PL168615B1 - Sposób rozpylania magnetronowego - Google Patents
Sposób rozpylania magnetronowegoInfo
- Publication number
- PL168615B1 PL168615B1 PL29531292A PL29531292A PL168615B1 PL 168615 B1 PL168615 B1 PL 168615B1 PL 29531292 A PL29531292 A PL 29531292A PL 29531292 A PL29531292 A PL 29531292A PL 168615 B1 PL168615 B1 PL 168615B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- electrons
- target
- magnetron
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Sposób rozpylania magnetronowego polegający na umieszczeniu w odpompowanym
zbiorniku próżniowym anody i katody, nad powierzchnią której wytwarza się pole magnetyczne
przy użyciu podkowiastego układu magnetycznego oraz na podaniu na anodę i katodę
wysokiego napięcia, znamienny tym, że w początkowym obszarze rozpylanej tarczy
za pomocą urządzenia emitującego elektrony wytwarza się strefę o dużej koncentracji elektronów.
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób rozpylania magnetronowego materiałów w próżni.
Znane są sposoby rozpylania magnetronowego materiałów przeprowadzane w próżni przy wykorzystaniu zjawiska trawienia jonowego jonami generowanymi w niskotemperaturowej plazmie. Spośród najbardziej rozpowszechnionych należy wymienić rozpylanie katodowe i magnetronowe. W metodzie magnetronowej próbkę rozpylanego materiału zwaną tarczą, umieszcza się w chłodzonej wodą obudowie podłączonej do ujemnego bieguna zasilacza wysokonapięciowego. Ciśnienie w komorze próżniowej obniża się do wartości 10'2 * 1 Pa. Nad powierzchnią tarczy wytwarza się pole magnetyczne przy pomocy układu magnetycznego umieszczanego zwykle wewnątrz chłodzonej obudowy, które lokalizuje plazmę wyładowania nad trawionym obszarem próbki.
W literaturze przedmiotu ustanowiło się przekonanie, że warunkiem koniecznym dla realizacji rozpylania magnetronowego jest wytworzenie takiej konfiguracji pola magnetycznego, która zapewniałaby uzyskanie zamkniętego toru dryfu elektronów wtórnych nad rozpylaną powierzchnią katody.
W opisie zgłoszenia patentowego nr 289 771 przedstawiona jest konstrukcja katody magnetronowego urządzenia rozpylającego, w którym tor dryfu elektronów wtórnych stanowi odcinek prostej. Mimo, że omówiony powyżej warunek nie jest dotrzymany, wyładowanie magnetronowe istnieje również w takim układzie. Jednak opisana konstrukcja, zastosowana w urządzeniu posiadającym stacjonarny układ magnetyczny wykazuje pewne wady. Najważniejszą z nich, wpływającą bezpośrednio na jakość nanoszonych warstw jest różna szybkość rozpylania w początkowym obszarze katody, na którym następuje narastanie lawiny elektronowej. Obszar ten leży po przeciwnej stronie w stosunku do zwrotu wektora będącego iloczynem wektorowym wektorów pola elektrycznego E i magnetycznego B. Powstająca lawina elektronowa powoduje nierównomiemość grubości i właściwości osadzonych w tym obszarze warstw.
Istota sposobu według wynalazku polega na wytworzeniu w początkowym obszarze rozpylanej tarczy za pomocą urządzenia emitującego elektrony strefy o dużej koncentracji elektronów.
Wynalazek będzie objaśniony bliżej na przykładzie realizacji sposobu rozpylania.
