PL123830B2 - Semiconductor switching diode - Google Patents

Semiconductor switching diode Download PDF

Info

Publication number
PL123830B2
PL123830B2 PL22622080A PL22622080A PL123830B2 PL 123830 B2 PL123830 B2 PL 123830B2 PL 22622080 A PL22622080 A PL 22622080A PL 22622080 A PL22622080 A PL 22622080A PL 123830 B2 PL123830 B2 PL 123830B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
metal
semiconductor
areas
protective
contact
Prior art date
Application number
PL22622080A
Other languages
English (en)
Other versions
PL226220A2 (pl
Inventor
Bogdan Wilamowski
Original Assignee
Politechnika Gdanska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Gdanska filed Critical Politechnika Gdanska
Priority to PL22622080A priority Critical patent/PL123830B2/pl
Publication of PL226220A2 publication Critical patent/PL226220A2/xx
Publication of PL123830B2 publication Critical patent/PL123830B2/pl

Links

Landscapes

  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest przelaczajaca dioda pólprzewodnikowa charakteryzujaca sie duza szybkoscia dzialania i duzym napieciem przebicia.Diody te moga znalezc zastosowanie na przyklad w ukladach odchylania i generacji wysokiego napiecia, w odbiornikach telewizyjnych oraz w impulsowych przetwornicach mocy.W znanych dotychczas rozwiazaniach przelaczajacych diod pólprzewodnikowych w celu skrócenia czasu przelaczania wprowadza sie domieszki o glebokich poziomach energetycznych, bedacych dodatkowymi centrami generacyjno-rekombinacyjnymi. W ten sposób zmniejsza sie znacznie czas zuzycia nosników mniejnosciowych i jednoczesnie czas przelaczania diod. Jednakze skutkiem zwiekszenia sie ilosci centrów generacyjno-rekombinacyjnych rosnie znacznie prad wsteczny i maleje napiecie przebicia, a ponadto przebicie ma czesto charakter przebicia termi¬ cznego prowadzacego do zniszczenia diody.Innym rozwiazaniem jest wykorzystanie zlacza metal-pólprzewodnik, tak zwanej diody Schottky, w której nosnikami pradu dla kierunku przewodzenia sa nosniki wiekszosciowe i praktycznie nie istnieje efekt gromadzenia sie ladunku. Diody te sa bardzo szybkie ale ich cecha ujemna sa stosunkowo niewielkie napiecia przebicia — rzedu kilkunastu Voltów i duze prady uplywu. W celu eliminacji wplywu efektów krawedziowych, stosuje sie pod krawedziami kontaktu metalowego specjalne obszary ochronne w postaci pólprzewodnika z domieszkami przeciwnego typu niz pólrzewodnikowe podloze. Zastosowanie obszarów ochronnych pozwala uzyskac jednak tylko niewielka poprawe napiecia przebicia, które przy specjalnych wykonaniach nie przekracza kilkudziesieciu voltów.Istota wynalazku jest wprowadzenie w diodzie typu Schottky dodatkowych obszarów ekranu¬ jacych umieszczonych tak blisko siebie aby wnikanie pola elektrycznego pomiedzy te obszary w kierunku ku zlaczu metal — pólprzewodnik bylo znikome. Obszary te wykonane sa z pólprzewod¬ nika o przeciwnym typie przewodnictwa niz podloze i polaczone kontaktem omowym do elektrody metalowej. Przy zaporowej polaryzacji zlacza praktycznie caly spadek napiecia odklada sie na warstwie oprózniowej z nosników powstalej w wyniku oddzialywania obszarów ekranujacych, natomiast pole elektryczne przy kontakcie metal — pólprzewodnik jest znikome. W efekcie o napieciu przebicia w kierunku zaporowym decyduje napiecie przebicia zlacza p-n pomiedzy obszarami ekranujacymi, a podlozem. Dla kierunku przewodzenia spadek napiecia na zlaczu metal i2 123 830 — pólprzewodnik jest mniejszy niz na zlaczu p-n. Skutkiem tego prad plynie jedynie w zlaczu metal — pólprzewodnik oraz nie ma zjawiska wstrzykiwania nosników mniejszosciowych i groma¬ dzenia ladunku typowego dla z lacz p-n, który ogranicza istotnie czas przelaczania.Korzysci techniczne wynikajace z zatosowania rozwiazania wedlug wynalazku polegaja na mozliwosci wytwarzania diod przelaczajacych charakteryzujacych sie duzymi napieciami przebicia rzedu kilkuset i wiecej voltów oraz jednoczesnie bardzo krótkim czasem przelaczania. Ponadto tak wytworzone diody maja mniejsze spadki napiecia dla kierunku przewodzenia niz typowe zlacze p-n.Zaleta jest równiez mala moc tracona w diodach wedlug wynalazku i duza sprawnosc energe¬ tyczna przy wiekszych czestotliwosciach sygnalu.Przedmiot wynalazku jest pokazany w przykladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 — przedstawia przelaczajaca diode pólprzewodnikowa w przekroju poprzecznym, fig. 2 — widok z góry tej diody, fig. 3 inne rozwiazanie diody wedlug wynalazku w przekroju poprzecznym a fig. 4 — widok z góry diody z fig. 3.Przelaczajaca dioda pólprzewodnikowa sklada sie z podloza 1 typu n+ o rezystancji 0,05Ocm i warstwy epitaksjalnej 2 typu n rezystancji 50ftcm i grubosci 30jum. W warstwie epitaksjalnej 2 wdyfundowane sa obszary ekranujace obszar ochronny 3. Obszar ochronny 3 ma ksztalt pierscie¬ nia wewnatrz którego umieszczone sa obszary ekranujace 4 o ksztalcie kolowym. Srednica obsza¬ rów ekranujacych 4 wynosi 10/xm a glebokosc 6 jum. Odleglosci pomiedzy obszarami dyfuzyjnymi