PL131124B1 - Process for preparing derivatives of furane - Google Patents
Process for preparing derivatives of furane Download PDFInfo
- Publication number
- PL131124B1 PL131124B1 PL1981230908A PL23090881A PL131124B1 PL 131124 B1 PL131124 B1 PL 131124B1 PL 1981230908 A PL1981230908 A PL 1981230908A PL 23090881 A PL23090881 A PL 23090881A PL 131124 B1 PL131124 B1 PL 131124B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- ions
- formula
- group
- per liter
- moles per
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 63
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 35
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 23
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims description 20
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 claims description 20
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 8
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 6
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 5
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 5
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 claims description 5
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 claims description 4
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical class C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M methyl orange Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M 0.000 description 1
- 229940012189 methyl orange Drugs 0.000 description 1
- CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N methyl red Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=CC=C1C(O)=O CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001139 pH measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004313 potentiometry Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- IAHFWCOBPZCAEA-UHFFFAOYSA-N succinonitrile Chemical compound N#CCCC#N IAHFWCOBPZCAEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D307/36—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to ring carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Description
***! Int Cl. C07D 307/36 ^wórcy wynalazku: Uprawniony z patentu: E.I. du Pont de Nemours and Company, Wilmington /Stany Zjednoczone iuneryki/ SPOSÓB WYTWARZANIA POCHODNYCH FURANU Przedmiotem wynalazku jest nowy sposób wytwarzania pochodnych furanu z nienasyconych dioli, w którym jako reagent stosuje sie miedziowy uklad redcks.Sposób wedlug wynalazku moze byc stosowany do wytwarzania furanu, surowca dla prze¬ myslu chemicznego, który ma szerokie zastosowanie jako zwiazek wyjsciowy przy produkcji czterowodorofuranu.Z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 172 838 znany jest sposób wy¬ twarzania pochodnych furanu, polegajacy na katalitycznym utlenianiu dwuolefin lub chlorowco- podstawionych alkenów. Role katalizatora spelnia w tym procesie srodowisko wodne o wartosci pH ponizej 2, zawierajace jony jodkowef mieszanine jonów miedziawych i miedziowych oraz czynnik ulatwiajacy rozpuszczanie jonów miedziawych, czyli halogenek metalu alkalicznego* Proces prowadzi sie korzystnie w dwóch strefach. »* pierwszej, zwiazek wyjsciowy kontaktuje sie z wodnym roztworem katalitycznym i otrzymuje sie furan, a w drugiej - odprowadzany czes¬ ciowo roztwór ze strefy pierwszej kontaktuje sie z powietrzem w celu utlenienia jonów mie- dziawych, po czym utleniony roztwór zawraca sie do pierwszej strefy reakcji. Wada znanego sposobu jest duzy koszt zwiazany z uzyciem aoli jodu i niezbyt wysoka wydajnosc.Sposobem wedlug wynalazku pochodna furanu o wzorze 1, w którym R2 oznacza atom wodo¬ ru lub grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, wytwarza sie prze* dzialanie na butano-2-diol-l,4 o wzorze 2 lub na butanc-1-diol-3,4 o wzorze 