Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania fluorowodoru z kwasu fluorokrzemowego przez jego rozklad kwasem siarkowym.Wytwarzanie fluorowodoru z kwasu fluorokrze¬ mowego mozna prowadzic w oparciu o rózne re¬ akcje. Jeden z mozliwych kierunków polega na rozkladzie kwasu fluorokrzemowego stezonym kwa¬ sem siarkowym, oraz na dalszym rozdzieleniu i przetworzeniu produktów tego rozkladu. Rozklad ten zachodzi wedlug schematu: HaSiFe-xH20+H2S04^H2S04-xH20+2HF+SiF4 Produkty dehydratacji i rozkladu H;2SiF6 sa zwiazkami gazowymi, których stopien wydzielania z reagujacego ukladu zalezy od takich parametrów jak stezenie kwasu siarkowego, temperatura, cis¬ nienie itp.W opisie patentowym St. Zjedn. Ameryki nr 3 257167, przedstawiono sposób otrzymywania fluorowodoru metoda dwustopniowego rozkladu fluorokrzemowego. Sposób wedlug tego patentu za¬ klada wydzielanie HF z kwasu poreakcyjnego przez destylacje pod wysoka próznia lub przy uzy¬ ciu dodatkowych inertnych substancji jak na przy¬ klad — heksan, benzen, freony. Destylacja pod wysoka próznia wymaga jednak skraplania fluoro¬ wodoru w niskich temperaturach, a stosowanie sub¬ stancji inertnych wiaze sie z rozdzielaniem ich od fluorowodoru i zawracaniem do procesu, co stwa¬ rza dodatkowy, rozbudowany obieg mediów pomoc-- niczych. 15 20 2 Sposób wytwarzania iluorowodoru wedlug pa¬ tentu polskiego numer £2 f&ft polega na prowadze¬ niu rozkladu steponego JiljSiF* ogrzanego do wrze¬ nia i czesciowo przeprowadzonego w stan par.Rozklad ten prowadsaL sie w moatówie wysokiej temperaturze, przy cacrm uzyskane gazowe proiufe- ty wydzielaja sie róroBocresaie. Sa one nastepnie osuszane i rozdzielane pracz absorpcje HF w mie¬ szaninie kwasu siarkowego i fiteoposulfeiiowego i dalej poprzez oddestylowanie fluorowodoru. % lej mieszasany.Prowadzenie rozkladu w wysokiej temperatu¬ ra — okolo 430 K ofirnewanie a nastapaie tiftte- dzenie wysoce agresywnych kwasów wyfla*ga sto¬ sowania trudnodostepnych specjalapett ntóioria- lów i tworzyw, powoduje zuzycie aacacnijrch ilosci pary grzewczej i wody rhlftaarpfc Wystepuja tu duze obiegi eyrkulujacych, tonogyjnie dzialajacych cieczy, co wymaga stosowania .specja&Bych pomp, zaworów i orurowali. Mimo stosowania wysokich temperatur przy rozkladzie Hj£i$k nie uzyskuje sie pelnego wydzielania HF. Stosowanie dodatkowego przedmuchiwania kwasu poreakcyjnej© za pomoea SiF« wymaga zawracania tego gasm do obiegu, a to powoduje zwiekszenie objetosci pnepjywajacych gazów. Obnóza sie przy tym stezenie HF w fezie gazowej co utrudnia potem jego absorpcje w kwa¬ sach siarkowym i flttorosulfonawym. Stosowanie absorpcji w mieszaninie tych kwasów wymaga zu¬ zywania oleum w procesie, co pociaga Hconieunosc 141 350141 750 3 dozowania odrebnego magazynowania, przesylania, tego trudnego w operowaniu medium.Celem wynalazku jest usuniecie tych wad, a za¬ daniem technicznym opracowanie sposobu, za po¬ moca którego mozliwe jest wytwarzanie fluorowo¬ doru z jak najmniejsza iloscia korozyjnie dzialaja¬ cych cieczy cyrkulacyjnych oraz rozdzielenie wy¬ dzielajacych sie gazów, to jest SiF4 i HF, na od¬ rebne strumienie gazowe.W wyniku szeregu prób d badan rozwiazano to zadanie. Wedlug wynalazku kwas fluorokrzemowy ó stezeniu powyzej 30%, ewentualnie wstepnie ©grzany, wprowadza sie w sposób ciagly do reak¬ tor*^ yde 3 którego, flodaje sie kwas siarkowy o uprzednio podwyzszonej antalpii i wzbogacony we fluorowodór podczas rozdzielania i oczyszczania jga^WiPOws^f^^"^ wyniku omawianego rozkladu Kwasu flaoroltrasiBDwego. Kwas siarkowy posiada podwyzszona temperature i zawiera 1—4% HF za¬ absorbowanego przy oczyszczaniu gazów. Tempera¬ tura jego wynosi korzystnie 350—400 K, co jest wynikiem egzotermicznych reakcji pochlaniania HF i pary wodnej. Podwyzszona temperatura kwasu siarkowego oraz ciepla rozcienczania jego woda za¬ warta we wprowadzanym kwasie fluorokrzemo¬ wym, pozwalaja na pokrycie endotermicznego