PL161596B2 - Sposób reaktywnego napylania jonowego PL - Google Patents

Sposób reaktywnego napylania jonowego PL

Info

Publication number
PL161596B2
PL161596B2 PL28496390A PL28496390A PL161596B2 PL 161596 B2 PL161596 B2 PL 161596B2 PL 28496390 A PL28496390 A PL 28496390A PL 28496390 A PL28496390 A PL 28496390A PL 161596 B2 PL161596 B2 PL 161596B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
metal
crucible
reactive ionic
sputtering process
plasma
Prior art date
Application number
PL28496390A
Other languages
English (en)
Other versions
PL284963A2 (en
Inventor
Krzysztof Miernik
Wladimir Barczenko
Siergiej Zagraniczny
Igor Balikojew
Original Assignee
Miedzyresortowe Ct Naukowe Eks
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miedzyresortowe Ct Naukowe Eks filed Critical Miedzyresortowe Ct Naukowe Eks
Priority to PL28496390A priority Critical patent/PL161596B2/pl
Publication of PL284963A2 publication Critical patent/PL284963A2/xx
Publication of PL161596B2 publication Critical patent/PL161596B2/pl

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Sposób reaktywnego napylania jonowego zwlaszcza warstw zwiazków metali, polega- jacy na umieszczeniu w zbiorniku prózniowym quasi-zamknietego tygla, a w nim odparowy- wanego metalu, oraz podgrzaniu tegoz metalu do wysokiej temperatury, z jednoczesna jonizacja par metalu wyplywajacych przez dysze tygla w obecnosci gazu reakcyjnego wypelniajacego zbiornik prózniowy, znamienny tym, ze pary metalu jonizowane sa w obecnosci plazmy w obszarze wyladowania magnetronowego. PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób reaktywnego napylania jonowego, zwłaszcza związków metali znajdujących zastosowanie do nanoszenia warstw odpornych na zużycie.
Znane są z publikacji I.Yamady i T.Takagi Current status of ionized - cluster beam techniques, Nuci.Instrum. and Meth. Phys.Res 1987 v.B 21, Nr 2-4, sposoby reaktywnego napylania jonowego. polegające na tym, że w komorze próżniowej umieszcza sie quasi-zamkniety tygiel, wyposażony w dyszą o małej średnicy. Wewnątrz tygla umieszcza sie materiał bedący substratem reakcji plazmo-chemicznej, najczęściej metal i całość nagrzewa się do wysokiej temperatury. W wyniku wytworzenia się w objętości tygla par metalu, których ciśnienie przewyższa średnio o cztery rzędy wartość ciśnienia panującego w komorze próżniowej, z dyszy tygla z szybkością naddźwiękową wypływa strumień par metalu, które wchodzą w reakcję chemiczną z gazem roboczym, wypełniającym komorę próżniową. W celu zwiększenia energii aktywacji atomów metalu tworzących strumień par i przyśpieszenia procesu tworzenia się związku, jonizuje się je dodatkowo wiązką elektronów oraz przyśpiesza w polu elektrycznym, wytworzonym pomiędzy tyglem a podłożem, mającym zwykle niewielki potencjał ujemny. Wadą sposobu jest konieczność dodatkowej jonizacji par metalu, wymuszająca użycie urządzeń elektronowiązkowych, co znacznie podwyższa koszt urządzenia realizującego opisany sposób.
Sposób reaktywnego napylania według wynalazku polega na tym, ze pary metalu jonizowane są w obszarze plazmy wyładowania magnetronowego.
Sposób według wynalazku będzie opisany bliżej na przykładzie wykonania umożliwiającym otrzymanie warstw węglika tytanu.
Wewnątrz zbiornika próżniowego umieszczono grafitowy tygiel, do którego wnętrza nasypano proszek tytanu, zajmujący około 2/3 objętości tygla. Na górną część tygla nakręcono pokrywę wykonaną w kształcie dyszy. Tygiel ustawiono na izolowanym pręcie wolframowym, tak, aby znalazł się w osi wnękowego magnetronowego urządzenia rozpylającego, po którego przeciwległej stronie umocowano podłoże spolaryzowane do napięcia - 170K
Po wytworzeniu w zbiorniku ciśnienia 10 pa, do jego wnętrza dostarczono acetylen i argon w stosunku 2:1 i w takiej ilości, ze ciśnienie całkowite w zbiorniku wyniosło 10 Pa. Na tygiel podano napięcie - 370 V, w celu wytworzenia we wnęce magnetronu obszaru plazmy i po nagrzaniu tygla do temperatury około 2000°C przeprowadzono proces osadzania w czasie około 10 min. W celu szybszego podgrzania materiału tygiel dodatkowo grzano oporowo. Zjonizowane atomy materiału odparowywanego w czasie przelotu przez obszar plazmy tworzyły węglik tytanu TiC, który osadzał się na powierzchni podłoża w postaci warstwy o strukturze drobnokrystalicznej.
Zaletą wynalazku jest możliwość wyeliminowania układu grzewczego, gdyż w wyniku rozpylania tygiel rozgrzewa się do wysokiej temperatury, natomiast wybite z powierzchni tygla atomy węgla są dodatkowym źródłem materiału tworzącej się warstwy.
Zakład Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz.
Cena 10 000 zł

