PL161596B2 - Sposób reaktywnego napylania jonowego PL - Google Patents
Sposób reaktywnego napylania jonowego PLInfo
- Publication number
- PL161596B2 PL161596B2 PL28496390A PL28496390A PL161596B2 PL 161596 B2 PL161596 B2 PL 161596B2 PL 28496390 A PL28496390 A PL 28496390A PL 28496390 A PL28496390 A PL 28496390A PL 161596 B2 PL161596 B2 PL 161596B2
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- metal
- crucible
- reactive ionic
- sputtering process
- plasma
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 title 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 4
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 abstract 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Sposób reaktywnego napylania jonowego zwlaszcza warstw zwiazków metali, polega- jacy na umieszczeniu w zbiorniku prózniowym quasi-zamknietego tygla, a w nim odparowy- wanego metalu, oraz podgrzaniu tegoz metalu do wysokiej temperatury, z jednoczesna jonizacja par metalu wyplywajacych przez dysze tygla w obecnosci gazu reakcyjnego wypelniajacego zbiornik prózniowy, znamienny tym, ze pary metalu jonizowane sa w obecnosci plazmy w obszarze wyladowania magnetronowego. PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób reaktywnego napylania jonowego, zwłaszcza związków metali znajdujących zastosowanie do nanoszenia warstw odpornych na zużycie.
Znane są z publikacji I.Yamady i T.Takagi Current status of ionized - cluster beam techniques, Nuci.Instrum. and Meth. Phys.Res 1987 v.B 21, Nr 2-4, sposoby reaktywnego napylania jonowego. polegające na tym, że w komorze próżniowej umieszcza sie quasi-zamkniety tygiel, wyposażony w dyszą o małej średnicy. Wewnątrz tygla umieszcza sie materiał bedący substratem reakcji plazmo-chemicznej, najczęściej metal i całość nagrzewa się do wysokiej temperatury. W wyniku wytworzenia się w objętości tygla par metalu, których ciśnienie przewyższa średnio o cztery rzędy wartość ciśnienia panującego w komorze próżniowej, z dyszy tygla z szybkością naddźwiękową wypływa strumień par metalu, które wchodzą w reakcję chemiczną z gazem roboczym, wypełniającym komorę próżniową. W celu zwiększenia energii aktywacji atomów metalu tworzących strumień par i przyśpieszenia procesu tworzenia się związku, jonizuje się je dodatkowo wiązką elektronów oraz przyśpiesza w polu elektrycznym, wytworzonym pomiędzy tyglem a podłożem, mającym zwykle niewielki potencjał ujemny. Wadą sposobu jest konieczność dodatkowej jonizacji par metalu, wymuszająca użycie urządzeń elektronowiązkowych, co znacznie podwyższa koszt urządzenia realizującego opisany sposób.
Sposób reaktywnego napylania według wynalazku polega na tym, ze pary metalu jonizowane są w obszarze plazmy wyładowania magnetronowego.
Sposób według wynalazku będzie opisany bliżej na przykładzie wykonania umożliwiającym otrzymanie warstw węglika tytanu.
Wewnątrz zbiornika próżniowego umieszczono grafitowy tygiel, do którego wnętrza nasypano proszek tytanu, zajmujący około 2/3 objętości tygla. Na górną część tygla nakręcono pokrywę wykonaną w kształcie dyszy. Tygiel ustawiono na izolowanym pręcie wolframowym, tak, aby znalazł się w osi wnękowego magnetronowego urządzenia rozpylającego, po którego przeciwległej stronie umocowano podłoże spolaryzowane do napięcia - 170K
Po wytworzeniu w zbiorniku ciśnienia 10 pa, do jego wnętrza dostarczono acetylen i argon w stosunku 2:1 i w takiej ilości, ze ciśnienie całkowite w zbiorniku wyniosło 10 Pa. Na tygiel podano napięcie - 370 V, w celu wytworzenia we wnęce magnetronu obszaru plazmy i po nagrzaniu tygla do temperatury około 2000°C przeprowadzono proces osadzania w czasie około 10 min. W celu szybszego podgrzania materiału tygiel dodatkowo grzano oporowo. Zjonizowane atomy materiału odparowywanego w czasie przelotu przez obszar plazmy tworzyły węglik tytanu TiC, który osadzał się na powierzchni podłoża w postaci warstwy o strukturze drobnokrystalicznej.
