PL120091B1 - Method of measurement of thermal resistance of monolithic semiconductor integrated circuitsoluprovodnikov integral'nykh skhem - Google Patents

Method of measurement of thermal resistance of monolithic semiconductor integrated circuitsoluprovodnikov integral'nykh skhem Download PDF

Info

Publication number
PL120091B1
PL120091B1 PL21445579A PL21445579A PL120091B1 PL 120091 B1 PL120091 B1 PL 120091B1 PL 21445579 A PL21445579 A PL 21445579A PL 21445579 A PL21445579 A PL 21445579A PL 120091 B1 PL120091 B1 PL 120091B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
thermal resistance
temperature
measurement
power
diode
Prior art date
Application number
PL21445579A
Other languages
English (en)
Other versions
PL214455A1 (pl
Inventor
Janusz Gulczynski
Original Assignee
Politechnika Gdanska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Gdanska filed Critical Politechnika Gdanska
Priority to PL21445579A priority Critical patent/PL120091B1/pl
Publication of PL214455A1 publication Critical patent/PL214455A1/xx
Publication of PL120091B1 publication Critical patent/PL120091B1/pl

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób pomiaru rezystancji termicznej monolitycznych pólprzewod¬ nikowych ukladów scalonych.Pomiar rezystancji termicznej Rth polega na po¬ miarze przyrostu temperatury AT okreslonego ob¬ szaru aktywnego przyrzadu pólprzewodnikowego spowodowanego przylozeniem lub wydzieleniem w tym obszarze znanej mocy PQ. Rezystancja ter¬ miczna moze byc wtedy obliczona z zaleznosci: AT Rth " Po • Istotna trudnosc tego pomiaru w przypadku mikroukladów pólprzewodnikowych polega na nie¬ mozliwosci bezposredniego pomiaru przyrostu tem¬ peratury przy pomocy termometru zewnetrznego — stykowego. Ograniczenie to wynika z powodu bra¬ ku dostepu do ezesto hermetycznie zamknietego elementu pólprzewodnikowego oraz z powodu ma¬ lych wymiarów mierzonego obszaru. Z tych przy¬ czyn przy pomiarach zmian temperatury w przy¬ rzadach pólprzewodnikwych, wykorzystuje sie na¬ turalne wlasciwosci tych przyrzadów polegajace na uzaleznieniu parametrów elektrycznych od tempe¬ ratury. ¦.''¦-•;} Z wielu wzgledów parametrem termoczulym ]esV zazwyczaj wybrane napiecie diody zlaczowej spo¬ laryzowanej stalym pradem w-: kierunku przewo¬ dzenia. Parametr ten jest wykorzystywany zarów¬ no przy pomiarze rezystancji termicznej pólprze¬ wodnikowych elementów indywidualnych, jak rów- II 15 30 niez przy pomiarach ukladów scalonych. W tym ostatnim przypadku czesto uniemozliwia pomiar brak bezposredniego elektrycznego doistejpu do jakiejkolwiek pojedynczej diody umieszczonej we¬ wnatrz ukladu scalonego. Producenci ukladów sca¬ lonych problem ten rozwiazuja w prosty sposób — wytwarzaja specjalnie osobna diode na plytce pól¬ przewodnika i zaopatruja ja w elektryczne odjpro- wadzenie. Umozliwia to oczywiscie pomiar przy¬ rostu temperatury plytki' pólprzewodnikowej, a tym samym pomiar rezystancji termicznej wed¬ lug" wyzej podanej zaleznosci.Niezaleznie od podanego sposobu pomiaru tem¬ peratury powierzchni pólprzewodnika, stosowane sa metody termograficzne bezstykowe. Oparte sa one w zasadzie o pomiary za posrednictwem mi¬ kroskopu podczerwieni* Zasadnicza wada stosowanych dotychczas roz¬ wiazan jest koniecznosc wytworzenia w plytce pól¬ przewodnikowej specjalnego zlacza p-n dla celów pomiaru temperatury plytki oraz mala uniwersal¬ nosc znanych sposobów, gdyz przy braku specjal¬ nego zlacza p-n, a takze niemozliwosci wykorzy¬ stania dla celów pomiarowych temperatury, zlacz bedacych integralna czescia ukladu scalonego, nie istnieje w ogóle mozliwosc pomiaru rezystancji cieplnej gotowego wyrobu.W