przez odpowiednie pola elektryczne.
Na fig. 18A zilustrowano stan, w którym tworzone są pierwszy styk 271 oraz drugi styk 272, a fig. 18B jest częściowym perspektywicznym widokiem struktury z fig. 18A. Części pierwszej warstwy aktywnej 241, pierwszej elektrody dolnej 231 pierwszej warstwy 219, warstwy powstrzymującej wytrawianie 215 oraz warstwy pasywacyjnej 210 są wytrawiane tak, że utworzony jest
183 918 pierwszy otwór 261 sięgający od części pierwszej warstwy aktywnej 241 do końcówki łączącej 205. W tym samym czasie, części drugiej warstwy aktywnej 242, drugiej elektrody dolnej 232, pierwszej warstwy 219, warstwy powstrzymującej wytrawianie 215 oraz warstwy pasywacyjnej 210 są wytrawiane w taki sposób, że utworzony zostaje drugi otwór 262, sięgający od części drugiej warstwy 242 do końcówki łączącej 205. Pierwszy styk 271 oraz drugi styk 272 sąodpowiednio tworzone w pierwszym otworze 261 i drugim otworze 262, z zastosowaniem przewodzącego elektrycznie metalu takiego jak wolfram, platyna, aluminium czy tytan. Pierwszy styk 271 oraz drugi styk 272 sąutworzone przy wykorzystaniu napylania katodowego lub metody chemicznego naparowywania, tak więc pierwszy styk 271 oraz drugi styk 272 sąutworzone tak, że sięgają od końcówki łączącej 205 do odpowiednio pierwszej elektrody dolnej 231 i drugiej elektrody dolnej 232. Pierwszy styk 271 łączy pierwszą elektrodę dolną 231 z końcówką łączącą205. Drugi styk 272 łączy drugą elektrodę dolną 232 z końcówkąłączącą205. Tak więc, pierwszy sygnał zostaje przyłożony do pierwszej elektrody dolnej 231 poprzez przewody instalacyjne, końcówkę łączącą205 oraz pierwszy styk 271. Ponadto pierwszy sygnał jest przyłożony do drugiej elektrody dolnej 232 poprzez przewody instalacyjne, końcówkę łączącą205 oraz drugi styk 272. W tym samym czasie drugi sygnał jest przyłożony z linii wspólnej do pierwszej elektrody górnej 251 oraz drugiej elektrody górnej 252, tak więc utworzone zostająpola elektryczne odpowiednio pomiędzy pierwszą elektrodą górną 251 i pierwszą elektrodą dolną 231 oraz pomię- dzy drugą elektrodą górną 252 i drugą elektrodą dolną 232. Pierwsza warstwa aktywna 241 utworzona pomiędzy pierwszą elektrodą górną 251, i pierwszą elektrodą dolną 231 oraz druga warstwa aktywna 242 utworzona pomiędzy drugą elektrodą górną 252 i drugą elektrodą dolną 232 zostają odkształcone przez pola elektryczne.
Na fig. 19A zilustrowano stan, w którym kształtowana jest pierwsza warstwa 219, a fig. 19B przedstawia częściowy widok perspektywiczny struktury z fig. 19A. Pierwsza warstwa 219 jest kształtowana tak, że tworzy warstwę podporo wą220, z zastosowaniem czwartego fotorezystu (nie przedstawionego), jako maski trawiennej po naniesieniu czwartego fotorezystu na pierwszą elektrodę dolną 231, na drugą elektrodę dolną232, pierwszy otwór 262, drugi otwór 262, z zastosowaniem metody powlekania spinowego. Warstwa podporowa 220 ma odcinki boczne 220 oraz część centralną. Części dolne obu odcinków bocznych warstwy podporowej 220 są częściowo przymocowane do podłoża 200. Odcinki boczne warstwy podporowej 220 sąrównoległe względem siebie, poczynając od części przymocowanych. Część centralna warstwy podporowej 220 jest utworzona integralnie wraz z odcinkami bocznymi, pomiędzy nimi. Odcinki boczne są szersze odpowiednio od pierwszej dolnej elektrody 231 oraz od drugiej dolnej elektrody 232. Część centralna warstwy podporowej 220 ma kształt prostokąta. Tak więc część centralna warstwy podporowej 220 wystaje poza pierwszą dolną elektrodę 231 oraz drugą elektrodę dolną 232. Następnie czwarty fotorezyst jest usuwany w procesie wytrawiania. Część warstwy protektorowej 217 zostaje odsłonięta po ukształtowaniu pierwszej warstwy 219.
