PL14982B1 - Wyparnica bebnowa. - Google Patents

Description

Znane jest zastosowanie w przemysle chemicznym aparatów bebnowych, ogrze¬ wanych wewnatrz para, do odparowywa¬ nia do sucha stezonych roztworów lub e- mulsyj róznych suhstancyj. Aparaty tego typu znalazly szerokie rozpowszechnienie w wypadkach, w których substancja za¬ wieszona lub rozpuszczona w cieczy ule¬ ga niekorzystnym zmianom, badz na sku¬ tek przegrzania, badz zbyt dlugiego sty¬ kania sie z goracym rozpuszczalnikiem.Aparaty tego typu stosowane obecnie w przemysle, w zaleznosci od sposobu do¬ prowadzania roztworów do zetkniecia sie z powierzchnia ogrzewalna obrotowego bebna parowego i odprowadzania produk¬ tu, posiadaja charakter specjalny, wsku¬ tek czego jedne z nich nie nadaja sie do odparowywania pod zmniejszonem cisnie¬ niem, inne moga sluzyc do odparowywa¬ nia roztworów o okreslonych wlasnosciach fizycznych, wreszcie prawie wszystkie pracuja z dosc mala wydajnoscia po¬ wierzchni ogrzewalnej.Aparat, który stanowi przedmiot pa- tentju, ijeist zbuidowamy tta' podstawie naste¬ pujacych roziwazan i obserwacylj. 1) Jezeli powierzchnie ogrzewalna otemperaturze wyzszej od punktu wrzenia cieczy pokryc cienka warstwa roztworu, nastepuje ^" odparowasftife rozpuszczalnika, które mozna podzielic na dwie fazy. W pierwszej fazie tworza sie banieczki wy¬ pelnione para danego rozpuszczalnika. Ba¬ nieczki te po wyrosnieciu do pewnej wiel¬ kosci, zaleznej od wlasciwosci fizycznych cieczy, powierzchni ogrzewalnej i otacza¬ jacej atmfosfery, sa rozrywane przez znaj¬ dujaca sie wewnatrz pare, przyczem czesc odparowywanej substancji odpryskuje.W drugiej fazie odparowania czesc ro¬ zerwanej banieczki, przylegajaca do po- wierzchni ogrzewalnej, zostaje szybko u- wolniona calkowicie od rozpuszczalnika, zas czesc pozostala, przyczepiona do pierwszej za posrednictwem cienkiej, je¬ szcze wilgotnej scianki, traci rozpuszczal¬ nik bardzo wolno, glównie pod wplywem promieniowania powierzchni ogrzewalnej. 2) Jezeli substancja tworzaca emulsje lub rozpuszczona praktycznie nie ulega zmianie w niskich temperaturach, lecz zmienia sie niekorzystnie pod wplywem goracego rozpuszczalnika, najlepszy pro¬ dukt otrzyma sie wtedy, gdy czas pod¬ grzewania i odparowywania roztworu be¬ dzie jak najkrótszy, a isamo odparowywa- nie bedzie sie moglo odbywac pod zmniej- szonem cisnieniem. 3) Sprawnosc odparowywania po¬ wierzchni ogrzewalnej wyparnic bebno¬ wych, sluzacych do calkoNvitego usuniecia rozpuszczalnika, jest wielokrotnie mniej¬ sza od sprawnosci dowolnego typu apara¬ tu (stezajacego roztwór.Aby zatem wypannica bebnowa dawa¬ la idiuza wydajnosc pTtódtoktu, powinno sie miec moznosc doprowadzania do po¬ wierzchni oigrzewalnej bebna nietylko roztwory wlatedwe1 lub emulsje, ale rów¬ niez mieszaniny, skladajace sie z nasyco¬ nego roztworu i fazy stalej danej substan¬ cji, chocby ta ostatnia latwo sie oddziela¬ la oi fazy cieklej.Dla uzyskania korzysci, wynikajacych z powyzszego rozumowania, aparat bebno¬ wy posiada dwa bebny obrotowe A, sty¬ kajace sie wzdluz tworzacej C.System doprowadzania roztworu znaj¬ duje sie pod bebnami parowemi i sklada sie z misy c, w której umieszczone sa dwa walce a. Walce te, obracajac sie z odpo¬ wiednia szybkoscia w kierunku strzalek, rozprowadzaja ciecz, splywajaca z rurki d, na cala szerokosc powierzchni ogrze¬ walnej bebnów i, dzieki przylepnosci cie¬ czy do ich powierzchni, pracuja, jak .pom¬ pa wirowa. Ciecz jest podnoszona na gór¬ na czesc misy c, przyczem przepony 6 u- latwiaja wytwarzanie pod niemi pewnego nadcisnienia, niezbednego do wprowa¬ dzania roztworu lub nawet gestej miesza* niny nasyconego roztworu z faza stala pod czesc srodkowa bebnów parowych. Prócz tego walce spelniaja role mieszadla unie¬ mozliwiajacego w wypadkach istnienia fa¬ zy stalej o4dlzielenie 'sie jej od roztworu.Wreszcie porywaja odpryskujaca w pierw¬ szej fazie stezania substancje i wprowa¬ dzaja ja wraz z nowa porcja cieczy zpo- wrotem pod bebny parowe. Ciecz wyci¬ skana równomierna warstewka z pod prze¬ pony b przylega do powierzchni ogrzewal¬ nej bebna.Obrotowi bebnów od punktu B do C odpowiada pierwsza faza stezania. W punkcie C odstajace od powierzchni wil¬ gotne czasteczki substancji zostaja ,,przy- prasowane" do powierzchni ogrzewalnej wzajemnym dociskiem bebnów parowych, wskutek czego sprawnosc powierzchni po¬ za punktem C wydatnie zwieksza sie.Dzieki temu urzadzeniu unika sie na¬ grzewania wiekszych ilosci cieczy, tak ze kazda czastka cieczy nagrzewa sie dopie¬ ro w chwili wprowadzenia jej na po¬ wierzchnie (ogrzewalna.Przez równomierne doprowadzanie cie¬ czy do powierzchni ogrzewalnej czesc mi¬ sy c niewiele jest wysunieta poza punkt - 2 -zetkniecia sie cieczy z powierzchnia beb¬ na parowego, wskutek wiadajacy powierzchni bebnów miewyzy- skanej jest bardzo maly. Przy doprowa¬ dzaniu cieczy do dolnej .powierzchni beb¬ nów uzyskuje sie równiez najkorzystniej¬ sze ustawienie nozy, bowiem w aparatach zalewanych zgóry noze umieszczone sa równiez w górnej czesci, co pociaga za so¬ ba wieksze straty przez rozpylenie pro¬ duktu.Proste urzadzenie do doprowadzania cieczy pozwala na latwa obudowe powyz¬ szego aparatu i dostosowanie go do pracy równiez pod cisnieniem zmniejszonem. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe. Wyparnica bebnowa do odparowywa¬ nia roztlwofców, emulsyj i mieszanin roz¬ tworów nasyconych z wydzielona faza sta¬ la, znamienna tern, ze zaopatrzona jest w walce obrotowe, umieszczone pod bebna¬ mi parowemi, i przepone stykajaca sie z powierzchnia walców obrotowych. S. A. „Azot". A. P i 11 z. Zastepca: K. Czempinski, rzecznik patentowy. bruk L. Boguslawskiego t Skl, Warszaw- PL