wynosza 5 jum. Caly obszar objety pierscieniem ochronnym 3 pokryty jest warstwa zlota stanowia¬ cego metalowa elektrode 5, która z obszarem ochronnym 3 i obszarami ekranujacymi 4 tworzy kontakt omowy 6 zas z pozostalym obszarem pólprzewodnika kontakt typu Schottky 7. Przy zaporowej polaryzacji zlacza metal-pólprzewodnik praktycznie caly spadek napiecia odklada sie na warstwie opróznionej powstalej w wyniku oddzialywania obszarów ekranujacych 4 natomiast pole elektryczne przy kontakcie metal-pólprzewodnik jest znikome. W efekcie o napieciu przebicia w kierunku zaporowym decyduje napiecie przebicia zlacza p-n pomiedzy obszarami ekranujacymi 4 a podlozem 1.Dla kierunku przewodzenia spadek napiecia na zlaczu metal-pólprzewodnik jest mniejszy niz na zlaczu p-n. W zwiazku z tym prad plynie jedynie w zlaczu metal-pólprzewodnik i nie wystaje zjawisko wstrzykiwania nosników mniejszosciowych oraz gromadzenia ladunku typowego dla zlacz p-n, który ogranicza istotnie czas przelaczania. Inne rozwiazanie przelaczajacej diody pól¬ przewodnikowej fig. 3 i fig. 4 sklada sie z podloza 1 typu n* o rezystancji 0,05 Hem i warstwy epitaksjalnej 2 n o rezystancji 50 flem, grubosci 50 /im. W warstwie epitaksjalnej 2 wykonane sa metoda dyfuzji obszary ochronne 3, których glebokosc wynosi 5 /on. Obszary ochronne 3 sa tak uksztaltowane, ze maksymalna szerokosc obszarów kontaktowych typu Schottky 7 otoczonych obszarami ochronnymi 3 nie przekracza 5 /xm. Obszary kontaktowe typu Schotky 7 i obszary ochronne 3 pokryte sa warstwa zlota 5 o grubosci 3 ^m.Zwiekszenie napiecia przebicia uzyskuje sie w wyniku zmniejszenia odleglosci miedzy obsza¬ rami ochronnymi 3 tak, ze w opisanym rozwiazaniu maksymalna odleglosc od dowolnego punktu na powierzchni obszarów kontaktowych typu Schottky 7 do najblizszej krawedzi obszaru ochron¬ nego 3 jest mniejsza od 3 /xm.W tym przypadku obszary ochronne 3 umieszczone blisko siebie spelniaja funkcje ekranujace powodujac wzrost napiecia przebicia.Zastrzezenia patentowe 1. Przelaczajaca dioda pólprzewodnikowa z kontaktem metal-pólprzewodnik i specjalnie domieszkowanym obszarem ochronnym pod krawedziami metalowej elektrody, znamienna tym, ze pod metalowa elektroda (5) wykonane sa dodatkowe obszary ekranujace (4) domieszkowane tak jak obszary ochronne (3), przy czym obszary ekranujace (4) sa tak usytuowane, ze odleglosc dowolnego punktu przy powierzchni zlacza metal-pólprzewodnik typu Schottky (7) od najblizszej krawedzi obszaru ochronnego (3) lub obszaru ekranujacego (4) jest mniejsza od glebokosci wnikania warstwy zubozonej kontaktu metal-pólprzewodnik odpowiadajacej napieciu przebicia tego kontaktu.123830 3 2. Przelaczajaca dioda pólprzewodnikowa z kontaktem metal-pólprzewodnik i specjalnie domieszkowanym obszarem ochronnym pod krawedziami metalowej elektrody, znamienna tym, ze obszary ochronne (3) sa tak rozmieszczone, ze odleglosc dowolnego punktu przy powierzchni zlacza metal-pólprzewodnik typu Schottky (7) od najblizszej krawedzi obszaru ochronnego (3)jest mniejsza od glebokosci wnikania warstwy zubozonej kontaktu metal-pólprzewodnik odpowiada¬ jacej napieciu przebicia tego kontaktu.123 830 n iv *y / <'' / ¦' / ¦¦¦ ' ' /' / y y y y\ Fig.3 n \ \ n \ \ \ \ \ v \ V V V \ V l\ V \ \ l V | k\\\\\\\\\\\\\ Fig.A Pracownia PoliiTrallczna L:P PRL. Naklad 1 20 euz.CV na HM!zl PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenia patentowe 1. Przelaczajaca dioda pólprzewodnikowa z kontaktem metal-pólprzewodnik i specjalnie domieszkowanym obszarem ochronnym pod krawedziami metalowej elektrody, znamienna tym, ze pod metalowa elektroda (5) wykonane sa dodatkowe obszary ekranujace (4) domieszkowane tak jak obszary ochronne (3), przy czym obszary ekranujace (4) sa tak usytuowane, ze odleglosc dowolnego punktu przy powierzchni zlacza metal-pólprzewodnik typu Schottky (7) od najblizszej krawedzi obszaru ochronnego (3) lub obszaru ekranujacego (4) jest mniejsza od glebokosci wnikania warstwy zubozonej kontaktu metal-pólprzewodnik odpowiadajacej napieciu przebicia tego kontaktu.123830 3
  2. 2. Przelaczajaca dioda pólprzewodnikowa z kontaktem metal-pólprzewodnik i specjalnie domieszkowanym obszarem ochronnym pod krawedziami metalowej elektrody, znamienna tym, ze obszary ochronne (3) sa tak rozmieszczone, ze odleglosc dowolnego punktu przy powierzchni zlacza metal-pólprzewodnik typu Schottky (7) od najblizszej krawedzi obszaru ochronnego (3)jest mniejsza od glebokosci wnikania warstwy zubozonej kontaktu metal-pólprzewodnik odpowiada¬ jacej napieciu przebicia tego kontaktu.123 830 n iv *y / <'' / ¦' / ¦¦¦ ' ' /' / y y y y\ Fig.3 n \ \ n \ \ \ \ \ v \ V V V \ V l\ V \ \ l V | k\\\\\\\\\\\\\ Fig.A Pracownia PoliiTrallczna L:P PRL. Naklad 1 20 euz. CV na HM!zl PL
PL22622080A 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor switching diode PL123830B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22622080A PL123830B2 (en) 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor switching diode