Na fig. 20A zilustrowano stan, w którym w części centralnej warstwy podporowej 220 tworzony jest element odbijający 290, a na fig. 20B przedstawiono częściowy perspektywiczny widok struktury z fig. 20A. Po nałożeniu piątego fotorezystu (nie przedstawionego) na odsłonięte części warstwy protektorowej 217 oraz na warstwę podporową 220, z zastosowaniem metody powlekania spinowego, piąty fotorezyst jest następnie kształtowany w taki sposób, aby odsłonić centralną część warstwy podporowej 220, pierwszą część pierwszej elektrody dolnej 231 i pierwszą część drugiej elektrody dolnej 232. Z materiału przewodzącego elektrycznie i odbijającego, takiego jak srebro, platyna czy aluminium utworzony zostaje w centralnej części warstwy podporowej 220, na pierwszej części pierwszej elektrody dolnej 231 oraz na pierwszej części drugiej elektrody dolnej 232, element odbijający 290. Element odbijający 290 jest utworzony z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego naparowywania, a jego grubość mieści się w granicach 03 (im - 2,0 (im. Element odbijający 290 ma ten sam kształt jak część centralna warstwy podporowej 220 i odbija światło padające, pochodzące ze źródła światła (nie przedstawionego). Następnie piąty fotorezyst oraz warstwa protektorowa 217 zostają usunięte przy wykorzystaniu par fluorku wodoru (HF), kończąc proces formowania urządzenia uruchamiającego 280.
183 918
Po usunięcie warstwy protektorowej 217, w miej scu w którym znajdowała się warstwa protektorowa 217 utworzona zostaje szczelina powietrzna 218.
Gdy podłoże 200 zawierające urządzenie uruchamiające 280 zostaje przemyte i osuszone, formuje się z chromu, niklu lub złota kontakt liniowy (nie pokazany) u podstawy podłoża 200. Kontakt liniowy jest formowany z zastosowaniem napylania katodowego lub przez odparowywanie. Podłoże 200 jest wycięte tak że przygotowane jest na osadzenie pakietu wtykowego dla przyłożenia pierwszego sygnału do pierwszej elektrody dolnej 231 oraz drugiej elektrody dolnej 232 oraz dla przyłożenia drugiego sygnału do pierwszej elektrody górnej 251 oraz drugiej elektrody górnej 252. W tym przypadku, podłoże 200 jest wycięte na określoną głębokość, dla przygotowania do wykonania kolejnych etapów produkcyjnych. Wkładka panelu (nie przedsta- wioną) cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych oraz wkładka wtykowa (nie przedstawiona) są dołączane tak, że moduł cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych jest kompletny.
Obecnie opisana zostanie zasada pracy cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych AMA, stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, według prezentowanego przykładu wykonania wynalazku. W cienkowarstwowym układzie zwierciadeł ruchomych według wynalazku, pierwszy sygnał jest przyłożony do pierwszej elektrody dolnej 231 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych AMA, przewody instalacyjne, końcówkę łączącą 205 oraz pierwszy styk 271. Pierwszy sygnał jest także przykładany do drugiej elektrody dolnej 232 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, przewody instalacyjne, końcówkę łączącą 205 oraz drugi styk 272. Jednocześnie, drugi sygnał jest przykładany do pierwszej elektrody górnej 251 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych oraz linię wspólną. Drugi sygnał jest także przykładany poprzez wkładkę wtykową do drugiej elektrody górnej 252 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych oraz linię wspólną. Tak więc pola elektryczne są generowane odpowiednio pomiędzy pierwszą elektrodą górną 251 i pierwszą elektrodą dolną231, a także pomiędzy drugąelektrodągórną252 i drugąelektrodądolną232. Pierwsza warstwa aktywna 241 utworzona pomiędzy pierwszą elektrodą górną 251 i pierwszą elektrodą dolną 231 oraz druga warstwa aktywna 242 utworzona pomiędzy drugą elektrodą górną 252 i drugą elektrodą dolną 232, zostają odkształcone poprzez pola elektryczne. Pierwsza warstwa aktywna 241 oraz druga warstwa aktywna 242, są odkształcane w kierunkach prostopadłych do działających pól elektrycznych. Pierwsza warstwa aktywna 241 oraz druga warstwa aktywna 242, są odkształcane w kierunkach przeciwnych do pozycji jaką zajmowała warstwa podporowa 220. Tak więc, urządzenie uruchamiające 280 zawierające pierwszą warstwę aktywną 241 oraz drugą warstwę aktywną 242 zostaje uniesione do góry, a warstwa podporowa 220 przymocowana do urządzenia uruchamiającego 280 jest także unoszona do góry zgodnie z przechyleniem urządzenia uruchamiającego 280.
W centralnej części warstwy aktywnej 220 utworzony zostaje element odbijający 290, odbijający światło padające, pochodzące ze źródła, pochyla się wraz z urządzeniem uruchamiającym 280. Element odbijający 290 odbija światło kierując je na ekran, przez co na ekranie utworzony zostaje obraz.
Trzeci przykład wykonania układu według wynalazku przedstawiono na fig. 21 - 23. Na fig. 21 przedstawiono w widoku z góry cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, a na fig. 22 jest przedstawiony widok perspektywiczny cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych z fig. 21, a na fig. 23 - przekrój poprzeczny wzdłuż linii C,-C2 z fig. 22. Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych według drugiego przykładu wykonania wynalazku zawiera podłoże 300, urządzenie uruchamiające 380 utworzone na podłożu 300 i element odbijający 390 zainstalowany na urządzeniu uruchamiającym 380.