efek¬ tu rozkladu IJaSiFe i utrzymanie odpowiedniej tem¬ peratury mieszaniny reagujacych kwasów w re¬ aktorze. Temperature te utrzymuje sie w grani¬ cach 365—385 K i reguluje sie ja wstepnym pod¬ grzewaniem wprowadzonego do reaktora kwasu fluorokrzemowego. Wprowadzane do reaktora kwa¬ sy dozuje sie w takich proporcjach, aby stezenie kwasu siarkowego po reakcji rozkladu H2SiF6 utrzymywalo sie korzystnie powyzej 0,43 mola H2SO4 na 1 mol HsO. W takich warunkach po zmie¬ szaniu kwasów w reaktorze, w ciagu kilkudziesie¬ ciu sekund, wydziela sie z reagujacego ukladu po¬ nad 99% SiF4 tworzacego sie przy rozkladzie H2SiF6 oraz 10—20% HF. Wydzielajacym sie gazom towa¬ rzysza niewielkie ilosci pary wodnej. Gazy te kie¬ ruje sie do aparatu zraszanego kwasem siarkowym, w którym pochlaniany jest wydzielony fluorowo¬ dór oraz para wodnua. Nastepnie odprowadza sie i absorbuje wydzielony stezony czterofluorek krze¬ mu w przeznaczonym do przerobu kwasie fluoro¬ krzemowym uzyskujac wysoko stezone roztwory, z których oddziela sde wytracona krzemionke przez filtracje, a stezony klarowny kwas fluorokrzemo¬ wy kieruje sie do rozkladu na poczatek procesu.Uzyskany po rozkladzie HjSiFe czesciowo roz¬ cienczony kwas siarkowy podgrzewa sie korzystnie do temperatury 400—410 K i oddestylowuje z niego fluorowodór. Nastepnie ciecz podestylacyjna prze¬ dmuchuje sie para wodna dla zdesorbowania reszty zawartego w tej cieczy fluorowodoru. Desorpcje ta prowadzi sie korzystnie w temperaturze 430—440 K.Temperature desorpcji reguluje sie iloscia wpro¬ wadzanej do przedmuchiwania pary wodnej. Gazy z destylacji i desorpcji oczyszcza sie i osusza za pomoca stezonego kwasu siarkowego, który kiero¬ wany jest dalej na poczatek procesu, a oczyszczo¬ ny fluorowodór ochladza sie i skrapla jako bez¬ wodny lub absorbuje w wodzie uzyskujac kwas fluorowodorowy o stezeniu powyzej 70%.W opracowanym sposobie nie wystepuja obiegi zwrotne kwasu siarkowego, gazów poreakcyjnych, nie stosuje sie równiez dodatkowych mediów po¬ mocniczych jak oleum, czy ciekle lub gazowe 5 zwiazki organiczne. Jedynym poza surowcami to jest kwasami siarkowym i fluorokrzemowym, czyn¬ nikiem dodatkowo wprowadzanym do procesu jest para wodna pochlaniana podczas koncowej desorp¬ cji HF. 10 Sposób wedlug wynalazku jest dokladnie wyjas¬ niony na podstawie jego przykladu wykonania, a schemat stosowanych operacji jest przedstawiony na rysunku.Stezony kwas fluorokrzemowy podawany jest 15 w sposób ciagly do reaktora 1, po ewentualnym podgrzaniu w podgrzewaczu 12. Do reaktora 1 splywa równiez z kolumn 6, 7, 9, kwas siarkowy zawierajacy 1—4% HF, o temperaturze 350—400 K, ogrzany cieplem absorpcji pary wodnej i HF.W re- 20 aktorze 1 w temperaturze 375 K wydziela sie SiF4 i niewielkie ilosci HF. Gazy te kierowane sa na kolumne 7, zraszana kwasem siarkowym o stezeniu okolo 95%, w którym absorbowany jest HF. SJFi przechodzi do absorbera 10 zasilanego rozcienczo- 25 nym 15—20% H2SiF6 oraz popluczynami z przemy¬ wania krzemionki. Uzyskany w absorberze 10 ste¬ zony 45—50% H2SiF6 oddzielany jest od krzemionki na filtrze 11, a nastepnie kierowany do reaktora 1.Krzemionke po przemyciu woda usuwa sie jako 30 produkt odpadowy.Kwas z reaktora 1 splywa do podgrzewacza 2, gdzie ogrzany zostaje do wrzenia. Ciecz oddziela sie od pary w separatorze 3 i kieruje do kolumny desorpcyjnej 4. Pary z separatora 3 odprowadzane 35 sa do kolumny 6 zraszanej kwasem odbieranym z kolumny 7. Pochlonieta zostaje tu para wodna, a osuszony HF odprowadzany jest do skraplacza 8 ochladzanego solanka, skad po skropleniu odbie¬ rany jest jako gotowy produkt zawierajacy powy- 40 zej 99,5% HF. Moze on byc poddany dodatkowej rektyfikacji w celu uzyskania zawartosci HF po¬ wyzej 99,8%. Do kolumny desorpcyjnej 4, do której splywa kwas z separatora 3, wprowadza sie prze- ciwpradowo pare wodna w celu usuniecia pozosta- 45 jacego jeszcze w kwasie HF. Zawartosc HF z 0,5— —1,0% spada