Zaletą wynalazku jest możliwość wyeliminowania układu grzewczego, gdyż w wyniku rozpylania tygiel rozgrzewa się do wysokiej temperatury, natomiast wybite z powierzchni tygla atomy węgla są dodatkowym źródłem materiału tworzącej się warstwy.
Zakład Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz.
Cena 10 000 zł
Claims (1)
- Zastrzeżenie patentoweSposób reaktywnego napylania jonowego zwłaszcza warstw związków metali, polegający na umieszczeniu w zbiorniku próżniowym quasi-zamkniętego tygla, a w nim odparowywanego metalu, oraz podgrzaniu tegoż metalu do wysokiej temperatury, z jednoczesną jonizacją par metalu wypływających przez dysze tygla w obecności gazu reakcyjnego wypełniającego zbiornik próżniowy, znamienny tym, ze pary metalu jonizowane są w obecności plazmy w obszarze wyładowania magnetronowego.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL28496390A PL161596B2 (pl) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | Sposób reaktywnego napylania jonowego PL |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL28496390A PL161596B2 (pl) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | Sposób reaktywnego napylania jonowego PL |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL284963A2 PL284963A2 (en) | 1991-01-28 |
| PL161596B2 true PL161596B2 (pl) | 1993-07-30 |
Family
ID=20051080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL28496390A PL161596B2 (pl) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | Sposób reaktywnego napylania jonowego PL |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL161596B2 (pl) |
-
1990
- 1990-04-26 PL PL28496390A patent/PL161596B2/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL284963A2 (en) | 1991-01-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4505948A (en) | Method of coating ceramics and quartz crucibles with material electrically transformed into a vapor phase | |
| Mattox | Physical vapor deposition (PVD) processes | |
| CA1157806A (en) | Cubic boron nitride preparation | |
| Lindfors et al. | Cathodic arc deposition technology | |
| US4619748A (en) | Method and apparatus for the reactive vapor deposition of layers of oxides, nitrides, oxynitrides and carbides on a substrate | |
| Scheibe et al. | The laser-arc: a new industrial technology for effective deposition of hard amorphous carbon films | |
| Ehrich et al. | Adhesive metal films obtained by thermionic vacuum arc (TVA) deposition | |
| US3492215A (en) | Sputtering of material simultaneously evaporated onto the target | |
| JPH09508942A (ja) | プラズマ活性化蒸着のための方法及び装置 | |
| RU2146724C1 (ru) | Способ нанесения композиционных покрытий | |
| Surdu-Bob et al. | General characteristics of the Thermoionic Vacuum Arc plasma | |
| US5320882A (en) | Laser ablative particulate composite | |
| PL161596B2 (pl) | Sposób reaktywnego napylania jonowego PL | |
| CA1264613A (en) | Process and apparatus for metallising foils in a vacuum roll coating machine | |
| US20030234176A1 (en) | Production of carbon and carbon-based materials | |
| Martin | Ionization-assisted evaporative processes: techniques and film properties | |
| Mattox | Vacuum Deposition, Reactive Evaporation, and Gas Evaporation | |
| Schultrich et al. | High rate deposition by vacuum arc methods | |
| RU2653399C2 (ru) | Способ нанесения покрытия из аморфного оксида алюминия реактивным испарением алюминия в разряде низкого давления | |
| JPH04120270A (ja) | クラスタイオンビーム発生方法およびクラスタイオンビーム発生装置 | |
| CA2201810A1 (en) | Gas-controlled arc apparatus and process | |
| Mattox | Deposition processes | |
| GB1574677A (en) | Method of coating electrically conductive components | |
| JPH09165674A (ja) | 真空被覆装置 | |
| Tsyrenov et al. | Formation features of composite coatings based on titanium nitride by method of vacuum-arc evaporation and magnetron sputtering |