przewazajace} wiekszosci wspólczesnie produ¬ kowanych ukladów scalonych nie istnieje mozli¬ wosc pomiaru rezystancji termicznej z podanych 120091120 091 wyzej przyczyn. Rezygnuje sie wobec tego z po¬ miaru rezystancji termicznej, a wartosc jej szacuje sie na podstawie podobienstwa cech konstrukcyj¬ nych i technologicznych do innych ukladów, w któ¬ rych pomiar taki moze byc wykonany. Czasem, w pewnej ilosci egzemplarzy specjalnie wykonuje sie dodatkowe wyprowadzenie, aby dokonac po¬ miarów termicznych prótlki statystycznej z produ¬ kowanej serii.Przedstawione wyzej sposoby pioirmiaru nie poz¬ walaja zatem na pomiar rezystancji termicznej dowolnie wybranego ukladu scalonego, gdyz w wiekszosci przypadków zachodzi potrzeba specjal¬ nego przygotowania ukladu do pomiaru.Rozwiazanie w postaci pomiarów temperatury przy pomocy mikroskopu podczerwieni ma istotna" wade, polegajaca na tym, iz uklad rmieirzony nie ;moze *byc zamkniety calkowicie w swojej obudo¬ wie. Powierzchnia aktywna' plytki pólprzewodniko¬ wej musi byc calkowicie dostepna dla obiektywu mliikroskopu. Pomiar zatem nie moze byc wyko¬ nany w warunkach idemtycznych w jakich uklad jest eksploatowany, a tym samym z praktycznego punktu widzendaobarczony jest znacznym - bledem. " Istota sposobu wedlug wynalazku polega na wy¬ korzystaniu wlasciwosci diody podlozowej, spola¬ ryzowanej w kierunku p-rzewodizeinia. Do diody podlozowej utworzonej z warstwy podlozowej oraz obszaru dowolnego kolektora tranzystora, stano¬ wiacego element badanego ukladu scalonego, po¬ siadajacego bezposrednie wyprowadzenie elektrycz¬ ne, przyklada sie napiecie o polaryzacji zapewnia¬ jacej pirzewodzenie diody podlozowej pochodzace z generatora pradowego o malej wydajnosci pra¬ dowej i dokonuje sie kalibracji termicznej tej dio¬ dy. Nastepnie do mierzonego ukladu scalonego do¬ prowadza sie w sposób ciagly lub w postaci im¬ pulsu o zadanym czasie trwania, poprzez dostepne wyprowadzenie elektryczne moc elektryczna PQ podgrzewajaca obszary przyzlaczowe ukladu scalo¬ nego do temperatury Tjmax po czym temperature te mierzy sie poprzez wykorzystanie zmian napie¬ cia uprzednio wylkalibrowanej termicznie diody podlozowej/Nastepnie dokonuje" sie obliczenia wiel- AT kosci rezystancji termicznej Rth~ p gdzie AT = Tjamx — TQ, przy czym TQ stanowi tempera¬ ture obudowy. Obliczen tych dokonuje sie dla dowolnie ustalonej sekwencji czasowej zasilania ukladu scalonego umozliwiajacej pomiar rezystan¬ cji termicznej statycznej lub przejsciowej a takze poprzez zmiane miejsca dolaczenia generatora po¬ miarowego pozwalajacego na pomiar temperatury w kilku miejscach powierzchni ukladu scalonego.IW odróznieniu od innych sposobów pomiaru re¬ zystancji termicznej glówna zaleta sposobu opisa¬ nego wyzej jest jego uniwersalnosc. Jak pokazuje doswiadczenie opasanym sposobem mozna dokonac pomiaru rezystancji termicznej praktycznie kaz¬ dego pólprzewodnikowego obwodu scalonego. Wnio¬ sek ten oparty jest o fakt, ze zawsze istnieje elek¬ tryczne wyprowadzenie obszaru podloza jak tez wyprowadzenie co najmniej jednego kolektora.Opisana metoda pozwala na pomiar temperatury maksymalnej w róznych miejscach powierzchni pólprzewodnika, przy tym samym sposobie dostar¬ czania mocy PQ. Metoda pozwala w pewnym sen¬ sie na pomiar „rozkladu temperatury" na po¬ wierzchni krysztalu pp dla stalych warunków za- 5 silania ukladu.Nie zmieniajac miejsca dolaczenia generatora pradu pomiarowego Ip, sposób wedlug wynalazku umozliwia pomiar temperatury maksymalnej w wybranym obszarze lub rezystancji termicznej io w funkcji róznych warunków zasilania ukladu scalonego. Chodzi tu zarówno o zmiane bezwzgled¬ nej wartosci mocy