PL145306B1 - Method of obtaining chemically and thermally resisting polyarylsulfonates being sensitive to ultraviolet radiation - Google Patents

Method of obtaining chemically and thermally resisting polyarylsulfonates being sensitive to ultraviolet radiation Download PDF

Info

Publication number
PL145306B1
PL145306B1 PL25502785A PL25502785A PL145306B1 PL 145306 B1 PL145306 B1 PL 145306B1 PL 25502785 A PL25502785 A PL 25502785A PL 25502785 A PL25502785 A PL 25502785A PL 145306 B1 PL145306 B1 PL 145306B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
bis
photosensitive
bisphenol
ethoxy
sensitive
Prior art date
Application number
PL25502785A
Other languages
English (en)
Other versions
PL255027A1 (en
Inventor
Zbigniew Brzozowski
Pawel Mikolajczuk
Boguslaw Jozwik
Original Assignee
Politechnika Warszawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Warszawska filed Critical Politechnika Warszawska
Priority to PL25502785A priority Critical patent/PL145306B1/pl
Publication of PL255027A1 publication Critical patent/PL255027A1/xx
Publication of PL145306B1 publication Critical patent/PL145306B1/pl

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania ohemo- i termoodpornych poliarylosul- fonianów czulych na promienie ultrafioletowe. Z opisów patentowych Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 236 808 i nr 3 236 809 znane sa metody otrzymywania poliarylosulfonianów na drodze polikondensacji bisfenylosulfoohlorków z bisfenolami. Uzyskane tymi metodami po¬ liarylosulf oniany wykazuja wysoka odpornosc termiczna i chemiczna, natomiast ich odpor¬ nosc na dzialania ognia jest niezadowalajaca oraz nie sa czule na dzialanie promieni ul¬ trafioletowych.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze w prooesio polikondensaoJi bisfenylosulfo- ohlorkow z bisfenolarai jako bisfenylosulfochlorki stosuje sie zwiazki o wzorze ogólnym 3, w którym R1 oznacza grupe diohloroetylenowa lub triohloroetanowa oraz X i Y oznaczaja atom wodoru, chlorowca, grupe alkilowa lub alkoksylowa, a jako bisfenole stosuje sie mieszani¬ ne skladajaca sie z bisfenoli swiatloczulych o wzorze ogólnym 1f w którym Z oznaoza ugru¬ powanie swiatloczule zawierajace grupe ketonowa, a X i Y maja wyzej podane znaozenie oraz z bisfenoli nieswlatloozulych o wzorze ogólnym 2, w którym R oznaoza atom tlenu, siarki, grupe karbonylowa, sulfonowa, etylenowa, izopropylidenowa lub triohloroetanowa, a X i Y maja wyzej podane znaczenie* Reakoje polikondensaoJi prowadzi sie na granicy fazy wodnej stanowiacej alkaliczny roztwór bisfenoli i fazy organicznej stanowiacej roztwór bisfeny¬ losulfochlorku w rozpuszczalniku organicznym wobec soli amoniowych i/lub sulfoniowyoh i/lub eterów koronowych i/lub srodków powierzchniowo czynnych Jako katalizatora lub reak¬ cje prowadzi sie w rozpuszczalniku organioznym wobec steohiometryoznyoh ilosci trójalki- loaminy jako katalizatora w stosunku do bisfenylosulfoohlorku. Poliarylosulfoniany o naj¬ korzystniejszych wlasciwosciach, najbardziej czule na promienie ultrafioletowe uzyskuje2 1^5 306 sie stosujac jako bisfenylosulfochlorek 2,2-bis/4-metosy-3-chlorosulfonylofenylo/-1,1-di- chloroetylen, Jako bis-fenol swiatloczuly 2,6-bis/3-etoksyn-hydro-ksybenzylideno/-oyklo- heksanon lub 2,6-bis/3-etoksy-*f-hydroksybenzylidono/-*l-metylocykloheksanon a jako bisfenol nieswiatloczuly 2,2-bis/4-hydroksyfenylo/-1,1-dichloroetylen lub 2,2-bis/4-hydroksyfenylo/- -propan* Sposób wedlug wynalazku pozwala na uzyskanie poliaryloostrów czulych na promienie ult¬ rafioletowe o