PL134496B1 - Falling film apparatus for heat exchange with simutaneous occurence of chemical reactions - Google Patents

Falling film apparatus for heat exchange with simutaneous occurence of chemical reactions Download PDF

Info

Publication number
PL134496B1
PL134496B1 PL23367581A PL23367581A PL134496B1 PL 134496 B1 PL134496 B1 PL 134496B1 PL 23367581 A PL23367581 A PL 23367581A PL 23367581 A PL23367581 A PL 23367581A PL 134496 B1 PL134496 B1 PL 134496B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
gas
liquid
phase
agitator
heat exchange
Prior art date
Application number
PL23367581A
Other languages
English (en)
Other versions
PL233675A1 (en
Inventor
Antoni Cichocki
Adam Skoczylas
Original Assignee
Inst Inzynierii Chemicznej I U
Os Bad Rozwojowy Przem Budowy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inst Inzynierii Chemicznej I U, Os Bad Rozwojowy Przem Budowy filed Critical Inst Inzynierii Chemicznej I U
Priority to PL23367581A priority Critical patent/PL134496B1/pl
Priority to CS775182A priority patent/CS244915B2/cs
Publication of PL233675A1 publication Critical patent/PL233675A1/xx
Publication of PL134496B1 publication Critical patent/PL134496B1/pl