3, w których to wzorach R oznacza grupe -OH, grupe -0R« lub grupe -OC/=0/-R1f w których to wzorach R« oznacza grupe alkilowa o 1 - 4 sto¬ sach wegla, a R2 »a wyzej podane znaczenie, ukladem redoks, zawierajacym wode jako rozpusz¬ czalnik, 0,1-10 moli na litr jonów miedzi o srednim stopniu utlenienia pomiedzy 1 12, ?2V ,+ 1 o stosunku molowym Cu'VCu"' wynoszacym 100/1 - 1/2, 0,01 - 5 moli na litr czynnika zwiek¬ szajacego rozpuszczalnosc jonów miedzi, rozpuszczalnego w wodzie i zdolnego do tworzenia roz¬ puszczalnych w wodzie kompleksów z Jonami miedziawymi i 0,05 - 2,00 moli jonów wodorowych na litr. Wytworzony produkt, pochodna furanu o wzorze 1, usuwa sie z masy reakcyjnej przez od¬ pedzenie go gazem obojetnym, takim Jak azct i oddziela sie nastepnie ze strumienia gazowego konwencjonalnymi technikami.2 131 124 Sposób wedlug wynalazku polega na przeprowadzeniu reakcji przedstawionej na sche¬ macie na rysunku, W spcsobie wedlug wynalazku mozna stosowac zarówno izomery cis, jak i trans zwiazków o wzorach 1 i 2, Uzywany w procesie uklad redoks zawiera wode jako roz¬ puszczalnik, jony miedzi i czynnik zwiekszajacy rozpuszczalnosc jonów miedziawych w celu utrzymywania koniecznej liczby jonów Cu* w roztworze.Korzystne jest uzycie wody jako jedynego rozpuszczalnika lub nosnika dla ukladu, ale ciecze, w których woda ulega rozcienczeniu do 50 % objetosciowych hydrofilowego roz¬ puszczalnika, takie jak kwas octowy, 3ulfolan, acetonitryl, dioksan lub podobne, moga byc równiez stosowane w sposobie wedlug wynalazku, W ukladzie musza byc obecne zarówno jony Cu*' i Cu , czyli miedz musi miec sredni stopien utlenienia pomiedzy 1 i 2, korzysta¬ nie pomiedzy 1,3 a 1,90, W miare postepu procesu, jony Cu*2 ulegaja redukcji do jonów Cu i reakcja staje sie wolniejsza lub nawet ulega calkowitemu zahamowaniu do czasu, az +1 +2 pewna ilosc jonów Cu zostanie ponownie utleniona dc Cu , co zostanie opisane, nizej.Jak wspomniano, jony miedzi znajduja sie w ukladzie c stezeniu calkowitym wynosza¬ cym 0,1 - 10 moli na litr, a korzystnie ich stezenie wynosi 10,5 - 3,5 moli na litr, 4-2 +1 natomiast stosunek molowy Cu /Cu wynosi jak wspomniano 100/1 - 1/2, zas korzystnie 10/1 - 1/2, Jony miedzi moga byc dostarczane do ukladu przez dowolny, rozpuszczalny zwia¬ zek miedzi, W tym celu mozna stosowac sole kwasów nieorganicznych. Korzystne sa halogenki, a szczególnie korzystne sa chlorki. Równiez moga byc uzyte sole kwasów organicznych, takie jak mrówczan , octan, propionian, trójfluorooctan, metanosulfonian, benzenosulfonian i p-toluenosulfonian, Mieszaniny kwasów równiez moga byc uzyte* Czynnikiem ulatwiajacym rozpuszczanie w ukladzie moze byc dowolny, rozpuszczalny w wodzie, organiczny lub nieorganiczny zwiazek, który tworzy kompleks z jonami Cu , na tyle rozpuszczalny w wodzie, zeby tworzyc 0,2 - 3 molowy roztwór* Przykladami takich czyn¬ ników sa: halogenki metali alkalicznych, halogenki metali ziem alkalicznych, halogenki amonowe, halogenki zelaza, chlorowcokwasy, nitryle organiczne, takie jak acetnitryl i ni¬ tryl kwasu bursztynowego, kwasy karboksylowe, takie jak kwas octowy, tiocyjaniany, takie jak tiocyjanian sodu, aminy alifatyczne, takie jak czterometylenodwuamina.Zalecanymi do stosowania czynnikami ulatwiajacymi rozpuszczanie sa halogenki metali alkalicznych 1 halogenki amonowe* Szczególnie korzystne sa chlorek sodu, chlorek potasu, chlorek wapnia i chlorek amonu. Mozna równiez stosowac mieszaniny czynników ulatwiajacych rozpuszczanie* Czynnik ulatwiajacy rozpuszczanie znajduje sie w ukladzie w'stezeniu wyno¬ szacym jak wspomniano 0,01 - 5 moli na litr, a korzystnie 0,3 - 5 moli na litr.Uklad redoks musi miec odczyn kwasny. Nie jest mozliwe