Urządzenie uruchamiające 380 ma pierwszą część uruchamiającą 381 utworzoną na pierwszej części podłoża 300 oraz drugą część uruchamiającą 382 utworzoną na drugiej części podłoża 300. Element odbijający 390 jest utworzony pomiędzy pierwszą częścią
183 918 uruchamiąjąeą381 i drugączęściąuruchamiającą382. W nawiązaniu do fig. 22 i fig. 23, można zauważyć, że podłoże 300, w którym zainstalowano przewody instalacyjne (nie przedstawione), zawiera utworzone ponad przewodami instalacyjnymi końcówki łączące 305, warstwę pasywacyjną 310 nałożoną na podłoże 300 oraz na końcówki łączące 305 oraz warstwę powstrzymującą wytrawianie 315 nałożoną na warstwę pasywacyjną 310.
Spód pierwszej części pierwszej warstwy podporowej 321 jest przymocowany do pierwszej części warstwy powstrzymującej wytrawianie 315 zawierającej poniżej końcówkę łączącą305, a ponadto pierwsza część pierwszej warstwy podporowej 321 jest utworzona ponad warstwą powstrzymującą wytrawianie 315 i jest względem niej równoległa. Pomiędzy warstwą powstrzymującą wytrawianie 315 i pierwszą częścią pierwszej warstwy podporowej 321 utworzona zostaje szczelina powietrzna 318. Spód pierwszej części drugiej warstwy aktywnej 322jest przymocowany do drugiej części warstwy powstrzymującej wytrawianie 315 zawierającej poniżej końcówkę łączącą305, a pierwsza część drugiej warstwy aktywnej 322jest tworzona równolegle do i ponad warstwą powstrzymującą wytrawianie 315. Pomiędzy warstwą powstrzymującą wytrawianie 315 i pierwszą częścią drugiej warstwy podporowej 322 wprowadzona zostaje także szczelina powietrza 318.
Pierwsza część uruchamiającą 381 oraz druga część uruchamiająca 382 są tworzone równolegle w stosunku do siebie, odpowiednio na pierwszej warstwie podporowej 321 oraz na drugiej warstwie podporowej 322. Pierwsza część uruchamiająca 381 ma pierwszą elektrodę dolną 331 utworzoną na pierwszej warstwie podporowej 321, pierwszą warstwę aktywną 341 utworzoną na pierwszej elektrodzie dolnej 331 oraz pierwszą elektrodę górną 351 utworzoną na pierwszej warstwie aktywnej 341. Pierwszy styk 371 jest utworzony w pierwszym otworze 361, który sięga od części pierwszej warstwy aktywnej 341 do końcówki łączącej 305 poprzez pierwszą elektrodę dolną 331, pierwszą warstwę podporową321, warstwę powstrzymującą wytrawianie 315 oraz warstwę pasywacyjną 310.
Druga część uruchamiająca 382 ma taki sam kształt jak pierwsza część uruchamiająca 381. Druga część uruchamiająca 383 ma drugą elektrodę dolną332 utworzoną na drugiej warstwie podporowej 322, drugą warstwę aktywną 342 utworzoną na drugiej elektrodzie dolnej 332 oraz drugą elektrodę górną 352 utworzoną na drugiej warstwie aktywnej 342. Drugi styk 372 jest utworzony w drugim otworze 362, który sięga od części drugiej warstwy aktywnej 342 do końcówki łączącej · 205 poprzez drugą elektrodę dolną 232, drugą warstwę podporową 322, warstwę powstrzymującą wytrawianie 315 oraz warstwę pasywacyjną 310.
Pierwsza część pierwszej warstwy podporowej 321 oraz pierwsza część drugiej warstwy aktywnej 322 są częściowo przymocowane do podłoża 300. Pierwsza część pierwszej warstwy podporowej 321 i pierwsza część drugiej warstwy podporowej 322 są utworzone jako równoległe względem siebie, poczynając od części przymocowanych. Druga część pierwszej warstwy podporowej 321 jest utworzona integralnie wraz z pierwszą częścią warstwy podporowej 321. Druga część pierwszej warstwy podporowej 321 wystająca do wewnątrz ma kształt · prostokąta. Druga część pierwszej warstwy podporowej 321 wystaje spod pierwszej elektrody dolnej 331. Druga część drugiej warstwy podporowej 322jest utworzona integralnie wraz z pierwszą częścią drugiej warstwy podporowej 322. Druga część drugiej warstwy podporowej 322 wystająca do wewnątrz ma kształt prostokąta. Pierwsza warstwa podporowa 321 oraz druga warstwa podporowa 322 mają kształty, które są symetryczne względem siebie. Druga część drugiej warstwy podporowej 322 wystaje spod drugiej elektrody dolnej 332.