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest aparat warstewko¬ wy do wymiany ciepla z równoczesnym prowadze¬ niem reakcji chemicznych, zwlaszcza w ukladzie dwufazowym ciecz — gaz.Znane sa urzadzenia sluzace do prowadzenia wy¬ miany ciepla i masy w procesach absorpcji, eks¬ trakcji, destylacji i innych. Naleza do tych urza¬ dzen takie jak absorbery powierzchniowe i kolum¬ nowe, ekstraktory, destylatory, kolumny pólkowe i z wypalnieniem, wyparki i inne, w których pro¬ wadzenie wymienionych procesów nie zapewnia równoczesnego uzyskiwania wysokich wspólczyn¬ ników wnikania ciepla i masy oraz duzych po¬ wierzchni miedzyfazowyeh, szczególnie w przypad¬ kach gdy procesy przebiegaja z równoczesna reak¬ cja chemiczna egzo lub endotermiczna pomiedzy faza gazowa a cieczowa. Aparaty do prowadzenia procesów tego rodzaju zaopatrzone sa w wymien¬ niki ciepla, przewaznie rurowe zainstalowane badz to we wnetrzu aparatu, badz tez poza nim.Takie rozwiazania komplikuja konstrukcje i wy¬ datnie zwiekszaja jej mase, a ponadto z uwagi na mnogosc rur instalowanych w wymiennikach cie¬ pla zwielokrotniaja ilosc polaczen stanowiacych potencjalne zródlo nieszczelnosci.Niezaleznie od tego, w przypadku gdy faza cie¬ kla wykazuje sklonnosc do krystalizacji na scia¬ nach aparatu lub zawiera faze stala, np. w posta¬ ci zawiesiny czastek stalych powstajacych w wy¬ niku reakcji chemicznej, nastepuje odkladanie sie osadu na powierzchni rur wymiennika powoduja¬ ce stopniowe pogarszanie sie warunków wymiany ciepla.Znane sa równiez aparaty warstewkowe typu LUWA i pochodne, w których mieszadlo lopatowe wytwarza mechanicznie, na powierzchni wymiany ciepla, cienka warstwe splywajacej grawitacyjnie cieczy. Mieszadlo to nie ogranicza swobodnego prze¬ kroju aparatu. Konstrukcje tych aparatów nie umo¬ zliwiaja wprowadzania czynnika gazowego jako drugiego reagenta oraz nie wplywaja na intensyw¬ ne kontaktowanie fazy cieklej z gazowa droga zwiekszenia powierzchni miedzyfazowej, co unie¬ mozliwia stosowanie tych aparatów do wymiany ciepla z równoczesnym prowadzeniem reakcji che¬ micznych w ukladzie gaz — ciecz.Celem niniejszego wynalazku jest unikniecie wy¬ mienionych niedogodnosci. Dla osiagniecia tego ce¬ lu postawiono zadanie skonstruowania aparatu za¬ pewniajacego obok dobrego kontaktowania fazy cieklej i gazowej droga zwiekszenia powierzchni miedzyfazowej takze korzystne i niezmienne wa¬ runki wymiany ciepla.Cel zostal osiagniety dzieki aparatowi warstew- kowemu skonstruowanemu w oparciu o idee zna¬ nej wyparki cienkowarstwowej, w której cienka warstwa cieczy, wytwarzana mechanicznie, splywa po sciance przewodzacej cieplo dostarczane po dru¬ giej jej stronie. Aby jednak, obok wymiany ciepla umozliwic skuteczne, intensywne kontaktowanie faz cieklej i gazowej, wprowadzono elementy wymu-. szajace barbotowanie gazu w warstwie cieczy sply¬ wajacej po sciance i wplywajace na znaczne zwiek¬ szenie powierzchni miedzyfazowej.Zgodnie z wynalazkiem aparat skladajacy sie z cylindrycznej pionowej obudowy zaopatrzonej w krócce doplywu i odplywu mediów oraz w plaszcz grzewczy lub chlodzacy, a takze w mieszadlo lopa¬ towe, ma rozmieszczone na wale mieszadla poziome tarcze o obrysie kolowym. Tarcze te, o srednicy• 134 496 3 4 Podobna budowe ma wersja przedstawiona na rysunku fig. 2, która od opisanej powyzej rózni sie jedynie rozwiazaniem konstrukcyjnym dystry¬ butora 8, który tutaj ma ksztalt przewodu ruro¬ wego, o przekroju pólkolistym, opasujacego aparat i skomunikowanego z jego wnetrzem za posred¬ nictwem licznych otworów w obudowie.Dzialanie aparatu polega na przeciwpradowym kontaktowaniu gazu i cieczy. Ciecz doplywa króc¬ cem 1 i splywa ku dolowi rozgarniana po drodze dzialaniem mieszadla w cienka warstwe o duzej burzliwosci. Gaz doprowadzany króccem 5 do dys¬ trybutora 8 plynie ku górze napotykajac tarcze 4 stanowiace powtarzalne przegrody zmuszajace do przebijania sie przez przyscienna warstwe cieczy.Obroty mieszadla i towarzyszacy im ruch warst¬ wy cieczy nie dopuszczaja do powstawania zjawis¬ ka tzw. kanalikowania, lecz wymuszaja n-krotny barbotaz znacznie zwiekszajacy powierzchnie mie- * dzyfazowa. Plaszczowa komora grzewcza 9 umozli¬ wia utrzymywanie temperatury na zadanym po¬ ziomie.Ciecz odbierana jest z aparatu dolem, króccem 6, a gaz odpowadzany jest góra przez krciec 10.Rozumie sie, ze w zaleznosci