czynnej PQ, stosunku IQ do U , jak tez zmiane sekwencji czasowych zasilania, tzn. stosunku czasu wlaczenia mocy PQ do czasu 15 wylaczenia. Te ostatnie zmiany pozwalaja na po¬ miary tak zwanej przejsciowej rezystancji ter¬ micznej.Pirzedmiot wynalazku jest blizej objasniony na podstawie rysunku, który przedstawia schemat blo- 20 kowy ukladu.AT Jak wynika ze wzoru: Rth = ^— dla dokonania o pomiaru rezystancji termicznej Rih nalezy doko¬ nac pomiaru przyrostu temperatury AT tego ob- 25 szaru pólprzewodnika w którym nastepuje wy¬ dzielenie znanej mocy elektrycznej P , przy czym AT =.Tjmax — TQ, gdzie TQ oznacza temperature obudowy a Tjmax maksymalna temperature pól¬ przewodnika ogrzewanego moca PQ. 30 W celu pomiaru temperatury Tjmax wykorzy¬ stuje sie wlasciwosci diody podlozowej spolaryzo¬ wanej w kierunku przewodzenia.Typowa cecha ukladów scalonych pólprzewodni¬ kowych jest izolowanie obszarów aktywnych ukla- 33 du od podloza za posrednictwem spolaryzowanych wstecznie zlacz p-n. Taka polaryzacja ma miejsce w przypadku normalnych warunków pracy ukladu.W sposobie wedlug wynalazku do ukladu scalo¬ nego przyklada sie do odpowiednio wybranych do- 40 prowadzen napiecie spolaryzowane odwrotnie i uzyskuje sie przewodzenie diody podlozowej.Polaryzacji takiej dokonuje sie za posrednictwem generatora pradowego o odpowiednio malej wy¬ dajnosci pradowej i ze zmian napiecia polaryzacji 45 odczytuje sie po wykaiibrowaniu temperature zla¬ cza tej diody.Opisany sposób mozna zatem wykorzystac w tych ukladach scalonych gdzie istnieja naturalne funkcjonalne wyprowadzenia elektryczne z podlo- 00 za i z warstwy tworzacej z podlozem zlacze p-n.Przykladem takiej warstwy w ukladzie scalonym sa obszary kolektora, z których przynajmniej jeden ^posiada wyprowadzenie elektryczne.Zasade pomiaru ilustruje jrysunek. Mierzony 85 uklad scalony 1 znajduje sie w termostacie 2 za¬ pewniajacym stala temperature jego obudowy TQ.Do odpowiednich wyprowadzen mierzonego ukladu scalonego 1 dolaczany jest generator pradu pomia¬ rowego 3 poprzez klucz KI i zaisilacz mocy grzej- 60 nej 4 poprzez klucz K2. Uklad zasilany jest zgod¬ nie z wymaganiami elektrycznymi wlasciwymi dla mierzonego typu ukladu scalonego.Pomiar odbywa sie wedlug nastepujacej kolej¬ nosci. Najpierw dokonuje sie kalibracji termicznej ** zlacza koletetoripodiaze, w celu uzyskania zalez-120 091 nosci: Up = UD = «T)Ip=;on?t; gdzie UD — oznacza napiecie panujace ma diodzie podlozowej spolary¬ zowanej w kierunku przewodzenia istalym pradem o wartosci Ip =* const. Kalibracji tej dokonuje sie przy zamknietym kluczu KI i otwartym kluczu K2, poprzez powolna zimiane temperatury obudowy ukladiu scalonego. Nastepnie ogrzewa sie uklad scalony — poprzez doprowadzenie mocy PQ o od¬ powiednich parametrach. Otwarty wtedy jest klucz KI a zamkniety K2. W tym okresie nastepuje ogrzewalnie ukladu scalonego do temperatury wy- AT nikajacej z zaleznosci Rth =-p—. Obudowa zmaj- o duje sie w temperaturze TQ.W kolejnym etapie nastepuje szybkie przelacze¬ nie kluczy: otwarcie klucza K2 i zamkniecie klu¬ cza KI i odczytanie napiecia pomiarowego Up a tym samym temperatury zlacza podlozowego ukladu scalonego wywolanego ogrzewaniem moca PQ. Odczytanie wartosci mocy PQ, temperatury obudowy TQ, a takze zmierzonej podana metoda temperatury zlacza Tjmax pozwala obliczyc AT a tym samym wartosc rezystancji termicznej Rth.Opisany cykl pomiarowy moze byc powtarzany w róznych sekwencjach czasowych LtmozKwiajac zarówno pomiar statycznej rezystancji termicznej jak tez i przejsciowej ^rezystancji termicznej.Ogólna cecha .sposobu wedlug wynalazku jest to, ze czas przelaczenia kluczy KI i K2 w etapie