zadowalajacej przyczepnosci do podlozy metalowych, dobrej swiatloczulosoi oraz zadowalajaoej odpornosoi na hydrolize kwasna* Jednoczesnie, otrzymane tak poliarylo- sulfoniany wykazuja znacznie podwyzszona termoodpornosc oraz znacznie obnizona palnosc w stosunku do poliarylosulfonianów wytwarzanyoh znanymi metodami* Wprawdzie moglo sie wyda¬ wac, ze zastosowanie w sposobie wedlug wynalazku czulych na promienie ultrafioletowe, nie¬ trwalych bisfenoli nie poprowadzi do wytworzenia poliarylosulfonianów o wymaganych wlasci¬ wosciach, gdy tymczasem uzyskano produkty o nieoczekiwanie dobrych wlasnosciach fizykoche¬ micznych, dobrze rozpuszczalne w chlorowanych weglowodorach alifatyoznyoh oraz w cyklohek¬ sanie, a nierozpuszczalne w alkoholach* Otrzymane bowiem sposobem wedlug wynalazku poliarylosulfoniany w wyniku dzialania pro¬ mieniowania ultrafioletowego ulegaja reakcji sieciowania, dzieki czemu staja sie nierozpu¬ szczalne* Poprzez naswietlanie przez odpowiednia maske warstw z takich poliarylosulfonia¬ nów naniesionych na podloze metalowe, a nastepnie prowadzac proces wywolywania w rozpusz¬ czalniku uzyskuje sie odwzorowanie obrazu z maski* Kopie takie bezposrednio lub po podda¬ niu ioh róznorakiej obróbce moga sluzyc jako matryce w technice druku plaskiego - offsecie* Dla uzyskania warstw ozulyoh na promienie ultrafioletowe poliarylosulfonian czuly na promienie ultrafioletowe, otrzymany sposobem wedlug wynalazku rozpuszcza sie w rozpuszczal¬ niku organicznym, korzystnie mieszaninie rozpuszczalników organicznyoh, a nastepnie nanosi na podloze metoda zanurzeniowa, polewania lub wirówkowa* Badania przyczepnosci warstw poliarylosulfoniowyoh do podlozy metalowych takich jak glin i miedz oraz pólprzewodnikowych jak Si + SiOp, przeprowadzone metoda siatki naciec zgodnie z PN-80/C-81531, daly zadowalajaco wyniki* Badania odpornosci poliarylosulfonianów czulych na promienie ultrafioletowe, otrzymanych sposobem wedlug wynalazku, na dzialanie substancji kwasnych zostaly przeprowadzone poprzez zanurzenie folii otrzymywanych metoda wylewania w kwasnych kapielach trawiacych, takich jak wodny roztwór chlorku zelazowego, wo¬ dny roztwór kwasu solnego, wodny roztwór kwasu azotowego, wodny roztwór fluorku amonowego i kwasu fluorowodorowego* We wszystkich przypadkach uzyskano zadowalajace wyniki odpornos¬ ciowe* Badania ozulosoi na promienie ultrafioletowe poliarylosulfonianów otrzymanych spo¬ sobem wedlug wynalazku zostaly przeprowadzone z wykorzystaniem lampy rteciowej wysokocis¬ nieniowej HBO 200 W* Czas ekspozycji warstwy poliarylosulfonianu ozulego na promienie ultra¬ fioletowe zalezy od grubosci warstwy i wynosi od kilku sekund do kilkunastu minut* Badania termoodpornosci poliarylosulfonianów czulyoh na promienie ultrafioletowe, otrzymanych spo¬ sobem wedlug wynalazku, przeprowadzono metoda termograwiraetryozna uzyskujac wartosci po¬ czatkowej ekstrapolowanej temperatury rozkladu 280-3^0 C* Przedmiot wynalazku ilustruja po¬ nizej przedstawione przyklady wykonania* Przyklad I. V reaktorze o pojemnosci 750 cmJ zaopatrzonym w mieszadlo mechani¬ czne umieszcza sie 110 czesci wagowych 0,1-molowego roztworu NaOH, a nastepnie dodaje sie 7,587 ozesoi wagowych 2,2-bis/^-hydroksyfenylo/-1,1-dichloroetylenu oraz 1,182 czesci wago¬ wych 2,6-bis /3-etoksy-4-hydroksybezylideno/-cykloheksanonu• Zawartosc reaktora miesza sie intensywnie, a nastepnie wprowadza do reaktora 1,3 czesci roztworu chlorku trietylobenzy- loamoniowego w 75 czesciach wody* Zawartosc reaktora miesza sie intensywnie przez 