do 0,1—0,2%. Po przedmuchaniu para wodna goracy kwas splywa na chlodnice 5, skad po schlodzeniu do 305—310 K odprowadzany jest do zbiorników. Gazy z kolumny desorpcyjnej 4 kie¬ sa ruje sie do kolumny 9, gdzie zraszane sa przeciw- pradowo stezonym kwasem siarkowym. Osuszony gazowy HF kierowany jest do absorbera 13 lub skraplacza 8. Splywajacy z kolumny 9 goracy kwas siarkowy wprowadzony jest do reaktora 1. w Przyklad stosowania sposobu wytwarzania flu¬ orowodoru wedlug wynalazku. Do przerobu na flu¬ orowodór zuzywano kwas fluorokrzemowy 17,5% w ilosci 400 kg/godzine. Do rozkladu kierowano 830 kg/godzine kwasu fluorokrzemowego o stezeniu w 42% oraz 1700 kg kwasu siarkowego o stezeniu 95,5%. W wyniku rozkladu wydzielilo sie 300 kg SiFi/godz., który zaabsorbowano w 17,5% kwasie fluorokrzemowym uzyskujac roztwór o stezeniu 50%. Po odfiltrowaniu krzemionki i przemyciu jej os woda stezenie kwasu fluorokrzemowego wynosilo141 750 42% i kwas ten zawracany byl do rozkladu.Kwrs siarkowy splywajacy z kolumn zawieral 1,5% HF, natomiast kwas odbierany z reaktora za¬ wieral 74% H2S04 i 3,5% HF. Po oddestylowaniu, pozostalosc HF w kwasie siarkowym obnizyla sie do 0,8%. Kwas ten kierowany na kolumne desorp- cyjna przedmuchiwano para wodna w ilosci 48 kg/ /godzire, uzyskujac w wyniku tego zawartosc flu¬ orowodoru w kwasie poreakcyjnym w wysokosci 0,08%. Odpedzony fluorowodór po osuszeniu ochlo¬ dzono i skroplono otrzymujac 50,5 kg produktu za¬ wierajacego 99,6% HF, 0,10% H2S04, 0,05% H20 i 0,08% HjjSiFe.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania fluorowodoru z kwasu fluorokrzemowego, przez rozklad roztworów zawie¬ rajacych ponad 30% H2SiF6, za pomoca stezonego kwasu siarkowego, rozdzielanie wytworzonych ga¬ zowych zwiazków fluoru przy zastosowaniu kwasu siarkowego, zawracanie wydzielonego czterofluorku krzemu do absorpcji we wprowadzanym do prze¬ robu kwasie fluorokrzemowym, znamienny tym, ze poddawany rozkladowi kwas fluorokrzemowy wpro¬ wadza sie w sposób ciagly do zamknietego reaktora i miesza ze stezonym kwasem siarkowym, po uprzednim podwyzszeniu entalpii tego kwasu i wzbogaceniu we fluorowodór podczas rozdzielania i oczyszczania gazów powstalych w wyniku oma- 25 wianego rozkladu kwasu fluorokrzemowego, odpro¬ wadza sie z reaktora uzyskany, czesciowo rozcien¬ czony kwas siarkowy wraz z rozpuszczonym w nim fluorowodorem i kieruje do destylacji w celu wy¬ dzielenia fluorowodoru, po czym ciecz podestyla¬ cyjna przedmuchuje sie para wodna dla zdesor- bowania reszty zawartego w tej cieczy fluorowo¬ doru, nastepnie gazy z destylacji i desorpcji oczysz¬ cza sie i osusza za pomoca kwasu siarkowego, który dalej zostaje skierowany na poczatek pro¬ cesu, a oczyszczony gazowy fluorowodór oziebia sie i skrapla jako produkt bezwodny lub absorbuje sie w wodzie uzyskujac kwas fluorowodorowy. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze temperature reakcji rozkladu kwasu fluorokrzemo¬ wego utrzymuje sie w granicach 365—385 K. 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stezenie kwasu siarkowego po reakcji rozkladu kwasu fluorokrzemowego utrzymuje sie powyzej 0,43 mola H2S04 na 1 mol H20. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze destylacje fluorowodoru z kwasu siarkowego pro¬ wadzi sie w temperaturze 400—410 K. 5. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze desorpcje fluorowodorku z kwasu siarkowego po¬ destylacyjnego prowadzi sie w temperaturze 340— —440 K i temperature te reguluje sie iloscia wpro¬ wadzanej do przedmuchiwania pary wodnej. te50f 35% HzSiFo ff-20% Uoda um ml Ll ¦ % j \ Para\ 5 ma m ^n 5^ [4[ 2 J Fam 1—1 KI |Afr5tt 8 1 l 1 s 1 i { In? | 1 k 1 N l< 4—¦—' 1 rej 1—¦ ^1 J-^A t*h Jf J 1 n l r- "N 1 -CSj 1 1 ^u w l "1 1 r~ - \n I Uoda i i | 1 1 -A \JL Para 1Z li . t iom PLThe present invention relates to a process for the production of hydrogen fluoride from fluosilicic acid by decomposing it with