dokladne wyrazenie kwaso¬ wosci ukladu w konwencjonalnych wartosciach pH, gdyz obecne w ukladzie jony miedzi zakló¬ caja pomiary pH dokonywane ogólnie uzywana metoda potencjometryczna. Kwasowosc ukladu jest wiec wyrazana wartosciami stezenia jonów wodorowych, które mierzy sie konwencjonal¬ nymi technikami miareczkowania standardowymi roztworami zasadowymi, przy uzyciu takich wskazników, jak czerwien metylowa lub oranz metylowy, aby zgodnie z dobrze znana metoda okreslic punkt koncowy* Uklad redoks powinien miec Jak wspomniano sttzenie jonów wodorowych wynoszace 0,05 - 2 moli na litr, korzystnie 0,1-1 moll na litr, Jony wodorowe moga byc dostarcza¬ ne przez dowolny kwas, który nie zaklóca przebiegu reakcji* Korzystny jest do tego celu kwas solny* Sposób wedlug wynalazku moze byc realizowany metoda ciagla lub okresowa* V procesi* okresowym, naczynie reakcyjne wykonane z materialu odpornego na korozje uzytych soli mie¬ dzi, napelnia sie ukladem redoks, który dziala jednoczesnie Jako srodowisko reakcji* Uklad redoks przygotowuje sie przez zwykle mieszanie i rozpuszczanie odpowiednich ilosci soli miedzi, czynnika ulatwiajacego rozpuszczanie i kwasu w odpowiedniej ilosci wody* floztwór ogrzewa sie nastepnie 1 Utrzymuje w temperaturze 90 - 150°C, korzystnie 90 - 105°fc,131 124 3! podczas mieszania) przy czym zwiazek wyjsciowy dodaje sie powoli, do czasu az reakcja stanie sie powolniejsza lub iklegnie zahamowaniu z powodu braku jonów Cu * Równoczesnie z materialem wyjsciowym dostarczanym do srodowiska reakcji, mase re¬ akcyjna odpedza sie gazem obojetnym, korzystnie przez przepuszczanie pecherzyków gazu przez te mase. Mieszanie masy reakcyjnej powoduje, ze strumien* gazu unosi z reaktora two¬ rzaca sie w nim pochodna furanu. Uzywany gaz moze byc dowolnym gazem obojetnym wobec srodowiska reakcji* Przykladami sa azot, hel, para wodna i dwutlenek wegla, przy czym korzystny jeet azot. Gaz doprowadzany jest do reaktora z taka szybkoscia, która bedzie utrzymywala cisnienie na poziomie zblizonym do cisnienia atmosferycznego.?»Tytworzony zwiazek furanowy moze byc wyodrebniona ze strumienia gazowego droga do¬ wolnej, konwencjonalnej techniki, co najlatwiej moze byc dokonane przez kondensacje przy uzyciu konwencjonalnej aparatury. Uzyty do odpedzania gaz moze byc, w razie potrzeby, na¬ stepnie zawrócony ponownie do obiegu.Gdy reakcja ulegnie zwolnieniu lub zostanie wstrzymana, konieczne jest zasilenie ukladu redoks w jony Cu . Moze to byc wykonane przez przepuszczenie tlenu poprzez uklad.Tlen mozna wprowadzac w postaci tlenu czasteczkowego lub w postaci mieszaniny tlenu z in¬ nymi gazami* Przykladowo, mozna uzyc powietrze lub mieszanine tlenu z innymi gazami, na przyklad tlen moze byc mieszany ze stosowanym w ukladzie gazem obojetnym* Zasilanie to moze byc wykonane in situ lub moze byc prowadzone w oddzielnym reaktorze. Utlenianie kon- +1 + 2 tynuuje sie do czasu az utlenianie jonów Cu do jonów Cu osiagnie oryginalny, czyli + P +1 zalozony, poziom stosunku Cu /Cu , który wyznaczono potencjometrycznie* Nastepnie proces moze zostac rozpoczety od nowa. Przy dzialaniu ciaglym, proces równiez rozpoczyna sie od napelniania reaktora ukladem redoks. Reaktor ogrzewa sie nastepnie i utrzymuje w tempera¬ turze 80 - 150°C, korzystnie 90 - 105°C, i miesza sie podczas dodawania materialu wyjscio¬ wego z szybkoscia 0,0025 - 0,015 mola na litr na minute. ' ^ 7/ tym samym czasie do mieszaniny reakcyjnej doprowadza sie takze, korzystnie prze? przepuszczanie pecherzyków gazu, mieszanine tlenu i gazu obojetnego, korzystnie azotu, w stosunku wagowym tlenu/azotu wynoszacym 10 - 50/90 - 50* Dzialanie to powoduje jedno¬ czesne usuwanie produktu furanowego z masy, w