Pierwsza elektroda dolna 331 oraz druga elektroda dolna 332 są utworzone odpowiednio na pierwszej części pierwszej warstwy podporowej 321 oraz na pierwszej części drugiej warstwy podporowej 332. Tak więc pierwsza elektroda dolna 331 i druga elektroda dolna 332 są utworzone jako równoległe względem siebie. Pierwsza warstwa aktywna 341 i druga warstwa aktywna 342 są utworzone odpowiednio na pierwszej elektrodzie dolnej 331 oraz na drugiej elektrodzie dolnej 332.
Pierwsza elektroda dolna 331 i druga elektroda dolna 332 są utworzone odpowiednio na pierwszej części pierwszej warstwy podporowej 321 i na pierwszej części drugiej warstwy
183 918 podporowej 322. Tak więc pierwsza elektroda dolna 331 i druga elektroda dolna 332 są utworzone jako równoległe względem siebie. Pierwsza warstwa aktywna 341 i druga warstwa aktywna 342 są utworzone odpowiednio na pierwszej elektrodzie dolnej 331 i na drugiej elektrodzie dolnej 332. Pierwsza elektroda górna 351 oraz druga elektroda górna 352 sątakże utworzone odpowiednio, na pierwszej warstwie aktywnej 341 i na drugiej warstwie aktywnej 342. Pierwsza warstwa aktywna 341 ma mniejsząpowierzchnię niż pierwszą elektroda dolna 331, a druga warstwa aktywna 342 ma mniejsząpowierzchnię niż druga elektroda dolna 332. Pierwsza elektroda górna 351 ma mniejsząpowierzchnię niż pierwsza warstwa aktywna 341, a druga elektroda górna 352 ma mniejsząpowierzchnię niż druga warstwa aktywna 342.
Na drugiej części pierwszej warstwy podporowej 321 oraz drugiej części drugiej warstwy podporowej 322 utworzony jest element odbijający 390, odbijający światło padające ze źródła światła (nie przedstawionego). Korzystnie, element odbijający 390 ma kształt prostokąta.
W przypadku cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych według trzeciego przykładu wykonania wynalazku, sposób jego wytwarzania jest taki sam, jak w opisanym drugim przykładzie wykonania z fig. 16 do 20B, z wyłączeniem etapów formowania pierwszej warstwy podporowej 321 i drugiej warstwy podporowej 322.
Obecnie opisana zostanie zasada pracy cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych stosowanego w projekcyjnym systemie optycznym, w trzecim przykładzie wykonania wynalazku. Pierwszy sygnał jest przyłożony z wkładki wtykowej do pierwszej elektrody dolnej 331 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, przewody instalacyjne, końcówkę łączącą 305 oraz pierwszy styk 371. Pierwszy sygnał jest także przykładany z wkładki wtykowej do drugiej elektrody dolnej 332 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych, przewody instalacyjne, końcówkę łączącą305 oraz drugi styk 372. Jednocześnie, drugi sygnał jest przykładany przez wkładkę wtykową do pierwszej elektrody górnej 351 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych oraz linię wspólną. Drugi sygnałjest także przykładany do drugiej elektrody górnej 352 poprzez wkładkę panelu cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych oraz linię wspólną. Tak więc pola elektryczne są generowane odpowiednio pomiędzy pierwszą elektrodą górną 351 i pierwszą elektrodą dolną 331, a także pomiędzy drugą elektrodą górną 352 i drugą elektrodą dolną 332. Pierwsza warstwa aktywna 341 utworzona pomiędzy pierwszą elektrodą górną 351 i pierwszą elektrodą dolną 331 oraz druga warstwa aktywna 342 utworzona pomiędzy drugą elektrodą górną 352 i drugą elektrodą dolną 332, zostają odkształcone przez pola elektryczne. Pierwsza warstwa aktywna 341 oraz druga warstwa aktywna 342 są odkształcane w kierunkach prostopadłych do działających pól elektrycznych. Pierwsza warstwa aktywna 341 i druga warstwa aktywna 342 są odkształcane odpowiednio w kierunkach przeciwnych do pozycji pierwszej warstwy podporowej 321 oraz drugiej warstwy podporowej 322. Tak więc urządzenie uruchamiające 380 ma pierwszą warstwę aktywną 341 oraz drugą warstwę aktywną 342 uniesione do góry, pierwsza warstwa podporowa 321 oraz druga warstwa podporowa 322 są przymocowane do urządzenia uruchamiającego 380 i także są unoszone do góry zgodnie z przechyleniem urządzenia uruchamiającego 380.
Na pierwszej warstwie podporowej 321 oraz na drugiej warstwie podporowej 322 utworzony zostaje element odbijający 390, odbijający światło padające, pochodzące ze źródła, pochyla się wraz z urządzeniem uruchamiającym 380. Tak więc element odbijający 390 odbija światło kierując je na ekran, na którym to ekranie utworzony zostaje obraz.