Pod powierzchnią tarczy katody magnetronowego urządzenia rozpylającego, będącej prostopadłościenną płytą o wymiarach 2 x 90 x 200 mm umieszczono w odległości 20 mm dwa stałe magnesy wykonane w postaci prostopadłościanów o wymiarach 10 x 12 x 120 mm, przy czym jeden z magnesów skierowano w stronę tarczy biegunem N zaś drugi biegunem S. Magnesy te, wraz z wykonanym z materiału ferromagnetycznego magnetowodem utworzą podkowiasty układ magnetyczny. Równoległa do powierzchni tarczy składowa indukcji pola magnetycznego wytworzonego przez układ magnetyczny nad powierzchnią, tarczy wynosiła 60 mT. Katodę wraz z anodą umieszczono w odpompowanym do ciśnienia 10 Pa zbiorniku próżniowym, a następnie podano na nie napięcie o wartości 700V. Nad powierzchnią katody
168 615 w jej początkowym obszarze utworzył się obłok plazmy o wydłużonym kształcie, stopniowo zwiększający się w kierunku dryfU elektronów wtórnych. Następnie za pomocą źródła elektronów umieszczonego w bezpośrednim sąsiedztwie początkowego obszaru katody wytworzono nad tym obszarem nadmiar elektronów. Wytworzone elektrony dryfowały zgodnie z kierunkiem siły Lorenza, kompensując sobą brak elektronów wtórnych w początkowym obszarze katody. Obszar ten będący obszarem narastania lawiny elektronowej zmniejszał się proporcjonalnie do zwiększania koncentracji elektronów emitowanych przez urządzenie emitujące. Przy odpowiednio dużej koncentracji elektronów może on zostać całkowicie wyeliminowany.
Zaletą sposobu według wynalazku jest ujednorodnienie grubości osadzonej na podłożu warstwy.
168 615
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz Cena 1,50 zł
Claims (1)
- Zastrzeżenie patentoweSposób rozpylania magnetronowego polegający na umieszczeniu w odpompowanym zbiorniku próżniowym anody i katody, nad powierzchnią której wytwarza się pole magnetyczne przy użyciu podkowiastego układu magnetycznego oraz na podaniu na anodę i katodę wysokiego napięcia, znamienny tym, że w początkowym obszarze rozpylanej tarczy za pomocą urządzenia emitującego elektrony wytwarza się strefę o dużej koncentracji elektronów.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL29531292A PL168615B1 (pl) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | Sposób rozpylania magnetronowego |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PL29531292A PL168615B1 (pl) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | Sposób rozpylania magnetronowego |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL295312A2 PL295312A2 (en) | 1993-04-19 |
PL168615B1 true PL168615B1 (pl) | 1996-03-29 |
Family
ID=20058117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL29531292A PL168615B1 (pl) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | Sposób rozpylania magnetronowego |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
PL (1) | PL168615B1 (pl) |
-
1992
- 1992-07-15 PL PL29531292A patent/PL168615B1/pl unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL295312A2 (en) | 1993-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1195951A (en) | Shaped field magnetron electrode | |
US4862032A (en) | End-Hall ion source | |
KR100659828B1 (ko) | 이온화 물리적 증착 방법 및 장치 | |
US6224725B1 (en) | Unbalanced magnetron sputtering with auxiliary cathode | |
CA2326202C (en) | Method and apparatus for deposition of biaxially textured coatings | |
US4710283A (en) | Cold cathode ion beam source | |
US20090032393A1 (en) | Mirror Magnetron Plasma Source | |
KR20010102141A (ko) | 자기 버킷 및 동심 플라즈마와 재료 소스를 가진 이온화물리적 증착 방법 및 장치 | |
US4434042A (en) | Planar magnetron sputtering apparatus | |
EP1390558A1 (en) | Penning discharge plasma source | |
EP0051635A4 (en) | Sputter target and device for coating by means of glow discharge. | |
ATE29623T1 (de) | Magnetron kathodenzerstauebungssystem. | |
JP2002352765A (ja) | イオン注入装置 | |
KR20140019577A (ko) | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법 | |
US4622122A (en) | Planar magnetron cathode target assembly | |
US7294283B2 (en) | Penning discharge plasma source | |
US5397448A (en) | Device for generating a plasma by means of cathode sputtering and microwave-irradiation | |
RU2030807C1 (ru) | Источник ионов с замкнутым дрейфом электронов | |
US20050205412A1 (en) | Sputtering device for manufacturing thin films | |
Mamun et al. | Production of magnetized electron beam from a DC high voltage photogun | |
US20020050453A1 (en) | Vapor deposition coating apparatus | |
US6733642B2 (en) | System for unbalanced magnetron sputtering with AC power | |
PL168615B1 (pl) | Sposób rozpylania magnetronowego | |
US7638022B2 (en) | Magnetron source for deposition on large substrates | |
RU2601903C2 (ru) | Способ напыления тонкопленочных покрытий на поверхность полупроводниковых гетероэпитаксиальных структур методом магнетронного распыления |