15 minut* Nastepnie do reaktora przy intensywnym mieszaniu wprowadza sie w czasie 20 minut 13,662 cze¬ sci 2,2 bis/3-sulfochloro-*l-metoksyfenylo/-1,1-dichloroetylenu w 180 czesoiaoh dichlorome¬ tanu* Calosc miesza sie intensywnie przez 2 godziny, a nastepnie stale mieszajac wprowadza sie 220 czesci dichlorometanu* Nastepnie zawartosc reaktora zakwasza sie 5f» roztworem HC1145 306 3 do pH = 1, Mieszanine poreakcyjna umieszcza sie w rozdzielaczu. Po oddzieleniu warstwy or¬ ganicznej dwukrotnie przemywa sie ja 100 czesciami wody destylowanej, a nastepnie wkrapla przy intensywnym mieszaniu do 3000 czesci wrzacej wody* Wydzielony osad odsacza sie, suszy przez 30 godzin, a nastepnie rozpuszcza w 100 czesciach dichlorometanu, po czym wytraca po¬ przez wprowadzenie do 400 ozesoi metanolu oziebionego do temperatury od -5 do -10°C. Wytra¬ cony osad odsaoza sie, a nastepnie suszy na powietrzu przez 24 godziny* Otrzymany poliarylosulfonian, o barwie jasnozóltej i lepkosci zredukowanej mierzonej w roztworze tetraohloroetanu w 25 C - 0,1, wykazywal dobra rozpuszczalnosc w dichlorometanie, chloroformie i cykloheksanonie* Warstwy naniesione na podloza z miedzi, glinu oraz Si + SiOp, badane wedlug IN-80/C-61531 wykazywaly stopien przyczepnosci do podloza 1* Ekstrapo¬ lewana temperatura rozkladu, oznaczona metoda analizy termograwimetrycznej wynosila 305 - 1o|°c|. Dla warstw o grubosci okolo 1x*m naniesionych na podlozu Si + Si02, po ozasie naswie¬ tlania 25 minut i wywolaniu w mieszaninie tetraohloroetan-ksylen /2:1 objetosciowo/ uzyska* no rozdzielczosc k/cm. Folie z otrzymanego poliarylosulfonianu, zarówno przed jak i po usle¬ ci owaniu, wykazaly odpornosc na okolo 10 minutowe dzialanie wodnych roztworów FeCl_, HC19 HNO oraz H^Fg + NH^F* Przyklad II* W reaktorze o pojemnosci 750 om , zaopatrzonym w mieszadlo mecha¬ niczne umieszcza sie 110 ozesoi wagowych 0,1-molowego roztworu NaOH, a nastepnie dodaje 4,788 ozesoi wagowych 2,2-bis-/4-hydroksyfenylo/ propanu oraz 5*901 ozesoi 2,6-bis /3-eto- ksy-4-hydroksybenzylideno/-oyklohek8anonu* Dalszy przebieg reakoji jest analogiozny jak w przykladzie pierwszym* Otrzymany poliarylosulfnnian o lepkosci zredukowanej 0,2 o barwie jasnozóltej wykazywal dobra rozpuszczalnosc w dichlorometanie, tetraohloroetanie, chloroformie 1 oykloheksanonie* Warstwy naniesione na podloza z miedzi, glinu oraz Si + SiOg wykazywaly stopien przyczep¬ nosci do podloza 1 wedlug RJ-80/C-81531• Ekstrapolewana temperatura rozkladu, oznaozona me¬ toda analizy termograwimetryoznej wynosila 290 £ 10TC| * Dla warstw o grubosci okolo 1 /+m naniesionych na podloza Si + Si02 p0 ozasie naswietlania 15 minut i wywolaniu w mieszani¬ nie tetraohloroetan-ksylen /3:2 objetosciowo/ uzyskano rozdzielczosc okolo 3,0^m* Przyklad XXI* W reaktorze o pojemnosci 750 om , zaopatrzonym w mieszadlo meoha- niozne umieszcza sie 110 ozesoi wagowych 0,1-molowego roztworu NaOH, a nastepnie dodaje sie 3,372 czesci 2,2-bis/4-hydroksyfenylo/-1,1-dichloroetylenu oraz 7,344 ozesoi 2,6-bis-/3- -etoksy-4-hylroksybenzylideno/-4-nietylooykloheksanonu* Dalszy przebieg reakoji jest analo¬ giczny jak w przykladzie pierwszym* Otrzymany poliarylosulfonian o lepkosci zredukowanej 0,11 o barwie zóltozielonej, wyka* zywal dobra rozpuszczalnosc w dichlorometanie tratraohloroetanie, chloroformie i oyklohek¬ sanonie* Warstwy naniesione na podloze z miedzi, glinu oraz Si + Si02 wykazywaly stopien przyczepnosci do podloza 1 wedlug PN-80/C-81531• EkstrapoIowana temperatura rozkladu ozna¬ czona metoda analizy