sulfuric acid. The production of hydrogen fluoride from fluosilicic acid can be carried out on the basis of various reactions. One of the possible directions is the decomposition of fluosilicic acid with concentrated sulfuric acid, and the further separation and processing of the decomposition products. This decomposition follows the scheme: HaSiFe-xH20 + H2SO4 ^ H2SO4-xH2O + 2HF + SiF4. Products of dehydration and decomposition H; 2SiF6 are gaseous compounds, the degree of release of which from the reacting system depends on parameters such as sulfuric acid concentration, temperature, pressure etc. in U.S. Patent No. US No. 3,257,167, a method for the preparation of hydrogen fluoride by the method of two-stage decomposition of fluorosilicate is presented. The process according to this patent involves the separation of HF from the reaction acid by distillation under high vacuum or with the use of additional inert substances, such as, for example, hexane, benzene, freons. High-vacuum distillation, however, requires the condensation of hydrogen fluoride at low temperatures, and the use of inert substances separates them from the hydrogen fluoride and returns to the process, which creates an additional, extensive circulation of auxiliary media. 15 20 2 The method of producing ilhydrogen according to the Polish patent No. 2 f & ft consists in decomposing the JiljSiF steppe, heated to September and partially transformed into a state of vapor. This decomposition was carried out in a high temperature moat, with a cacrm obtained gaseous profile - you are exuding rosroBocresa. They are then dried and separated by the absorption of HF in a mixture of sulfuric and phytoposulphic acid and further by distillation of hydrogen fluoride. % mixed hopper. Decomposition at high temperature - about 430 K of air, followed by the tinting of highly aggressive acids, the application of hard-to-reach materials and materials, consumes aaccurate amount of heating steam and large water rhepujaarpc. circuits of circulating, tonogenic liquids, which require the use of pumps, valves and piping. Despite the use of high temperatures, the decomposition of Hj i and k does not achieve full release of HF. The use of additional post-reaction acid purging © by means of SiF «requires this gas to be recycled and this increases the volume of the ingested gases. At the same time, the HF concentration in the gas phase is lowered, which then hinders its absorption in sulfuric and sulfuric acid. The use of absorption in a mixture of these acids requires the consumption of oleum in the process, which entails the dosing of separate storage, transfer, this difficult-to-handle medium. The aim of the invention is to eliminate these drawbacks, and the technical task of developing a method by It is possible to produce hydrogen fluoride with the least amount of corrosive circulating liquids and to separate the evolving gases, i.e. SiF4 and HF, into separate gaseous streams. As a result of several trials and tests this task was solved. According to the invention, fluorosilicic acid with a concentration above 30%, optionally preheated, is continuously introduced into the reactor, whereby sulfuric acid with previously increased anthalpy is added and enriched with hydrogen fluoride during the separation and purification of the carbon dioxide. The result of the above-mentioned decomposition of PhlaoroltrasiBD acid. Sulfuric acid has an elevated temperature and contains 1-4% of HF absorbed in gas purification. Its temperature is preferably 350-400 K, which is the result of exothermic HF and vapor absorption reactions. The increased temperature of sulfuric acid and the heat of diluting its water contained in the introduced fluosilicic acid allow to cover the endothermic effect of the decomposition of IJaSiFe and to maintain the appropriate temperature of the mixture of reacting acids in the reactor. It is 