W konwencjonalnym cienkowarstwowym układzie zwierciadeł ruchomych, ilość światła odbijanego przez element odbijający jest mniejsza niż ilość światła padającego na układ, biorąc pod uwagę powierzchnię tego układu, ponieważ część podporowa elementu odbijającego jest większa niż część odbijająca elementu odbijającego. Jest tak, ponieważ część podporowa elementu odbijającego, która podtrzymuje go podczas pochylenia elementu odbijającego wynikającego z pochylenia urządzenia uruchamiającego, jest większa niż część odbijająca elementu odbijającego, która rzeczywiście odbija padające światło, a sprawność świetlna zostaje więc zmniejszona w odniesieniu do powierzchni cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych,
183 918 tak więc jakość obrazu rzutowanego na ekran przez cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych zostaje obniżona. Ponadto światło padające zostaje rozproszone w miejscu, w którym natrafia na część podporową elementu odbijającego która sąsiaduje z częścią odbijającą elementu odbijającego, ponieważ światło padające jest także odbijane przez część podporową. Tak więc, jakość rzutowanego na ekran obrazu poprzez cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych jest dodatkowo obniżana.
Natomiast w cienkowarstwowym układzie zwierciadeł ruchomych, w projekcyjnym systemie optycznym według prezentowanego wynalazku, cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych ma urządzenie uruchamiające, które przechyla się o określony kąt, a element odbijający padające światła jest tworzony niezależnie od urządzenia uruchamiającego, przez co ma znacznie zwiększoną sprawność świetlną, minimalizując obszar zajmowany przez urządzenie uruchamiające i maksymalizowanie obszaru zajmowanego przez element odbijający, tak więc jakość obrazu wyświetlanego na ekranie jest znacznie zwiększona.
183 918
FIG. 2
FIG. 3A
55
183 918
FIG. 3B
53—
n «1 W
FIG. 3C
183 918
FIG. 4
183 918
FIG. 5
FIG. 6
150 145 140 130 125
105
183 918
FIG. 7
117 1 15 1 10
100
FIG. 8
124
119
117
115
110
100
105
183 918
FIG. 9A
105
FIG. 9B
183 918
FIG. 10A
FIG. 10B
183 918
FIG. 1 1A
150 145
105
FIG. 11B
125
120
•145
183 918
FIG. 12A
FIG. 12B
125
120
•145
160
183 918
FIG. 13
280
183 918
FIG. 15
261,262 241,242
271,272
231,232
205
183 918
FIG. 16
205
183 918
FIG. 17B
183 918
FIG. 18A
271,272 \ 26' ,262
205
FIG. 18B
261
183 918
FIG. 19A
271,272
205
FIG. 19B
220
261
183 918
FIG. 20A
FIG. 20B
220
261
183 918
FIG. 21
580
382 381
390 300
183 918
FIG. 23
361.362 341,342
371,372
331,332
305
7]-390
321,322
183 918
FIG. 1
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz.
Cena 6,00 zł.

Claims (30)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocą dwóch doprowadzanych sygnałów, znamienny tym, że zawiera podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające doprowadzony pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, elementy odbijające światło, które to elementy odbijające są zwierciadłami, oraz zawiera utworzone na podłożu urządzenia uruchamiające do przechylania elementów odbijających, przy czym każde z nich ma elektrodę dolną odbierającą pierwszy sygnał, elektrodę górną przyporządkowaną elektrodzie dolnej, do odbioru drugiego sygnału, które to elektrody są skonfigurowane do generowania pola elektrycznego pomiędzy górną elektrodą i dolną elektrodą, odkształcalną przez pole elektryczne warstwę aktywną utworzoną pomiędzy elektrodą górną i elektrodą dolną oraz warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza elektrodę dolną i odsłoniętą, przy czym element odbijający jest utworzony na drugiej części warstwy podporowej, a urządzenie uruchamiające jest przystosowane do przechylania elementu odbijającego, gdy jego warstwa aktywna jest odkształcona przez pole elektryczne.
  2. 2. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że urządzenie uruchamiające zawiera styk doprowadzający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do dolnej elektrody, który to stykjest utworzony w otworze, który sięga od części warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez elektrodę dolną oraz warstwę podporową.
  3. 3. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że warstwa podporowajest utworzona ze sztywnego materiału, elektroda dolnajest utworzona z metalu przewodzącego prąd elektryczny, warstwa aktywna jest utworzona z materiału piezoelektrycznego lub materiału elektrostrykcyjnego, a elektroda górna jest utworzona z metalu przewodzącego prąd elektryczny i odblaskowego.
  4. 4. Układ według zastrz. 3, znamienny tym, że warstwa podporowa jest utworzona z azotku lub metalu, elektroda dolna jest utworzona z platyny, tantalu lub platyno-tantalu, warstwa aktywna jest utworzona z cyrkonianu-tytanianu ołowiu Pb(Zr, Ti)O3, cyrkonianu-tytanianu ołowiu-lantanu (Pb, La) (Zr, Ti)O3 lub niobianu magnezowo-ołowiowego Pb(Mg, Nb)O3, a elektroda górna jest utworzona z aluminium, platyny lub srebra.
  5. 5. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że elektroda dolna, warstwa aktywna i elektroda górna ma kształt litery U, a druga część warstwy podporowej ma kształt prostokąta.