od potrzeb, a wiec od rodzaju reakcji przebiegajacej w aparacie, plasz¬ czowa komora grzewcza 9 moze byc wykorzystana jako chlodzaca. nieco mniejszej od wewnetrznej srednicy obudowy, ograniczaja swobodny przekrój aparatu do wielkosci wyznaczonej powierzchnia szczeliny obwodowej.Króciec do doprowadzania medium cieklego umiesz¬ czony jest powyzej najwyzeszej tarczy, natomiast dystrybutor rozprowadzajacy faze gazowa umiesz¬ czony jest ponizej najnizszej tarczy.Dystrybutor fazy gazowej jest umieszczony cen¬ tralnie i polaczony sztywno z mieszadlem, lub .tez w postaci pierscieniowego przewodu opasuje obu¬ dowe, która na odcinku objetym tym przewodem ma liczne otwory komunikujace go z wnetrzem aparatu. Lopaty mieszadla, których dlugosc jest co najmniej równa drodze splywu cieczy, maja ko¬ rzystnie regulowany odstep od wewnetrznej sciany obudowy.Rozwiazanie wedlug wynalazku, dzieki zastoso¬ wanym srodkom technicznym, umozliwia ruch i transport zarówno cieczy jak i gazu w korzyst¬ nym termodynamicznie ukladzie przeciwpradowym.Konstrukcja mieszadla, wyposazonego w okragle tarcze ograniczajace swobodny przekrój aparatu, a co za tym idzie przeplyw cieczy i gazu, wplywa na hydro i aerodynamike procesów przez zwiek¬ szenie powierzchni miedzyfazowej droga barbotazu gazu w cieczy. Aparat ulatwia przebieg reakcji en- do lub egzotermicznych, prowadzonych w ukladzie ciecz — gaz, gdyz w zaleznosci od potrzeb moze byc ogrzewany lub chlodzony.Aparat wedlug wynalazku ukazany jest w przy¬ kladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schematyczny przekrój pionowy wersji z dynamicznym dystrybutorem fazy gazowej umie¬ szczonym centralnie i polaczonym sztywno z mie¬ szadlem, a fig. 2 podobny przekrój wersji ze sta¬ tycznym dystrybutorem w postaci pierscieniowego przewodu opasujacego obudowe.Jak wynika z rysunku fig. 1, wewnatrz cylin¬ drycznej pionowej obudowy aparatu, zaopatrzonej w plaszczowa komore grzewcza 9 zainstalowane jest mieszadlo lopatowe 3.Na wale mieszadla, na kilku róznych wysokosciach, rozmieszczone sa poziome tarcze 4 o ksztalcie ko¬ lowym. Dolna czesc mieszadla zakonczona jest dy¬ strybutorem 8 fazy gazowej doprowadzanej przez króciec 5. Przedluzenie krócca 5, siegajace w glab aparatu, ma skierowane ku górze ujscie, które spel¬ nia role lozyska stabilizujacego wydrazona kon¬ cówke walu, bedaca jednoczesnie zakonczeniem przewodu zasilajacego dystrybutor 8.Aparat jest od dolu zamkniety dnem stozkowym z króccem 6 do odprowadzania cieczy, która do¬ plywa do aparatu przez króciec 1 umieszczony w górnej czesci obudowy. Równiez w górnej czesci obudowy umieszczony jest króciec 10 do odbioru gazu. Komora grzewcza ma króciec 2 doprowadza¬ jacy czynnik grzewczy, oraz króciec 7 odprowa¬ dzajacy czynnik grzewczy. Mieszadlo lopatowe 3 wprawiane jest w ruch za pomoca nie uwidocznio¬ nego na rysunku mechanizmu napedowego.Zastrzezenia paten to we 1. Aparat warstewkowy do wymiany ciepla z równoczesnym prowadzeniem reakcji chemicznych, skladajacy sie z cylindrycznej pionowej obudowy zaopatrzonej w krócce doplywu i odplywu mediów oraz w plaszcz grzewczy lub chlodzacy, a takze w mieszadlo lopatowe, znamienny tym, ze na wale mieszadla (3) rozmieszczone sa poziome okragle tarcze (4), o srednicy nieco mniejszej od wewnetrz¬ nej srednicy obudowy, ograniczajace swobodny przekrój aparatu do wielkosci wyznaczonej po¬ wierzchnia szczeliny obwodowej, przy czym króciec (1) do doprowadzania medium — reagentu — cie¬ klego umieszczony jest powyzej najwyzszej tarczy (4), a dystrybutor (8) rozprowadzajacy faze gazo¬ wa, bedaca drugim reagentem, umieszczony jest ponizej najnizszej tarczy (4). 2. Aparat wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze dystrybutor (8) fazy gazowej, zasilany króccem (5) doprowadzajacym te faze, jest usytuowany central¬ nie i polaczony sztywno z mieszadlem (3). 3. Aparat wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze dystybutor (8) fazy gazowej, zasilany króccem (5) doprowadzajacym te faze, ma postac pierscienio¬ wego przewodu opasujacego obudowe, która na od¬ cinku objetym tym przewodem ma liczne otwory komunikujace go z wnetrzem aparatu. 4. Aparat wedlug zastrz. 1, albo 2, albo 3, zna¬ mienny tym, ze lopaty mieszadla (3), których dlu¬ gosc jest co najmniej równa drodze splywu cieczy, maja regulowany odstep od wewnetrznej sciany obudowy.134 496 PL