miare tworzenia sie go i uzupelnianie ukla¬ du redoks* Mieszanine gazowa doprowadza sie do masy z wczesniej ustalona szybkoscia, +2 . +i majac na celu utrzymanie oryginalnego stosunku Cu /Cu , mierzonego potencjometrycznie.Wytworzony produkt furanowy usuwa sie metoda ciagla ze strumienia gazowego, ko¬ rzystnie przez kondensacje* W razie potrzeby gaz ten moze byc ponownie zawrócony do obiegu* H podanych nizej przykladach wszystkie czesci sa objetosciowe, przy czym przyklad I dotyczy optymalnego procesu prowadzonego sposobem wedlug wynalazku* Przyklad I* Po reaktora o pojemnosci 500 czesci wprowadza sie 250 czesci wodnego ukladu redcks zawierajacego jako dodatek do wody: CuClp - 1,2 moli/litr, CuCl - 1,6 moli/litr, NH4C1 - 2,4 moli/litr, HC1 - 0,72 moli/litr. Calosc miesza sie z szybkcs- cia okolo 2000 obrotów na minute, a nastepnie ogrzewa i utrzymuje w temperaturze okolo 100°C.Do roztworu doprowadzane sa jednoczesnie oddzielne strumienie azotu z szybkoscia 200 czesci na minute i tlenu z szybkoscia 35 czesci na minute, natomiast cis-butenc/-2- diol-1,4 wprowadzany jest z szybkoscia 0,05 czesci /O,00059 moli/ na minute, przy czym furan wytwarzany jest z szybkoscia 0,00056 mola na minute. Strumien gazu jest w sposób ciagly odprowadzany z reaktora, a produkt furanowy jest ciagle wykraplany z tego strunie* nla przy zastosowaniu chlodnicy z suchym lodem* Przyklad II* Stosuje sie postepowanie opisane w przykladzie I* uklad redoks zawiera w stosunku do wody: CuCl2 - 2,0 moli/litr, CuCl - 1,2 moli/litr, CaCl2 - 1,2 moli/litr, HC1 - 0,62 moli/litr* Trana-buteno /-2-diol-1,4 doprowadzany jest do roztworu z szybkoscia 0,1 czesci na minute* Furan wytwarzany jest z szybkoscia 0,0008 boli ino minute*4 131 124 Przyklad III. Stosuje sie postepowanie opisane w przykladzie II.Buteno-1-diol-3,4 wprowadzany jest do roztworu z szybkoscia 0,1 czesci /O,0012 moli/ na minute, a furan wytwarzany jest z szybkoscia 0,0008 moli na minute.Zastrzezenia patentowe 1* Sposób wytwarzania pochodnych furanu o wzorze 1, w którym Rp oznacza atom wodoru lub grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, znamienny tym, ze na buteno/-2- diol-1,4 o wzorze 2, w którym R oznacza grupe -OH, grupe o wzorze -GR^ lub grupe o wzo¬ rze -OC/^Z-R., w których to wzorach R1 oznacza grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, a Rp ma wyzej podane znaczejiie, dziala sie ukladem redoks, zawierajacym wode jako roz¬ puszczalnik, 0,1 - 10 moli na litr jonów miedzi o srednim stcpniu utlenienia' poiriedzy +? + 1 1 i 2, w stosunku molowym Cu /Cu wynoszacym 100/1 - 1/2, 0,01 - 5 moli na litr czynni- ka zwiekszajacego rozpuszczalnosc jonów miedziawyeh, rozpuszczalnego w wodzie i zdolnego do tworzenia rozpuszczalnych w wodzie kompleksów z jenami miedziawymi i 0,05 - 2,00 moli na litr jonów wodorowych, a nastepnie oddziela sie pochodna furanu o wzorze 1 z miesza¬ niny reakcyjnej. 2* Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór, w którym jony miedzi pochodza z CuCl i CuCl2« 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako czynnik zwiekszaja¬ cy rozpuszczalnosc stosuje sie halogenek metalu alkalicznego, halogenek metalu ziem alka - licznych lub halogenek amonowy. 4. Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze jako czynnik zwiekszaja- cy rozpuszczalnosc stosuje sie chlorek sodu, chlorek potasu lub chlorek amonu. 5* Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze produkt oddziela sie przez odpedzanie masy reakcyjnej gazem obojetnym i kondensowanie pochodnej furanu ze strumienia gazowego* 6* Sposób wedlug zastrz* 5, znamienny tym, ze oddzielanie prowadzi sie metoda ciagla* 7* Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze ukladem redoks dziala sie na zwiazek o wzorze 2 w temperaturze 80-150°C* 8* Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze w masie reakcyjnej dodat - kowo przeksztalca sie jony Cu w jony Cu przez dokladne kontaktowanie tej masy z ga¬ zem zawierajacym tlen* 9* Sposób wytwarzania pochodnych-furanu o wzorze 1, w którym Rp oznacza atom wodoru lub grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, znamienny tym, ze na buteno-1- diol-3,4 o wzorze 3, w którym R oznacza grupe -OH, grupe o wzorze -CR. lub grupe o wzorze -0C/^)/-R , w których to wzorach Rj oznacza grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, a Rp ma wyzej podane znaczenie, dziala sie ukladem redoks, zawierajacym wode jako rozpuszczal*- nik, 0,1 - 10 moli na litr jonów miedzi o srednim stopniu utlenienia pomiedzy 1 i 2, o stosunku molowym Cu VCu+ wynoszacym 100/1 - 1/2, 0,01 - 5 moli na 1itr# czynnika zwiekszajacego rozpuszczalnosc jonów miedziawyeh, rozpuszczalnego w wodzie i zdolnego dc tworzenia rozpuszczalnych w wodzie kompleksów z jonami miedz iawymi i 0,05 - 2yOO moli jonów wodorowych na litr, a nastepnie oddziela sie pochodna furanu o wzorze 1 z miesza¬ niny reakcyjnej* 10* Sposób wedlug zastrz* 9, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór, w którym Jony miedzi pochodza z CuCl 1 CuCl2* 11* Sposób wedlug zastrz* 9, znamienny tym, ze jako czynnik zwiekszaja^ cy rozpuszczalnosc stosuje sie halogenek metalu ziem alkalicznych lub halogenek amonowy, 12* Sposób wedlug zastrz* 9, znamienny tym, ze jako czynnik zwieksza¬ jacy rozpuszczalnosc stosuje sie chlorek aodu, chlorek potasu, chlorek wapnia lub chlo¬ rek amonu*131 124 5 13* Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze produkt oddziela sie przez odpedzanie masy reakcyjnej gazem ^obojetnym i kondensowanie pochodnej furanu ze strumienia gazowego* 14. Sposób wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze proces prowadzi sie metoda ciagla. 15* Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze ukladem redcks dziala sie na zwiazek o wzorze 3 w temperaturze 80 - 150°C. 16. Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze w masie reakcyjnej dodatkowo przeksztalca sie jony Cu w Jony Cu przez dokladne kontaktowanie tej masy z gazem zawierajacym tlen. PL
Claims (16)
- Zastrzezenia patentowe 1. * Sposób wytwarzania pochodnych furanu o wzorze 1, w którym Rp oznacza atom wodoru lub grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, znamienny tym, ze na buteno/-2- diol-1,4 o wzorze 2, w którym R oznacza grupe -OH, grupe o wzorze -GR^ lub grupe o wzo¬ rze -OC/^Z-R., w których to wzorach R1 oznacza grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, a Rp ma wyzej podane znaczejiie, dziala sie ukladem redoks, zawierajacym wode jako roz¬ puszczalnik, 0,1 - 10 moli na litr jonów miedzi o srednim stcpniu utlenienia' poiriedzy +? + 1 1 i 2, w stosunku molowym Cu /Cu wynoszacym 100/1 - 1/2, 0,01 - 5 moli na litr czynni- ka zwiekszajacego rozpuszczalnosc jonów miedziawyeh, rozpuszczalnego w wodzie i zdolnego do tworzenia rozpuszczalnych w wodzie kompleksów z jenami miedziawymi i 0,05 - 2,00 moli na litr jonów wodorowych, a nastepnie oddziela sie pochodna furanu o wzorze 1 z miesza¬ niny reakcyjnej.
- 2. * Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór, w którym jony miedzi pochodza z CuCl i CuCl2«
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako czynnik zwiekszaja¬ cy rozpuszczalnosc stosuje sie halogenek metalu alkalicznego, halogenek metalu ziem alka - licznych lub halogenek amonowy.
- 4. Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze jako czynnik zwiekszaja- cy rozpuszczalnosc stosuje sie chlorek sodu, chlorek potasu lub chlorek amonu.