365 to 385 K and is controlled by preheating the fluorosilicic acid introduced into the reactor. The acids introduced into the reactor are dosed in such proportions that the concentration of sulfuric acid after the decomposition reaction of H2SiF6 is preferably above 0.43 mol of H2SO4 per 1 mol of HsO. Under such conditions, after mixing the acids in the reactor, within several tens of seconds, more than 99% of SiF4 formed by the decomposition of H2SiF6 and 10-20% of HF is separated from the reacting system within several seconds. The gases that are released are accompanied by small amounts of water vapor. These gases are directed to the apparatus sprayed with sulfuric acid, in which the released hydrogen fluoride and water vapor are absorbed. Then, the separated concentrated silicon tetrafluoride is drained off and absorbed in the fluoro-silicic acid to be processed, obtaining highly concentrated solutions, from which the precipitated silica is separated by filtration, and the concentrated, clear silicon-silicic acid is transferred to decomposition at the beginning of the process. When decomposing HjSiFe, the partially diluted sulfuric acid is preferably heated to 400-410 K and the hydrogen fluoride is distilled off therefrom. The still water vapor is then blown in to desorb the rest of the hydrogen fluoride contained in the liquid. This desorption is preferably carried out at a temperature of 430-440 K. The desorption temperature is controlled by the amount of steam introduced into the purge. Gases from distillation and desorption are purified and dried with concentrated sulfuric acid, which is directed further at the beginning of the process, and the purified hydrogen fluoride is cooled and condensed as anhydrous or absorbed in water to give hydrofluoric acid with a concentration above 70%. In the developed process, there are no recirculation of sulfuric acid, post-reaction gases, and no additional auxiliary media, such as oleum, or liquid or gaseous organic compounds are used. The only factors, apart from the raw materials, are sulfuric and fluorosilicic acids, and the additional factor added to the process is water vapor absorbed during the final HF desorption. The method according to the invention is explained in detail on the basis of its exemplary embodiment, and the operation scheme is shown in the drawing. Concentrated fluosilicic acid is continuously fed into the reactor 1, after possible heating in the heater 12. The reactor 1 also flows from columns 6, 7, 9, sulfuric acid containing 1-4% HF, at a temperature of 350-400 K, heated by the heat of water vapor absorption and HF. In reactor 1 at 375 K, SiF4 and small amounts of HF are evolved. These gases are directed to column 7, sprayed with sulfuric acid at a concentration of about 95%, in which HF is absorbed. The SJF1 passes to the absorber 10 fed with 15-20% diluted H 2 SiF 6 and silica wash. The concentration of 45-50% H2SiF6 obtained in the absorber 10 is separated from the silica on the filter 11, and then directed to the reactor 1. The silica, after washing, the water is removed as a waste product. The acid from the reactor 1 flows to the heater 2, where it is heated. to boil. The liquid is separated from the vapor in the separator 3 and directed to the desorption column 4. The vapors from the separator 3 are discharged to column 6 sprayed with acid received from column 7. Water vapor is absorbed here and the dried HF is discharged to the condenser 8 of the cooled brine, where after condensation it is received as a finished product containing more than 99.5% HF. It can be further adjusted to obtain an HF content of more than 99.8%. To the desorption column 4, to which the acid flows from separator 3, water vapor is introduced countercurrently to remove the HF still remaining in the acid. The HF content drops from 0.5-1.0% to 0.1-0.2%. After blowing the water vapor, the hot acid