termograwimetryoznej wynosila 300 - 10 C* Dla warstw o grubosci okolo Un naniesionych na podloze Si + SiO^ po czasie naswietlania 15 minut i wywolana w miesza¬ ninie tetrachloroetanksylen /2:1 objetosciowo/ uzyskano rozdzielozosc rzedu 3,0 Atm. Folie poliarylosulfonianowe, zarówno przed jak i po usieciowaniu wykazywaly odpornosc na okolo 15 minutowe dzialanie wodnych roztworów FeCl~, HC1, HN0~ oraz H^F^ + NRYF* Przyklad IV* W reaktorze o pojemnosci 750 om , zaopatrzonym w mieszadlo mecha¬ niczne umieszcza sie 110 ozesoi wagowyoh 0,1 molowego roztworu NaOH, a nastepnie dodaje 0,684 ozesci 2,2-bis-/4-hydroksyfenylo/-propanu oraz 11,018 ozesoi 2,6-bls-/3etoksy-4-hyd- roksybenzylideno/-4-metylocykloheksanonu* Dalszy przebieg reakcji jest analogiozny jak w przykladzie pierwszym* Otrzymany poliarylosulfonian o lepkosci zredu&manej 0,09 o barwie zóltozielonej wykazy¬ wal dobra rozpuszczalnosc w dichlorometanie, tetraohloroetanie, chloroformie 1 oykloheksano¬ nie* Warstwy naniesione na podlozu z miedzi, glinu oraz Si + SiO^ wykazywaly stopien przy¬ czepnosci do podloza 1 wedlug RJ-80/C-81531• EkstrapoIowana temperatura rozkladu oznaczona metoda analizy term©grawimetrycznej o grubosci okolo l^m naniesionyoh na podloza Si + SiOg, %k 145 306 po ozasie naswietlania 15 minut i wywolaniu w mieszaninie tetraohloroetan - ksylen /2:1 ob¬ jetosciowo/ uzyskano rozdzielczosc rzedu 3,0/rm* Folie pollarylosulfonianowe, zarówno przed jak i po usieoiowaniu, wykazywaly odpornosc na okolo 10 minutowe dzialanie wodnych roztwo¬ rów FeCl , HClf HN03 oraz HgFg + NH^F, Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania ohemo- i termoodpornych poliarylosulfonianów czulych na promienie ultrafioletowe, znamienny tym, ze jako bisfenylosulfoohlorki stosuje sie zwia¬ zki o wzorze ogólnym 3, w którym R. oznaoza diohloroetylenowa grupe lub triohloroetanowa oraz X i Y oznaczaja atom wodoru, chlorowcat grupe alkilowa lub alkoksylowa a jako blsfeno- le stosuje sie mieszanine skladajaca sie z bisfenoli swiatloczulych o wzorze ogólnym 1, w którym Z oznacza ugrupowanie swiatloczule zawierajace grupe CO a X i Y maja wyzej podane znaczenie oraz z bisfenoli nieswiatloozulyoh o wzorze ogólnym 2, w którym R oznaoza atom tlenku, siarki, grupe karbonylowa, sulfonowa, etylenowa, izopropylidenowa, diohloroetyle¬ nowa lub triohloroetanowa a X i Y maja wyzej podane znaczenie, przy czym reakcje polikon- densaoji prowadzi sie na granicy fazy wodnej stanowiacej alkaliozny roztwór bisfenoli i fa¬ zy organicznej stanowiacej roztwór bisfenylosulfochlorku w rozpuszczalniku organicznym wo¬ bec soli amoniowyoh i/lub sulfoniowyoh i/lub fosfoniowyoh i/lub eterów koronowych i/lub srodków powierzchniowo czynnych jako katalizatora lub reakcje prowadzi sie w rozpuszczalni¬ ku organicznym wobec steohiometrycznyoh ilosci trialkiloaminy w stosunku do bisfenylosulfo- ohlorku jako katalizatora* 2. Sposób wedlug zastrz* 1,znamienny tym, ze jako bisfenol swiatloczuly stosuje sie 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksybenzylideno/-oykloheksanon, jako bisfenol nieswiat- loczuly 2,2-bis/4-hydrosyyfenylo/-1,1-diohloroetylen, a jako bisfenylosulfochlorek 2,2-bis /4-metoksy-3-chlorosulf onylofenylo/-1,1 ..diohloroetylen* 3* Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze jako bisfenol swiatloczuly stosuje sie 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksy-benzylideno/oykloheksanon, jako bisfenol nieswiat- loczuly 2,2-bis/4-hydroksyfenylo/propan, a Jako bisfenylosulfochlorek Z,2-bis/4-raetoksy- -3-chlorosulfonylofenylo/-1,1-dichloroetylen• 