- 5. * Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze produkt oddziela sie przez odpedzanie masy reakcyjnej gazem obojetnym i kondensowanie pochodnej furanu ze strumienia gazowego*
- 6. * Sposób wedlug zastrz* 5, znamienny tym, ze oddzielanie prowadzi sie metoda ciagla*
- 7. * Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze ukladem redoks dziala sie na zwiazek o wzorze 2 w temperaturze 80-150°C*
- 8. * Sposób wedlug zastrz* 1, znamienny tym, ze w masie reakcyjnej dodat - kowo przeksztalca sie jony Cu w jony Cu przez dokladne kontaktowanie tej masy z ga¬ zem zawierajacym tlen*
- 9. * Sposób wytwarzania pochodnych-furanu o wzorze 1, w którym Rp oznacza atom wodoru lub grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, znamienny tym, ze na buteno-1- diol-3,4 o wzorze 3, w którym R oznacza grupe -OH, grupe o wzorze -CR. lub grupe o wzorze -0C/^)/-R , w których to wzorach Rj oznacza grupe alkilowa o 1 - 4 atomach wegla, a Rp ma wyzej podane znaczenie, dziala sie ukladem redoks, zawierajacym wode jako rozpuszczal*- nik, 0,1 - 10 moli na litr jonów miedzi o srednim stopniu utlenienia pomiedzy 1 i 2, o stosunku molowym Cu VCu+ wynoszacym 100/1 - 1/2, 0,01 - 5 moli na 1itr# czynnika zwiekszajacego rozpuszczalnosc jonów miedziawyeh, rozpuszczalnego w wodzie i zdolnego dc tworzenia rozpuszczalnych w wodzie kompleksów z jonami miedz iawymi i 0,05 - 2yOO moli jonów wodorowych na litr, a nastepnie oddziela sie pochodna furanu o wzorze 1 z miesza¬ niny reakcyjnej*
- 10. * Sposób wedlug zastrz* 9, znamienny tym, ze stosuje sie roztwór, w którym Jony miedzi pochodza z CuCl 1 CuCl2*
- 11. * Sposób wedlug zastrz* 9, znamienny tym, ze jako czynnik zwiekszaja^ cy rozpuszczalnosc stosuje sie halogenek metalu ziem alkalicznych lub halogenek amonowy,
- 12. * Sposób wedlug zastrz* 9, znamienny tym, ze jako czynnik zwieksza¬ jacy rozpuszczalnosc stosuje sie chlorek aodu, chlorek potasu, chlorek wapnia lub chlo¬ rek amonu*131 124 5
- 13. * Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze produkt oddziela sie przez odpedzanie masy reakcyjnej gazem ^obojetnym i kondensowanie pochodnej furanu ze strumienia gazowego*
- 14. Sposób wedlug zastrz. 13, znamienny tym, ze proces prowadzi sie metoda ciagla.
- 15. * Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze ukladem redcks dziala sie na zwiazek o wzorze 3 w temperaturze 80 - 150°C.
- 16. Sposób wedlug zastrz. 9, znamienny tym, ze w masie reakcyjnej dodatkowo przeksztalca sie jony Cu w Jony Cu przez dokladne kontaktowanie tej masy z gazem zawierajacym tlen. PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/145,583 US4257960A (en) | 1980-05-01 | 1980-05-01 | Preparation of furan compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL230908A1 PL230908A1 (pl) | 1981-12-23 |
| PL131124B1 true PL131124B1 (en) | 1984-10-31 |
Family
ID=22513734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1981230908A PL131124B1 (en) | 1980-05-01 | 1981-04-29 | Process for preparing derivatives of furane |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4257960A (pl) |
| EP (1) | EP0039486B1 (pl) |
| JP (1) | JPS56169682A (pl) |
| AT (1) | ATE4456T1 (pl) |
| BE (1) | BE888646A (pl) |
| CA (1) | CA1155861A (pl) |
| DE (1) | DE3160764D1 (pl) |
| ES (1) | ES501774A0 (pl) |
| NO (1) | NO154394C (pl) |
| PL (1) | PL131124B1 (pl) |
| SU (1) | SU1281173A3 (pl) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4257960A (en) * | 1980-05-01 | 1981-03-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of furan compounds |
| US4387236A (en) * | 1982-03-03 | 1983-06-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Liquid phase oxidation |
