PL137004B1 - Method of producing thin dielectric layers in particular for integrated optics devices - Google Patents
Method of producing thin dielectric layers in particular for integrated optics devices Download PDFInfo
- Publication number
- PL137004B1 PL137004B1 PL23542582A PL23542582A PL137004B1 PL 137004 B1 PL137004 B1 PL 137004B1 PL 23542582 A PL23542582 A PL 23542582A PL 23542582 A PL23542582 A PL 23542582A PL 137004 B1 PL137004 B1 PL 137004B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- dielectric layers
- glass
- integrated optics
- thin dielectric
- producing thin
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
Opis patentowy opublikowano: 1986 09 30 137004 Int. Cl.3 B05D 5/06 G02B 5/14 Twórcy wynalazku: Elzbieta Wróbel, Barbara Smolinska Uprawniony z patentu: Politechnika Warszawska, Warszawa (Polska) Sposób wytwarzania cienkich warstw dielektrycznych, zwlaszcza dla urzadzen optyki zintegrowanej Przedmiotem* wynalazku jest sposób wytwarza¬ nia cienkich warstw dielektrycznych, zwlaszcza dla urzadzen optyki zintegrowanej np. w postaci cienkich swiatlowodów plaskich, którymi propa¬ guje sie wiazka swietlna. Swiatlowody te, w za¬ leznosci od zadan stawianych urzadzeniu, rozwi¬ dlaja sie, zakrecaja, powoduja dyfrakcje badz za¬ lamanie wiazki, która sie w nich propaguje.Znany sposób wytwarzania takich warstw pole¬ ga na nanoszeniu na odpowiednio spolerowana po¬ wierzchnie plytki szklanej warstwy materialu przezroczystego dla swiatla o wspólczynniku zala¬ mania wiekszym od szkla plytki. Warstwe te na¬ nosi sie badz przez naparowanie prózniowe, badz kontrolowana dyfuzje do szkla, badz przez wyle¬ wanie z roztworu polimerów. Odpowiedni ksztalt swiatlowodu uzyskuje siz znanymi metodami fo¬ tolitografii, np. przez naswietlanie porzez odpo¬ wiednio nacieta maska warstwy fotopolimeru o stalej grubosci naniesionej na podloze. Jednak fo- topolimeryzacja zachodzi tu tylko w miejscach, które sa odkryte i tylko na grubosci warstwy fo¬ topolimeru co nie pozwala uzyskac pozadanego rozkladu grubosci warstwy i jej wspólczynnika zalamania.Sposób wedlug wynalazku polega na tym, ze plytke podlozowa zanurza sie jednostronnie w mp-# nomerze z ewentualnym dodatkiem sensybilizatora optycznego i naswietla sie ja od strony sakla swiatlem fotochemicznie aktywnym formowanym W 15 20 25 s na wzór pozadanej struktury w projekcyjnym ukladzie optycznym odwzorowujac rzutowy obraz rzeczywisty w plaszczyznie stykania sie mieszaniny fotoipolimeryzujacej z plytka szklana.Sposób ten pozwala uzyskac dowolny bieg scie¬ zek swiatlowodu, formowac soczewki swiatlowodo¬ we lub struktury dyfrakcyjne z pominieciem klo¬ potliwego procesu fotolitografii stosowanego w konwencjonalnych metodach wytwarzania struk¬ tur optyki zintegrowanej, gdyz rzutowany obraz rzeczywisty odwzorowuje sie w grubosci, warto¬ sci wspólczynnika zalamania i ich rozkladzie, two¬ rzonej warstwy na powierzchni polimeru w pla¬ szczyznie stykania sie mieszaniny fotopolimeryzu- jacej.Przedmiot wynalazku blizej objasniony jest w przykladzie wykonania. Plytke podlozowa jedno¬ stronnie styka sie z monomerem — metakrylanem metylu czy styrenem ewentualnie z dodanym don sensybilizatorem optycznym a nastepnie naswie¬ tla sie ja od strony szkla swiatlem aktywnym po¬ wodujacym fotopolimeryzacje. W wyniku naswie¬ tlania monomer zamienia sie z cieczy w szkliwo.Reakcja ta zachodzi tylko w miejscach naswietlo¬ nych wiec gdy rozklad natezenia swiatla w pla¬ szczyznie plytki jest uformowany na wzór (pozadny tylko dla 1° struktury urzadzenia optyki zintegro¬ wanej uzyskuje sie zaplanowany przebieg swiatlo¬ wodu. Obraz rzeczywisty pozadanej struktury w 137 004137 004 4 .plaszczyznie powierzchni plytki szklanej tworzy sie za pomoca ukladu optycznego.W rozwiazaniu wykorzystuje sie dowolne mono¬ mery pod warunkiem spelnienia nast-. warunków: 1. naswietlanie przeprowadza sie w swietle ultra¬ fioletowym, gdyz warstwy nie moga wykazy¬ wac absorpcji w widzianej czesci widma. 