4* Sposób wedlug zastrz* 1,znamienny tym, ze w reakcji polikondensacji pro* wadzonoJ na granicy faz stosuje sie Jako bisfenol swiatloczuly 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksy- -benzylideno/-4-metylooyklohek8anon, jako bisfenol nieswiatloczuly 2,2-bis/4-hydroksyfeny- lo/-1,1-diohloroetylen, a Jako bisfenylosulfochlorek 2,2-bis/4-motoksy-3-ohlorosulfonylo/- -1,1-diohloroe tylen• 5* Sposób wedlug zastrz* 1,znamienny tym, ze w reakcji polikondensaoji pro¬ wadzonej na granicy faz stosuje sie Jako bisfenol swiatloczuly 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksy- vbenzylideno/-4-metylooykloheksanon, jako bisfenol nieswiatloczuly 2,2-bis/4-hydroksyfeny- lo/propan, a Jako bisfenylosulfochlorek 2,2-bis/4-metoksy-3-chlorosulfonylofenylo/-1,1-di¬ ohloroe ty len* X Y CI02S ~6h WZ0R1 HO^yRYoYoH Ri-\Whso2ci X Y WZÓR 3 WZÓR 2 Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz.Cena 220 zl PL

Claims (5)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania ohemo- i termoodpornych poliarylosulfonianów czulych na promienie ultrafioletowe, znamienny tym, ze jako bisfenylosulfoohlorki stosuje sie zwia¬ zki o wzorze ogólnym 3, w którym R. oznaoza diohloroetylenowa grupe lub triohloroetanowa oraz X i Y oznaczaja atom wodoru, chlorowcat grupe alkilowa lub alkoksylowa a jako blsfeno- le stosuje sie mieszanine skladajaca sie z bisfenoli swiatloczulych o wzorze ogólnym 1, w którym Z oznacza ugrupowanie swiatloczule zawierajace grupe CO a X i Y maja wyzej podane znaczenie oraz z bisfenoli nieswiatloozulyoh o wzorze ogólnym 2, w którym R oznaoza atom tlenku, siarki, grupe karbonylowa, sulfonowa, etylenowa, izopropylidenowa, diohloroetyle¬ nowa lub triohloroetanowa a X i Y maja wyzej podane znaczenie, przy czym reakcje polikon- densaoji prowadzi sie na granicy fazy wodnej stanowiacej alkaliozny roztwór bisfenoli i fa¬ zy organicznej stanowiacej roztwór bisfenylosulfochlorku w rozpuszczalniku organicznym wo¬ bec soli amoniowyoh i/lub sulfoniowyoh i/lub fosfoniowyoh i/lub eterów koronowych i/lub srodków powierzchniowo czynnych jako katalizatora lub reakcje prowadzi sie w rozpuszczalni¬ ku organicznym wobec steohiometrycznyoh ilosci trialkiloaminy w stosunku do bisfenylosulfo- ohlorku jako katalizatora*
  2. 2. Sposób wedlug zastrz* 1,znamienny tym, ze jako bisfenol swiatloczuly stosuje sie 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksybenzylideno/-oykloheksanon, jako bisfenol nieswiat- loczuly 2,2-bis/4-hydrosyyfenylo/-1,1-diohloroetylen, a jako bisfenylosulfochlorek 2,2-bis /4-metoksy-3-chlorosulf onylofenylo/-1,1 ..diohloroetylen*
  3. 3. * Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze jako bisfenol swiatloczuly stosuje sie 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksy-benzylideno/oykloheksanon, jako bisfenol nieswiat- loczuly 2,2-bis/4-hydroksyfenylo/propan, a Jako bisfenylosulfochlorek Z,2-bis/4-raetoksy- -3-chlorosulfonylofenylo/-1,1-dichloroetylen•
  4. 4. * Sposób wedlug zastrz* 1,znamienny tym, ze w reakcji polikondensacji pro* wadzonoJ na granicy faz stosuje sie Jako bisfenol swiatloczuly 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksy- -benzylideno/-4-metylooyklohek8anon, jako bisfenol nieswiatloczuly 2,2-bis/4-hydroksyfeny- lo/-1,1-diohloroetylen, a Jako bisfenylosulfochlorek 2,2-bis/4-motoksy-3-ohlorosulfonylo/- -1,1-diohloroe tylen•