flows to the coolers 5, from which, after cooling to 305-310 K, it is discharged to the tanks. The gases from the desorption column 4 are led to column 9, where they are sprayed with countercurrent concentrated sulfuric acid. The dried HF gas is directed to absorber 13 or condenser 8. Hot sulfuric acid flowing from column 9 is fed to reactor 1. In Example of Application of the Hydrogen Fluoride Production Process According to the Invention. For processing into hydrogen fluoride, 17.5% fluorosilicic acid was used in the amount of 400 kg / hour. 830 kg / hour of fluorosilicic acid with a concentration of 42% and 1700 kg of sulfuric acid with a concentration of 95.5% were used for decomposition. As a result of the decomposition, 300 kg of SiFi / h were released, which was absorbed in 17.5% of fluorosilicic acid, obtaining a solution with a concentration of 50%. After filtering off the silica and washing it with water, the concentration of fluorosilicic acid was 141 750 42% and this acid was recycled to decomposition. Sulfuric kwr flowing from the columns contained 1.5% HF, while the acid collected from the reactor contained 74% H2SO4 and 3.5%. % HF. After distillation, the residual HF in sulfuric acid dropped to 0.8%. This acid was directed to the desorption column and was blown with steam at 48 kg / hour, resulting in a hydrogen fluoride content in the post-reaction acid of 0.08%. The discharged hydrogen fluoride after drying was cooled and condensed to obtain 50.5 kg of the product containing 99.6% HF, 0.10% H 2 SO 4, 0.05% H 2 O and 0.08% HjsiFe. Patent claims 1. Method for the production of hydrogen fluoride from of fluorosilicic acid, by decomposition of solutions containing more than 30% of H2SiF6 with concentrated sulfuric acid, separation of the produced gaseous fluorine compounds with the use of sulfuric acid, recycling of silicon tetrafluoride released for absorption in the introduced fluosilicic acid, characterized by that the decomposed fluosilicic acid is continuously introduced into a closed reactor and mixed with concentrated sulfuric acid, after prior increase in the enthalpy of this acid and enrichment with hydrogen fluoride during the separation and purification of gases resulting from the agitated decomposition of fluorosilicic acid, the reactor is loaded with the partially diluted sulfuric acid obtained with the dissolved hydrogen fluoride and directed for distillation to separate hydrogen fluoride, then steam is blown through the still liquid to desorb the rest of the hydrogen fluoride contained in the liquid, then the distillation and desorption gases are purified and dried with sulfuric acid, which is then routed to the start of the process and the purified hydrogen fluoride gas is cooled and condensed as an anhydrous product or absorbed in water to give hydrofluoric acid. 2. The method according to claim The method according to claim 1, characterized in that the reaction temperature of the decomposition of the fluosilicic acid is kept within the range of 365 to 385 K. The process of claim 1, wherein the concentration of sulfuric acid after the decomposition reaction of the fluosilicic acid is above 0.43 mole H 2 SO 4 per 1 mole H 2 O. 4. The method according to p. A process according to claim 1, characterized in that the distillation of hydrogen fluoride from sulfuric acid is carried out at a temperature of 400-410 K. The process according to claim 1, characterized in that desorption of the hydrofluoride from post-distillation sulfuric acid is carried out at a temperature of 340-440 K, and the temperature is regulated by the amount of steam introduced into the purging. te50f 35% HzSiFo ff-20% Uoda um ml Ll ¦% j \ Para \ 5 ma m ^ n 5 ^ [4 [2 J Fam 1—1 KI | Afr5tt 8 1 l 1 s 1 i {In? | 1 k 1 N l <4 — ¦— '1 reg 1 — ¦ ^ 1 J- ^ A t * h Jf J 1 nl r- "N 1 -CSj 1 1 ^ uwl" 1 1 r ~ - \ n I Uoda ii | 1 1 -A \ JL Para 1Z li. t iom PL