Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do chemicznego utrwalania kopii elektrograficznych, stosowane zwlaszcza do utrwalania proszku wywolujacego na kopiach elektrograficznych w rotacyjnych urzadzeniach elektrograficznych.Stan techniki. Znane jest urzadzenie do utrwalania chemicznego, zwlaszcza odbitek kserograficznych z wzoru uzytkowego PRL nr 16080, które zawiera szczelna komore utrwalaja¬ ca oraz wysuwana szuflade. Wewnatrz komory w jej dolnej czesci znajduja sie. dwa boczne zbiorniki cieczy utrwalajacej oraz prowadnice do przesuwania szuflady. Do napelniania zbiorników bocznych sluza obrotowe krócce umieszczone w tylnej sciance komory. W górnej czesci komory jest umieszczona siatka z rozlozonym na niej knotem, nachylona do poziomi pod katem 5 do 20 , który zapewnia równowage wystepujacego równoczesnie zjawiska lewarowa- nia przez knot cieczy rozpuszczalnika ze zbiornika górnego cieczy rozpuszczalnik.Ciecz rozpuszczalnika np. alkohol etylowy zasysana jest przez tkanine knotowa stano¬ wiaca przewód transportujacy ciecz, zanurzona jednym koncem w zbiorniku i rozprowadzane na cala swoja powierzchnie obejmujaca kopie elektrograficzna. Wskutek parowania cfeczy rozpuszczalnika z powierzchni tkaniny knotowej, pary cieczy rozpuszczalnika oddzialywuja na proszek wywolujacy, znajdujacy sie na kopii elektrograficznej, powodujac jego roz¬ puszczenie i utrwalenie obrazu na kopii. Ponadto w zbiorniku górnym jest umieszczona wew¬ natrz tuleja o przekroju prostokatnym, przez która prowadzony jest knot# Wada takiego urzadzenia jest stosunkowo dlugi czas utrwalania kopii w postaci poje¬ dynczych arkuszy kolejno wkladanych do urzadzenia utrwalajacego. Ponadto wskutek czynnosci wkladania i wyjmowania kopii nastepuje ulot pary rozpuszczalnika na zewnatrz do otaczaja-2 128188 cego powietrza, zmniejszajac w ten sposób preznosc pary rozpuszczalnika wewnatrz urzadze¬ nia utrwalajacego, co dodatkowo opóznia czas utrwalania kopii. Wada jest równiez brak moz¬ liwosci regulowania wyplywem cieczy rozpuszczalnika.Istota wynalazku. Urzadzenie wedlug wynalazku charakteryzuje sie tym, ze przewód transportujacy ciecz rozpuszczalnika umieszczony jest ponizej poziomu powierzchni cieczy rozpuszczalnika znajdujacego sie w zbiornikach, które wyposazone sa w otwory wprowadzajace czynnik gazowy pod cisnieniem zewnetrznym.Korzystne jest jesli przewód transportujacy ciecz stanowi tkanine lub wlóknine z wló¬ kien szklanych lub metalowych lub azbestowych. Korzystne jest równiez, jesli zbiorniki cieczy rozpuszczalnika wyposazone sa w elementy grzejne oraz na obwodzie przewodu transpor¬ tujacego jest umieszczony zespól regulacyjny skladajacy sie z co najmniej dwóch plytek o zmiennym rozstawie, których zmiana rozstawu uzyskiwana jest za pomoca elementu regulacyjnego* Korzystne skutki techniczne wynalazku. Urzadzenie zgodnie z wynalazkiem, dzieki wpro¬ wadzeniu cisnienia zewnetrznego do zbiorników cieczy rozpuszczalnika oraz uzyskaniu cis¬ nienia hydrostatycznego cieczy i sily ciezkosci poprzez umieszczenie przewodu transportu¬ jacego ciecz ponizej poziomu powierzchni cieczy, pozwala zwiekszyc intensywnosc wyplywu cieczy ze zbiorników wzdluz przewodu transportujacego ciecz.Ponadto przez zmiane cisnienia zewnetrznego oraz przez zmiane wysokosci slupa cieczy rozpuszczalnika uzyskano zmiane szybkosci wyplywu cieczy przez przewód transportujacy, zas zmiana intensywnosci wyplywu cieczy uzyskiwana jest za pomoca zespolu regulacyjnego usytuowanego na dlugosci przewodu transportujacego, co wplywa na zwiekszenie wydajnosci chemicznego utrwalania i poprawe jakosci kopii kserograficznych. Natomiast dzieki umiesz¬ czeniu elementu grzejnego w zbiornikach uzyskano zwiekszenie temperatury cieczy, co powo¬ duje wieksza intensywnosc parowania tej cieczy w komorze utrwalajacej.Objasnienie rysunku. Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest w przykladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urzadzenie w ujeciu schematycznym, zas fig. 2 przedstawia czesc urzadzenia w ujeciu schematycznym z zespolem regulujacym doplyw cieczy rozpuszczalnika.Przyklad wykonania. Jak uwidoczniono na fig. 1 i fig. 2 rysunku, ciecz 1 rozpuszczal¬ nika umieszczona jest w dwóch zbiornikach 2 pod cisnieniem Pz zewnetrznym wprowadzanym przez otwór 3 umieszczony w pokrywie zbiorników 2. Ponadto na ciecze 1 rozpuszczalnika dzialaja cisnienie Ph hydrostatyczne wytwarzane wysokoscia slupa cieczy 1 rozpuszczalnika oraz sily ciezkosci cieczy 1 rozpuszczalnika. Zbiorniki 2 umieszczone sa na koncach komo¬ ry 4 utrwalajacej i polaczone sa za pomoca przewodu 5 transportujacego ciecz 1 rozpusz¬ czalnika, który swymi koncami zanurzony jest w cieczy 1 rozpuszczalnika i wprowadzany jest przez otwory 6 usytuowane w dnach zbiorników 2, które podgrzewane sa za pomoca ele¬ mentów 7 grzejnych.W dnie zbiorników 2 pod otworem 6 umieszczony jest zespól 8 regulujacy odplyw cieczy rozpuszczalnika przez przewód 5 transportujacy, który zawiera dwie plytki 9, 9f sztywne z których" jedna jest osadzona na stale w dnie zbiornika 2, zas druga umieszczona jest przesuwnie tak, ze liniowa zmiana polozenia elementu 10 regulacyjnego powoduje sciskanie przewodu 5 transportujacego lub swobodne osadzenie przewodu 5 w zespole 8 regulacyjnym.128188 3 Przewód 5 transportujacy ulozony jest w komorze 4 na wspornikach 11, Pod przewodem 5 transportujacym przesuwana jest za pomoca rolek 12 napedowych kopia 13 w postaci tasmy pa¬ pierowej z naniesionym nieutrwalonym obrazem 14 proszkowym. Przesuwajaca sie kopia 13 na¬ ciagnieta jest pomiedzy dwoma obrotowymi rolkami 12 i nawijana z utrwalonym obrazem 14 proszkowym na beben 15. Naciag kopii 13 przez rolki 12 zapobiega marszczeniu i faldowaniu tej kopii w komorze 4 urzadzenia. Urzadzenie szczelnie obudowane jest pokrywa 16.Urzadzenie dziala w sposób nizej opisany. Ciecz 1 rozpuszczalnika znajdujaca sie w zbiornikach 2 poddawana jest dzialaniu cisnienia Pz zewnetrznego oraz cisnienia Ph hydro¬ statycznego i sily ciezkosci, a nastepnie transportowana przez przewód 5 transportujacy z wlókna szklanego przechodzacy przez komore 4 utrwalajaca.H czasie transportu cieczy 1 rozpuszczalnika nastepuje parowanie cieczy 1, przy czym pary rozpuszczalnika jako ciezsze od powietrza, opadaja na dno natrafiajac po drodze na obraz 14 proszkowy, znajdujacy sie na przesuwajacej sie kopii 13* Pary rozpuszczalnika od- dzialywujac na obraz 14 proszkowy powoduja w trakcie przesuwania kopii 13 rozpuszczenie proszku i jego utrwalenie. Po wyjsciu z komory 4 utrwalajacej kopia 13 wraz z utrwalonym obrazem 14 proszkowym zostaje nawinieta na beben 15 lub tez cieta na arkusze.W celu zwiekszenia intensywnosci parowania cieczy 1 rozpuszczalnika ciecz 1 podgrzewana jest za pomoca elementu 7 grzejnego podnoszacego temperature cieczy 1, przyspieszajac pro¬ ces utrwalania obrazu 14 proszkowego kopii 13 elektrograficznych. Do regulacji przeplywu cieczy 1 rozpuszczalnika sluzy zespól 8 regulacyjny, za pomoca którego regulowany jest rozstaw plytek 9 1 99 pomiedzy którymi umieszczony jest przewód 5 transportujacy, prze¬ puszczajac w sposób kontrolowany odpowiednia ilosc cieczy 1 rozpuszczalnika przeznaczona do wyparowania. Rolki 12 sluza do naciagania kopii 13 elektrograficznych tak, aby prowadzo¬ na byla w komorze 4 utrwalajacej bez zmarszczen i pofaldowan* Zastrzezenia patentowe 1. Urzadzenie do chemicznego utrwalania kopii elektrograficznych zawierajace komore utrwalajaca poprzez która transportowana jest kopia elektrograficzna, zaopatrzona w dwa zbiorniki cieczy rozpuszczalnika umieszczone na koncach komory, polaczone za pomoca przewo¬ du transportujacego ciecz, umieszczonego w komorze na wspornikach usytuowanych równolegle wzdluz komory utrwalajacej, znamienne tym, ze przewód /5/ transportujacy ciecz /^/ rozpuszczalnika umieszczony jest ponizej poziomu powierzchni cieczy /^/ rozpuszczalnika znajdujacej sie w zbiornikach /2/ i które to zbiorniki /2/ wyposazone sa w otwory /3/ wpro¬ wadzajace czynnik gazowy pod cisnieniem /Pz/ zewnetrznym. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze przewód /5/ transportuja¬ cy ciecz jest wykonany z materialu wlóknistego, korzystnie z wlókien szklanych lub metalo¬ wych lub azbestowych. 3. Urzadzenie wedlug zastrz* 1, znamienne tym, ze zbiorniki /2/ cieczy rozpuszczalnika wyposazone sa w element /7/ grzejny. 4. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze na obwodzie przewodu /5/ transportujacego umieszczony jest zespól /&/ regulacyjny skladajacy sie z co najmniej dwóch plytek/9f 99/ o zmiennym rozstawie, których zmiana rozstawu uzyskiwana jest za pomoca elementu /10/ regulacyjnego.128 188 Pracownia Poligraficzna UP PRL. Naklad 100 egz.Cena 100 zl PL