  5. 5. * Sposób wedlug zastrz* 1,znamienny tym, ze w reakcji polikondensaoji pro¬ wadzonej na granicy faz stosuje sie Jako bisfenol swiatloczuly 2,6-bis/3-etoksy-4-hydroksy- vbenzylideno/-4-metylooykloheksanon, jako bisfenol nieswiatloczuly 2,2-bis/4-hydroksyfeny- lo/propan, a Jako bisfenylosulfochlorek 2,2-bis/4-metoksy-3-chlorosulfonylofenylo/-1,1-di¬ ohloroe ty len* X Y CI02S ~6h WZ0R1 HO^yRYoYoH Ri-\Whso2ci X Y WZÓR 3 WZÓR 2 Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz. Cena 220 zl PL
PL25502785A 1985-08-16 1985-08-16 Method of obtaining chemically and thermally resisting polyarylsulfonates being sensitive to ultraviolet radiation PL145306B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL25502785A PL145306B1 (en) 1985-08-16 1985-08-16 Method of obtaining chemically and thermally resisting polyarylsulfonates being sensitive to ultraviolet radiation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL25502785A PL145306B1 (en) 1985-08-16 1985-08-16 Method of obtaining chemically and thermally resisting polyarylsulfonates being sensitive to ultraviolet radiation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL255027A1 PL255027A1 (en) 1987-08-10
PL145306B1 true PL145306B1 (en) 1988-08-31

Family

ID=20028011

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL25502785A PL145306B1 (en) 1985-08-16 1985-08-16 Method of obtaining chemically and thermally resisting polyarylsulfonates being sensitive to ultraviolet radiation

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL145306B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL255027A1 (en) 1987-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0122398B1 (en) Pattern forming material and method for forming pattern therewith
US4880722A (en) Diazoquinone sensitized polyamic acid based photoresist compositions having reduced dissolution rates in alkaline developers
DE69215383T2 (de) Reduktion des metallionengehaltes in novolakharzen
EP0198215B1 (en) A process for rendering a polymeric material resistant to an oxygen-containing plasma
EP0227487A2 (en) Positive type radiation-sensitive resin composition
US5360698A (en) Deep UV lift-off resist process
KR950000236B1 (ko) 영상 반전 음화작업용 감광성 내식막
JPH0147008B2 (pl)
JPH0369101B2 (pl)
CA1267559A (en) Light-sensitive composition for the preparation of a positive-acting photoresist
JP2507481B2 (ja) ポリシラン及び感光性組成物
US20040048200A1 (en) Method for forming fine pattern on substrate by using resist pattern, and resist surface treatment agent
EP1380895A1 (en) Chemically amplified resist material and patterning method using the same
EP0040535B1 (en) Method of forming a microscopic pattern, and a photoresist
PL145306B1 (en) Method of obtaining chemically and thermally resisting polyarylsulfonates being sensitive to ultraviolet radiation
US4729941A (en) Photoresist processing solution with quaternary ammonium hydroxide
US5087547A (en) Dual-tone photoresist utilizing diazonaphthoquinone resin and carbodiimide stabilizer
KR940001554B1 (ko) 사진평판의 스트리핑 방법
US3489564A (en) Photolytic etching of silicon dioxide
WO1996012214A1 (en) Low metal ion photoactive compounds and photoresists compositions produced therefrom
EP0070624B1 (en) Novolak resin and a positive photoresist composition containing the same
KR19990045753A (ko) 페놀 포름알데히드 축합물의 분별증류 및 이로부터 제조된포토레지스트 조성물
EP2137140B1 (en) Novel diazonaphthoquinonesulfonic acid bisphenol derivative useful in photo lithographic sub micron patterning and a process for preparation thereof
PL148106B1 (en) Method for manufacturing polyarylsulphonates sensitive to ultraviolet light
US3520684A (en) Photolytic etching of silicon dioxide by acidified organic fluorides