Claims (1)

  1. Zastrzeżenie patentowe
    Sposób reaktywnego napylania jonowego zwłaszcza warstw związków metali, polegający na umieszczeniu w zbiorniku próżniowym quasi-zamkniętego tygla, a w nim odparowywanego metalu, oraz podgrzaniu tegoż metalu do wysokiej temperatury, z jednoczesną jonizacją par metalu wypływających przez dysze tygla w obecności gazu reakcyjnego wypełniającego zbiornik próżniowy, znamienny tym, ze pary metalu jonizowane są w obecności plazmy w obszarze wyładowania magnetronowego.
PL28496390A 1990-04-26 1990-04-26 Sposób reaktywnego napylania jonowego PL PL161596B2 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL28496390A PL161596B2 (pl) 1990-04-26 1990-04-26 Sposób reaktywnego napylania jonowego PL

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL28496390A PL161596B2 (pl) 1990-04-26 1990-04-26 Sposób reaktywnego napylania jonowego PL

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL284963A2 PL284963A2 (en) 1991-01-28
PL161596B2 true PL161596B2 (pl) 1993-07-30

Family

ID=20051080

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL28496390A PL161596B2 (pl) 1990-04-26 1990-04-26 Sposób reaktywnego napylania jonowego PL

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL161596B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL284963A2 (en) 1991-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4505948A (en) Method of coating ceramics and quartz crucibles with material electrically transformed into a vapor phase
US5296274A (en) Method of producing carbon-containing materials by electron beam vacuum evaporation of graphite and subsequent condensation
Mattox Physical vapor deposition (PVD) processes
CA1157806A (en) Cubic boron nitride preparation
Vick et al. Production of porous carbon thin films by pulsed laser deposition
US4619748A (en) Method and apparatus for the reactive vapor deposition of layers of oxides, nitrides, oxynitrides and carbides on a substrate
CA1193494A (en) Method of and apparatus for the vapor deposition of material upon a substrate
Scheibe et al. The laser-arc: a new industrial technology for effective deposition of hard amorphous carbon films
Ehrich et al. Adhesive metal films obtained by thermionic vacuum arc (TVA) deposition
Hakovirta et al. Techniques for filtering graphite macroparticles in the cathodic vacuum arc deposition of tetrahedral amorphous carbon films
JPH09508942A (ja) プラズマ活性化蒸着のための方法及び装置
Murray et al. Dynamics of graphite photoablation: kinetic energy of the precursors to diamond-like carbon
PL161596B2 (pl) Sposób reaktywnego napylania jonowego PL
Surdu-Bob et al. General characteristics of the Thermoionic Vacuum Arc plasma
US20030234176A1 (en) Production of carbon and carbon-based materials
Schultrich et al. High rate deposition by vacuum arc methods
RU2653399C2 (ru) Способ нанесения покрытия из аморфного оксида алюминия реактивным испарением алюминия в разряде низкого давления
JPH04120270A (ja) クラスタイオンビーム発生方法およびクラスタイオンビーム発生装置
CA2201810A1 (en) Gas-controlled arc apparatus and process
Tsyrenov et al. Formation features of composite coatings based on titanium nitride by method of vacuum-arc evaporation and magnetron sputtering
GB1574677A (en) Method of coating electrically conductive components
RU2676719C1 (ru) Способ низкотемпературного нанесения нанокристаллического покрытия из альфа-оксида алюминия
RU2146724C1 (ru) Способ нанесения композиционных покрытий
RU2676720C1 (ru) Способ вакуумного ионно-плазменного низкотемпературного осаждения нанокристаллического покрытия из оксида алюминия
JPH09165674A (ja) 真空被覆装置