  6. 6. Układ według zastrz. 5, znamienny tym, że elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części warstwy ' podporowej, warstwa aktywnajest mniejsza od elektrody dolnej, a elektroda górna jest mniejsza od warstwy aktywnej.
  7. 7. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że element odbijający ma kształt prostokąta.
  8. 8. Układ według zastrz. 1, znamienny tym, że element odbijający światło jest utworzony z metalu odblaskowego.
  9. 9. Układ według zastrz. 8, znamienny tym, że element odbijający jest utworzony z platyny, aluminium lub srebra.
  10. 10. Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocą dwóch doprowadzonych sygnałów, znamienny tym, że zawiera podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, elementy odbijające światło, które to elementy odbijające są zwierciadłami, oraz utworzone na podłożu urządzenia uruchamiające do przechylania elementów odbijających, przy czym każde z nich ma pierwszą część uruchamiającą mającą
    183 918 pierwszą elektrodę dolną odbierającą pierwszy doprowadzony sygnał, przy czym pierwsza elektroda dolna jest utworzona na pierwszej części podłoża, ma przyporządkowaną pierwszej elektrodzie dolnej pierwszą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generującą pole elektryczne pomiędzy pierwszą elektrodą górną i pierwszą elektrodą dolną, oraz pierwszą warstwę aktywną utworzoną pomiędzy pierwszą elektrodą górną i odkształcalną przez pole elektryczne pierwszą elektrodą dolną, oraz ma drugą część uruchamiaj ącą maj ącą drugą dolną elektrodę odbierającą pierwszy doprowadzony sygnał, przy czym druga elektroda dolna jest utworzona na drugiej części podłoża, ma przyporządkowaną drugiej elektrodzie dolnej drugą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generujący pole elektryczne pomiędzy drugą elektrodą górną i drugą elektrodą dolną, oraz drugąwarstwę aktywnąutworzonąpomiędzy drugą elektrodą górną i odkształcalną przez pole elektryczne drugą elektrodą dolną, ponadto ma warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej pierwszej elektrody dolnej oraz poniżej drugiej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza pierwszą elektrodę dolną oraz poza drugą elektrodę dolnaj odsłoniętą, przy czym element odbijający światło jest utworzony na drugiej części warstwy podporowej, a urządzenie uruchamiające jest przystosowane do przechylania elementu odbijającego gdy jego pierwsza i druga warstwa aktywna jest odkształcona przez pole elektryczne.
  11. 11. Układ według zastrz. 10, znamienny tym, że pierwsza część uruchamiająca zawiera pierwszy styk doprowadzający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do pierwszej elektrody dolnej, który to pierwszy stykjest utworzony w pierwszym otworze, który sięga od części pierwszej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez pierwszą elektrodę dolną oraz warstwę podporową, a druga część uruchamiająca zawiera drugi styk doprowadzający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do drugiej elektrody dolnej, który to drugi styk jest utworzony w drugim otworze, który sięga od drugiej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez drugą elektrodę dolną oraz warstwę podporową.
  12. 12. Układ według zastrz. 10, znamienny tym, że warstwa podporowa jest utworzona ze sztywnego materiału, pierwsza elektroda dolna oraz druga elektroda dolna sąutworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna są utworzone z materiału piezoelektrycznego lub materiału elektrostrykcyjnego, a pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna są utworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny i odblaskowego.
  13. 13. Układ według zastrz. 12, znamienny tym, że warstwa podporowa jest utworzona z azotku lub metalu, pierwsza elektroda dolna i druga elektroda dolna sąutworzone z platyny, tantalu lub platyno-tantalu, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna sąutworzone z cyrkonianu-tytanianu ołowiu Pb(Zr, Ti)O3, cyrkonianu-tytanianu ołowiu-lantanu (Pb, La) (Zr, Ti)O3 lub niobianu magnezowo-ołowiowego Pb(Mg, Nb)O3 a pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna są utworzone z aluminium, platyny lub srebra.
  14. 14. Układ według zastrz. 10, znamienny tym, że pierwsza elektroda dolna i druga elektroda dolna sąutworzone równolegle względem siebie, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna sąutworzone równolegle względem siebie i pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna są utworzone równolegle względem siebie, a druga część warstwy aktywnej ma kształt prostokąta.
  15. 15. Układ według zastrz. 14, znamienny tym, że pierwsza elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części warstwy podporowej, pierwsza warstwa aktywna jest mniejsza od pierwszej elektrody dolnej, a pierwsza elektroda górna jest mniejsza od pierwszej warstwy aktywnej, ponadto druga elektroda dolna jest mniejsza od drugiej części warstwy podporowej, druga warstwa aktywna jest mniejsza od drugiej elektrody dolnej, a druga elektroda górna jest mniejsza od drugiej warstwy aktywnej.
  16. 16. Układ według zastrz. 10, znamienny tym, że element odbijający ma kształt prostokąta.
  17. 17. Układ według zastrz. 10, znamienny tym, że element odbijający światło jest utworzony z metalu odblaskowego.