Claims (4)

  1. Zastrzezenia paten to we 1. Aparat warstewkowy do wymiany ciepla z równoczesnym prowadzeniem reakcji chemicznych, skladajacy sie z cylindrycznej pionowej obudowy zaopatrzonej w krócce doplywu i odplywu mediów oraz w plaszcz grzewczy lub chlodzacy, a takze w mieszadlo lopatowe, znamienny tym, ze na wale mieszadla (3) rozmieszczone sa poziome okragle tarcze (4), o srednicy nieco mniejszej od wewnetrz¬ nej srednicy obudowy, ograniczajace swobodny przekrój aparatu do wielkosci wyznaczonej po¬ wierzchnia szczeliny obwodowej, przy czym króciec (1) do doprowadzania medium — reagentu — cie¬ klego umieszczony jest powyzej najwyzszej tarczy (4), a dystrybutor (8) rozprowadzajacy faze gazo¬ wa, bedaca drugim reagentem, umieszczony jest ponizej najnizszej tarczy (4).
  2. 2. Aparat wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze dystrybutor (8) fazy gazowej, zasilany króccem (5) doprowadzajacym te faze, jest usytuowany central¬ nie i polaczony sztywno z mieszadlem (3).
  3. 3. Aparat wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze dystybutor (8) fazy gazowej, zasilany króccem (5) doprowadzajacym te faze, ma postac pierscienio¬ wego przewodu opasujacego obudowe, która na od¬ cinku objetym tym przewodem ma liczne otwory komunikujace go z wnetrzem aparatu.
  4. 4. Aparat wedlug zastrz. 1, albo 2, albo 3, zna¬ mienny tym, ze lopaty mieszadla (3), których dlu¬ gosc jest co najmniej równa drodze splywu cieczy, maja regulowany odstep od wewnetrznej sciany obudowy.134 496 PL
PL23367581A 1981-11-03 1981-11-03 Falling film apparatus for heat exchange with simutaneous occurence of chemical reactions PL134496B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL23367581A PL134496B1 (en) 1981-11-03 1981-11-03 Falling film apparatus for heat exchange with simutaneous occurence of chemical reactions
CS775182A CS244915B2 (cs) 1981-11-03 1982-11-01 Filmové zařízení pro výměnu tepla se současným prováděním chemických reakcí

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL23367581A PL134496B1 (en) 1981-11-03 1981-11-03 Falling film apparatus for heat exchange with simutaneous occurence of chemical reactions

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL233675A1 PL233675A1 (en) 1983-05-09
PL134496B1 true PL134496B1 (en) 1985-08-31

Family

ID=20010430

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL23367581A PL134496B1 (en) 1981-11-03 1981-11-03 Falling film apparatus for heat exchange with simutaneous occurence of chemical reactions

Country Status (2)

Country Link
CS (1) CS244915B2 (pl)
PL (1) PL134496B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL233675A1 (en) 1983-05-09
CS244915B2 (cs) 1986-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970006666B1 (ko) 다운플로우 반응기용 분배 시스템
KR100371482B1 (ko) 다중-상다운플로우반응기용분배기장치
US5466419A (en) Split flow reactor trays for vertical staged polycondensation reactors
US3647357A (en) Process for mixing gases, liquids or finely grained solids with a carrier gas and for the manufacture of reaction products
US7670572B2 (en) Multi-phase fluid distributor for a bundled-tube reactor
EP0758265B1 (en) Reactor trays for a vertical staged polycondensation reactor
WO2012011844A1 (ru) Газожидкостный реактор (варианты)
US4300625A (en) Preventing deposition on the inner surfaces of heat exchange apparatus
JPS58122028A (ja) 温度調整可能な静止混合機および反応機
PL134496B1 (en) Falling film apparatus for heat exchange with simutaneous occurence of chemical reactions
US3547593A (en) Reactor for fluid films
RU2332246C1 (ru) Пленочный тепломассообменный аппарат
RU2330715C1 (ru) Реактор
US3235342A (en) Baffle-kettle reactor
SU993969A1 (ru) Тепломассообменный аппарат
US2183943A (en) Device for the recovery of carbon dioxide gas
SU1445746A1 (ru) Установка дл массообменных процессов в гетерогенных средах
RU2071802C1 (ru) Прямоточный трубчатый испаритель
RU195489U1 (ru) Роторный пленочный реактор
SU1741845A2 (ru) Массообменный аппарат
SU755289A1 (ru) Роторно-дисковый экстрактор1
SU1034757A1 (ru) Насадочна колонна
SU1627241A1 (ru) Реактор
SU1308372A1 (ru) Перемешивающее устройство
JPS5913508Y2 (ja) 回転式薄膜装置