2. wspólczynnik zalamania swiatla uzyskanego polimeru jest wiekszy od wspólczynnika zala¬ mania szkla uzytego na plytke podlozowa, 3. monomer nie zawiera dodatków powodujacych zmetnienia polimeru.Wypolerowana plytke szklana o wspólczynniku zalamania n = 1,46267 umieszczono na wierzchu naczynka próznioszczelnego, polaczonego ze zbior¬ nikiem cieklego metakrylamu metylu. Monomer przedestylowano pod próznia i dodano do niego 10 ml/l benzoiny, która sluzy jako sensybilizator optyczny. Cale naczynko, przed zamknieciem go przy pomocy szybki, przeplukano argonem. Po zamknieciu naczynka plytka szklana przelewano do niego monomer tak, aby cala dolna powierzchnia plytki byla zwilzona monomerem. Nastepnie na¬ czynko naswietlono swiatlem o dlugosci fali X = 313 m i X = 365 nm z lampy rteciowej o mo¬ cy 100 Watt. Po 30 minutach naswietlania, na po- 15 wierzchni plytki osadza sie warstwa polimeru — polimetakrylanu metylu o grubosci 10 ]vm i wspól¬ czynniku zalamania n = 1,5.08. Warstwa ta spel¬ niala role swiatlowodu plaskiego.Dla uzyskania w swiatlowodzie struktury dy¬ frakcyjnej dzialajacej jak sprzegacz zwilzona przez monomer powierzchnie naswietla sie dwoma wiaz¬ kami swiatla spójnego, fotochemicznie aktywnego.W jednej operacji technologicznej uzyskuje sie swiatlowód warstwowy o dowolnym ksztalcie i strukturze. PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Sposób wytwarzania cienkich warstw dielek¬ trycznych, zwlaszcza dla urzadzen optyki zintegro¬ wanej, na szklanej plytce podlozowej na drodze fo- topolimeryzacji, znamienny tym, ze plytke pod¬ lozowa zanurza sie jednostronnie w monomerze z ewentualnym dodatkiem sensybilizatora optycz¬ nego i naswietla sie ja od strony szkla swiatlem fotochemicznym aktywnym formowanym na wzór pozadanej struktury w projekcyjnym ukladzie optycznym odwzorowujac rzutowany obraz rzeczy¬ wisty w plaszczyznie stykania sie mieszaniny foto- polimeryzujacej z plytka szklana. Zakl. G-raf. Radom — 507/R6 85+20 egz. A4 CmlWil PL
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL23542582A PL137004B1 (en) | 1982-03-12 | 1982-03-12 | Method of producing thin dielectric layers in particular for integrated optics devices |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL23542582A PL137004B1 (en) | 1982-03-12 | 1982-03-12 | Method of producing thin dielectric layers in particular for integrated optics devices |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL235425A1 PL235425A1 (en) | 1983-09-26 |
| PL137004B1 true PL137004B1 (en) | 1986-04-30 |
Family
ID=20011771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL23542582A PL137004B1 (en) | 1982-03-12 | 1982-03-12 | Method of producing thin dielectric layers in particular for integrated optics devices |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL137004B1 (pl) |
-
1982
- 1982-03-12 PL PL23542582A patent/PL137004B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL235425A1 (en) | 1983-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4686162A (en) | Optically structured filter and process for its production | |
| US6358653B1 (en) | Photonic crystal materials and a method of preparation thereof | |
| TW440551B (en) | A laser processing method for a silver containing glass substrate, and a diffraction grating and a microlens array obtained therefrom | |
| EP0271002B1 (en) | Transmittance modulation photomask, process for producing the same and process for producing diffraction grating | |
| AU729612B2 (en) | Optical waveguide with Bragg grating | |
| KR940015539A (ko) | 전자빔 석판 인쇄술을 이용하는 회절격자 제조방법 | |
| EP0964305A1 (en) | Method of making a photonic crystal | |
| US6821903B2 (en) | Method for making an integrated optical circuit | |
| JPS57172735A (en) | Multilayer photoresist processing | |
| RU2151412C1 (ru) | Способ изготовления оптического волноводного устройства | |
| Poleshchuk et al. | Laser technologies in micro-optics. Part 2. Fabrication of elements with a three-dimensional profile | |
| JPH0618739A (ja) | 導波路の製造方法 | |
| PL137004B1 (en) | Method of producing thin dielectric layers in particular for integrated optics devices | |
| GB2221325A (en) | Optical elements | |
| US7407737B2 (en) | Method for the production of photoresist structures | |
| Nahal et al. | Ion-beam lithography for fabrication of diffractive optical phase elements in silver-ion-exchanged glasses | |
| US7384724B2 (en) | Method for fabricating optical devices in photonic crystal structures | |
| Mack | Contrast enhancement techniques for submicron optical lithography | |
| JPH10153718A (ja) | プレーナ形光導波路、ブラッグ格子を有するプレーナ形光導波路、および該プレーナ形光導波路を製造する方法 | |
| RU2008287C1 (ru) | Способ изготовления стекла с градиентом показателя преломления | |
| Saito et al. | Fabrication process of Morpho-type optical diffuser using feasible double-step design | |
| Nesterov et al. | Nanoscale periodical structures fabricated by interference photolithography | |
| RU2064685C1 (ru) | Способ изготовления планарной диафрагмы и планарная диафрагма | |
| Gustafik et al. | High-resolution pattern reproduction by cold ultra violet stamping in optical polymeric films | |
| Denisyuk et al. | The formation of microstructures as a result of the self-focusing of light in a photopolymer nanocomposite |