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL22622080A PL123830B2 (en) 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor switching diode

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL226220A2 PL226220A2 (pl) 1981-06-19
PL123830B2 true PL123830B2 (en) 1982-11-30

Family

ID=20004659

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL22622080A PL123830B2 (en) 1980-08-12 1980-08-12 Semiconductor switching diode

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL123830B2 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL226220A2 (pl) 1981-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0902981B1 (en) Schottky barrier rectifier
US4134123A (en) High voltage Schottky barrier diode
EP0372428B1 (en) Semiconductor device having intermediate layer for pinching off conductive path during reverse bias application
US6184545B1 (en) Semiconductor component with metal-semiconductor junction with low reverse current
EP0707744B1 (en) Schottky barrier rectifier with mos trench
US4037245A (en) Electric field controlled diode with a current controlling surface grid
US6501145B1 (en) Semiconductor component and method for producing the same
EP2541609B1 (en) Semiconductor device
US10181532B2 (en) Low loss electronic devices having increased doping for reduced resistance and methods of forming the same
EP0201945A2 (en) Semiconductor devices employing conductivity modulation
US20160027866A1 (en) Semiconductor device
US4377816A (en) Semiconductor element with zone guard rings
US4517582A (en) Asymmetrical thyristor with highly doped anode base layer region for optimized blocking and forward voltages
US6734520B2 (en) Semiconductor component and method of producing it
US11195922B2 (en) Silicon carbide semiconductor device
US4132996A (en) Electric field-controlled semiconductor device
USH40H (en) Field shields for Schottky barrier devices
US4047196A (en) High voltage semiconductor device having a novel edge contour
US20210328077A1 (en) Merged PiN Schottky (MPS) Diode With Multiple Cell Designs And Manufacturing Method Thereof
US6891204B2 (en) Semiconductor component having field-shaping regions
PL123830B2 (en) Semiconductor switching diode
US3217212A (en) Semiconductor pin junction microwave limiter
US5184198A (en) Special geometry Schottky diode
US20210036165A1 (en) MERGED PiN SCHOTTKY (MPS) DIODE WITH ENHANCED SURGE CURRENT CAPACITY
US4062032A (en) Gate turn off semiconductor rectifiers