    183 918
  18. 18. Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocądwóch doprowadzonych sygnałów', znamienny tym, że zawiera podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki łączące odbierające doprowadzony pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, elementy odbijające światło, które to elementy odbijające są zwierciadłami, oraz utworzone na podłożu urządzenia uruchamiające do przechylania elementów odbijających, przy czym każde z nich ma pierwszą część uruchamiającą mającą pierwszą elektrodę dolną odbierającą pierwszy doprowadzony sygnał, przy czym pierwsza elektroda dolna jest utworzona na pierwszej części podłoża, przyporządkowaną pierwszej elektrodzie dolnej pierwszą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generującą pole elektryczne pomiędzy pierwszą elektrodą górną i pierwszą elektrodą dolną, oraz pierwszą warstwę aktywną utworzoną pomiędzy pierwszą elektrodą górną i odkształcaną przez pole elektryczne pierwszą elektrodą dolną, pierwszą warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej pierwszej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza pierwszą elektrodę dolną i odsłoniętą, a ponadto ma drugą część uruchamiającą mającą drugą elektrodę dolną odbierającą pierwszy doprowadzony sygnał, przy czym druga elektroda dolna jest utworzona na drugiej części podłoża, przyporządkowaną drugiej elektrodzie dolnej drugą elektrodę górną odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generującą pole elektryczne pomiędzy drugą elektrodą górną i drugą elektrodą dolną, oraz drugą warstwę aktywnąutworzoną pomiędzy drugą elektrodą górną i odkształcaną przez pole elektryczne drugą elektrodą dolną, oraz ma drugą warstwę podporową mającą pierwszą część przymocowaną poniżej drugiej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza drugą elektrodę dolną i odsłoniętą, przy czym element odbijający światło jest utworzony na drugiej części pierwszej warstwy podporowej i na drugiej części drugiej warstwy podporowej, a urządzenie uruchamiające jest przystosowane do przechylania elementu odbijającego światło, gdy pierwsza i druga warstwa aktywna jest odkształcona przez pole elektryczne.
  19. 19. Układ według zastrz. 18, znamienny tym, że pierwsza część uruchamiająca zawiera pierwszy styk przesyłający pierwszy sygnał od końcówki łączącej do pierwszej elektrody dolnej, który to pierwszy styk jest utworzony w pierwszym otworze, który sięga od części pierwszej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez pierwszą elektrodę dolną oraz pierwszą warstwę podporową, a druga część uruchamiająca zawiera drugi styk przesyłający pierwszy doprowadzony sygnał od końcówki łączącej do drugiej elektrody dolnej, który to drugi styk jest utworzony wdrugim otworze, który sięga od części drugiej warstwy aktywnej do końcówki łączącej poprzez drugą elektrodę dolną oraz drugą warstwę podporową.
  20. 20. Układ według zastrz. 18, znamienny tym, że pierwsza warstwa podporowa i druga warstwa podporowa są utworzone ze sztywnego materiału, pierwsza elektroda dolna i druga elektroda dolna są utworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny, pierwsza warstwa aktywna i druga warstwa aktywna są utworzone z materiału piezoelektrycznego lub elektrostrykcyjnego, a pierwsza elektroda górna i druga elektroda górna są utworzone z metalu przewodzącego prąd elektryczny i odblaskowego.
  21. 21. Układ według zastrz. 18, znamienny tym, że pierwsza elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części pierwszej warstwy podporowej, pierwsza warstwa aktywna jest mniejsza od pierwszej elektrody dolnej, a pierwsza elektroda górna jest mniejsza od pierwszej warstwy aktywnej, ponadto druga elektroda dolna jest mniejsza od pierwszej części drugiej warstwy podporowej, druga warstwa aktywna jest mniejsza od drugiej elektrody dolnej, a druga elektroda górna jest mniejsza od drugiej warstwy aktywnej.
  22. 22. Układ według zastrz. 18, znamienny tym, że element odbijający światło ma kształt prostokąta.
  23. 23. Układ według zastrz. 18, znamienny tym, że element odbijający światło jest utworzony z metalu odblaskowego.
  24. 24. Sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego, uruchamianych za pomocądwóch doprowadzanych sygnałów, znamienny tym, że dostarcza się podłoże zawierające przewody instalacyjne oraz końcówki
    183 918 łączące odbierające pierwszy sygnał i przesyłające ten pierwszy sygnał, formuje się pierwszą warstwę na podłożu, na tej pierwszej warstwie formuje się warstwę elektrody dolnej, na której formuje się drugą warstwę z materiału odkształcalnego przez pole elektryczne, na której z kolei formuje się warstwę elektrody górnej, następnie formuje się urządzenia uruchamiające przechylające ruchome zwierciadła układu, przy czym każde urządzenie uruchamiające kształtuje się przez odwzorowanie warstwy elektrody górnej tak aby utworzyła elektrodę górną urządzenia uruchamiającego odbierającą drugi doprowadzony sygnał i generującą pole elektryczne, przez odwzorowanie drugiej warstwy tak aby utworzyła warstwę aktywną urządzenia uruchamiającego odkształcalną przez pole elektryczne, przez odwzorowanie warstwy elektrody dolnej tak, aby utworzyła elektrodę dolną urządzenia uruchamiającego oraz przez odwzorowanie pierwszej warstwy tak, aby utworzyła warstwę podporową urządzenia uruchamiającego mającą pierwszą część połączoną poniżej elektrody dolnej oraz drugą część wystającą poza elektrodę dolną i odsłoniętą, następnie formuje się otwór sięgający od części warstwy aktywnej do końcówki łączącej, w otworze tym formuje się styk łączący elektrodę dolną z końcówką łączącą oraz na drugiej części warstwy podporowej formuje się element odbijający światło, będący zwierciadłem.