| FR2785285A1 (fr) * | 1998-11-03 | 2000-05-05 | Atochem Elf Sa | Preparation du furanne a partir du 3,4-dibromotetrahydrofuranne |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4172838A (en) * | 1978-08-21 | 1979-10-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of furan compounds |
| US4257960A (en) * | 1980-05-01 | 1981-03-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of furan compounds |
-
1980
- 1980-05-01 US US06/145,583 patent/US4257960A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-04-28 CA CA000376458A patent/CA1155861A/en not_active Expired
- 1981-04-28 SU SU813276207A patent/SU1281173A3/ru active
- 1981-04-29 NO NO811463A patent/NO154394C/no unknown
- 1981-04-29 ES ES501774A patent/ES501774A0/es active Granted
- 1981-04-29 PL PL1981230908A patent/PL131124B1/pl unknown
- 1981-04-30 AT AT81103274T patent/ATE4456T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-04-30 JP JP6428981A patent/JPS56169682A/ja active Pending
- 1981-04-30 DE DE8181103274T patent/DE3160764D1/de not_active Expired
- 1981-04-30 EP EP81103274A patent/EP0039486B1/en not_active Expired
- 1981-04-30 BE BE0/204665A patent/BE888646A/fr not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4257960A (en) | 1981-03-24 |
| DE3160764D1 (en) | 1983-09-22 |
| JPS56169682A (en) | 1981-12-26 |
| BE888646A (fr) | 1981-10-30 |
| ES8207522A1 (es) | 1982-09-16 |
| EP0039486A1 (en) | 1981-11-11 |
| ES501774A0 (es) | 1982-09-16 |
| NO154394B (no) | 1986-06-02 |
| CA1155861A (en) | 1983-10-25 |
| PL230908A1 (pl) | 1981-12-23 |
| ATE4456T1 (de) | 1983-09-15 |
| SU1281173A3 (ru) | 1986-12-30 |
| NO154394C (no) | 1986-09-10 |
| EP0039486B1 (en) | 1983-08-17 |
| NO811463L (no) | 1981-11-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Linek et al. | Chemical engineering use of catalyzed sulfite oxidation kinetics for the determination of mass transfer characteristics of gas—liquid contactors | |
| George et al. | The liquid phase oxidation of hydrocarbons. Part II: the free radical character of the heavy metal catalysed oxidation | |
| US4056469A (en) | Purification of waste water from hydrazine production | |
| US4224151A (en) | Preventing scale deposition from geothermal fluids | |
| EP0316942B1 (en) | Manufacture of disulfides | |
| US20050222438A1 (en) | Reverse Kleiner method for manufacturing nitrogen dioxide, nitric oxide, nitric acid, metallic ascorbates and alkyl ascorbates of vitamin C | |
| PL131124B1 (en) | Process for preparing derivatives of furane | |
| US4853479A (en) | Process for the manufacture of aromatic dicarboxylic acids and derivatives thereof | |
| EP0008457B1 (en) | Preparation of furan compounds and catalyst system | |
| US20040028596A1 (en) | Nitrogen dioxide, nitrogen oxide and nitric acid manufacture: Kleiner method | |
| US2084651A (en) | Preparation of hyposulfites | |
| US6036937A (en) | Method for producing zinc bromide | |
| Dowell et al. | EXPERIMENTS WITH NITROGEN TRICHLORIDE. | |
| US4409076A (en) | Indirect electrochemical furan synthesis | |
| US2323714A (en) | Chemical process | |
| US4268421A (en) | Preparation of furan compounds | |
| US2751416A (en) | Continuous process for the manufacture of thiuram disulfides | |
| JPH11240715A (ja) | 水和三フッ化ホウ素から三フッ化ホウ素と硫酸を製造する方法 | |
| DE2540291C3 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von 1,2-Dichloräthan und Katalysatorbehälter als Bestandteil einer Vorrichtung zur Durchführung des genannten Verfahrens | |
| US2751415A (en) | Preparation of thiuram disulfides | |
| US4387236A (en) | Liquid phase oxidation | |
| JPS61103867A (ja) | 置換チウラムポリスルフイドの製法 | |
| US10494331B2 (en) | Process for operating a plant for preparing an alkanesulfonic acid | |
| GB787904A (en) | A method of preparing halogendi-substituted ethylenes | |
| SU1234355A1 (ru) | Способ получени коллоидной серы |