  25. 25. Sposób według zastrz. 24, znamienny tym, że formowanie pierwszej warstwy przeprowadza się z zastosowaniem metody niskociśnieniowego chemicznego osadzania z pary, z wykorzystaniem azotku lub metalu.
  26. 26. Sposób według zastrz. 24, znamienny tym, że formowanie warstwy elektrody dolnej przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego osadzania z pary, z wykorzystaniem platyny, tantalu, lub platyno-tantalu, a formowanie warstwy elektrody górnej przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego osadzania z pary, z wykorzystaniem aluminium, platyny lub srebra.
  27. 27. Sposób według zastrz. 24, znamienny tym, że formowanie drugiej warstwy przeprowadza się z zastosowaniem metody zolu-żelu, napylania katodowego, lub metody chemicznego osadzania z pary, przy wykorzystaniu cyrkonianu-tytanianu ołowiu Pb(Zr, Ti)O3, cyrkonianu-tytanianu ołowiu-lantanu (Pb, La) (Zr, Ti)O3 lub niobianu magnezowo-ołowiowego Pb(Mg, Nb)O3.
  28. 28. Sposób według zastrz. 24, znamienny tym, że podczas formowania drugiej warstwy dodatkowo przeprowadza się wyżarzanie drugiej warstwy z zastosowaniem metody szybkiego wyżarzania termicznego i poleruje się tę drugą warstwę.
  29. 29. Sposób według zastrz. 24, znamienny tym, że formowanie styku przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub chemicznego osadzania z pary przy wykorzystaniu metalu przewodzącego prąd elektryczny.
  30. 30. Sposób według zastrz. 26, znamienny tym, że formowanie elementów odbijających światło przeprowadza się z zastosowaniem napylania katodowego lub metody chemicznego osadzania z pary przy wykorzystaniu platyny, aluminium lub srebra.
PL97338632A 1997-01-23 1997-01-23 Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego PL183918B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL97338632A PL183918B1 (pl) 1997-01-23 1997-01-23 Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/KR1997/000015 WO1998033327A1 (en) 1997-01-23 1997-01-23 Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
PL97338632A PL183918B1 (pl) 1997-01-23 1997-01-23 Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL338632A1 PL338632A1 (en) 2000-11-06
PL183918B1 true PL183918B1 (pl) 2002-08-30

Family

ID=20076118

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL97338632A PL183918B1 (pl) 1997-01-23 1997-01-23 Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL183918B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL338632A1 (en) 2000-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5920421A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
JP2001522072A (ja) 薄膜型光路調節装置の製造方法
US5886811A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
US5815304A (en) Thin film actuated mirror array in a optical projection system and method for manufacturing the same
US5815305A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
US5917645A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
US5754330A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
US5877517A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system
US5786928A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
PL183918B1 (pl) Cienkowarstwowy układ zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego i sposób wytwarzania cienkowarstwowego układu zwierciadeł ruchomych do optycznego urządzenia projekcyjnego
RU2180158C2 (ru) Тонкопленочная матрица управляемых зеркал для оптической проекционной системы и способ ее изготовления
US6005706A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system
EP0954929B1 (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
EP0966842B1 (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
KR100225587B1 (ko) 박막형 광로 조절 장치
KR100238804B1 (ko) 광효율을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절장치의 제조 방법
KR100208690B1 (ko) 향상된 반사능을 갖는 광로 조절 장치 및 이의 제조 방법
KR100230004B1 (ko) 큰 구동 각도를 가지는 박막형 광로 조절장치 및 그 제조 방법
KR100257606B1 (ko) 변위 측정 부재를 장착한 박막형 광로 조절 장치 및 그 제조 방법
MXPA99006849A (es) Operacion de espejos accionados de pelicula fina de un sistema de proyeccion optica y metodo para fabricarla
MXPA99008127A (en) Thin film actuated mirror array in an optical projection system and method for manufacturing the same
GB2332750A (en) Thin film actuated mirror array
KR19980040067A (ko) 광효율을 향상시킬 수 있는 박막형 광로 조절 장치
KR19980054835A (ko) 액츄에이터의 초기 휘어짐을 방지 할 수 있는 박막형 광로 조절장치 및 그 제조 방법
KR19980017207A (ko) 박막형 광로조절장치의 입체형 액츄에이터 및 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20050123