po¬ lo 18 20 miarowym, w którym dokonuje 'sie odczytania temperatury zlacza podlozowego musi nastapic szybciej niz wynosi najmniejsza termiczna stala czasowa mierzonego ukladu.Zastrzezenie patentowe Sposób pomiaru rezystancji termicznej monoli¬ tycznych pólprzewodnikowych ukladów scalonych, która wyznacza sie ze stosunku przyrostu tempera¬ tury AT okreslonego obszaru aktywnego ukladu pólprzewodnikowego spowodowanego przylozeniem lub wydzieleniem w tym obszarze znanej mocy PQ do wielkosci tej mocy PQ, znamienny tym, ze do pomiaru przyrostu temperatury AT wykorzystuje sie wlasciwosci diody podlozowej stanowiacej ob¬ szar kolektora dowolnie wybranego tranzystora badanego ukladu, przy czym diode podlozowa po¬ laryzuje isie w kierunku przewodzenia generato¬ rem pradowym o malej wydajnosci pradowej i do¬ konuje sie kalibracji termicznej tej diody a na¬ stepnie do mierzonego ukladu scalonego doprowa¬ dza sie w sposób ciagly lub w postaci impulsów o zadanym czasie trwania, poprzez dostepne wy¬ prowadzenie elektryczne, moc elektryczna PQ ogrzewajaca obszary przylaczowe badanego ukladu do temperatury Tjmax, po czym wylacza sie moc ogrzewajaca PQ i mierzy sie temperature Tjmax poprzez wykorzystanie zmian napiecia uprzednio wykalibrowanej diody podlozowej.U "V: ! k, Po -\ 0 0 PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Sposób pomiaru rezystancji termicznej monoli¬ tycznych pólprzewodnikowych ukladów scalonych, która wyznacza sie ze stosunku przyrostu tempera¬ tury AT okreslonego obszaru aktywnego ukladu pólprzewodnikowego spowodowanego przylozeniem lub wydzieleniem w tym obszarze znanej mocy PQ do wielkosci tej mocy PQ, znamienny tym, ze do pomiaru przyrostu temperatury AT wykorzystuje sie wlasciwosci diody podlozowej stanowiacej ob¬ szar kolektora dowolnie wybranego tranzystora badanego ukladu, przy czym diode podlozowa po¬ laryzuje isie w kierunku przewodzenia generato¬ rem pradowym o malej wydajnosci pradowej i do¬ konuje sie kalibracji termicznej tej diody a na¬ stepnie do mierzonego ukladu scalonego doprowa¬ dza sie w sposób ciagly lub w postaci impulsów o zadanym czasie trwania, poprzez dostepne wy¬ prowadzenie elektryczne, moc elektryczna PQ ogrzewajaca obszary przylaczowe badanego ukladu do temperatury Tjmax, po czym wylacza sie moc ogrzewajaca PQ i mierzy sie temperature Tjmax poprzez wykorzystanie zmian napiecia uprzednio wykalibrowanej diody podlozowej. U "V: ! k, Po -\ 0 0 PL
PL21445579A 1979-03-27 1979-03-27 Method of measurement of thermal resistance of monolithic semiconductor integrated circuitsoluprovodnikov integral'nykh skhem PL120091B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21445579A PL120091B1 (en) 1979-03-27 1979-03-27 Method of measurement of thermal resistance of monolithic semiconductor integrated circuitsoluprovodnikov integral'nykh skhem

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21445579A PL120091B1 (en) 1979-03-27 1979-03-27 Method of measurement of thermal resistance of monolithic semiconductor integrated circuitsoluprovodnikov integral'nykh skhem

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL214455A1 PL214455A1 (pl) 1980-12-15
PL120091B1 true PL120091B1 (en) 1982-02-27

Family

ID=19995359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL21445579A PL120091B1 (en) 1979-03-27 1979-03-27 Method of measurement of thermal resistance of monolithic semiconductor integrated circuitsoluprovodnikov integral'nykh skhem

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL120091B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL214455A1 (pl) 1980-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Yu et al. High-integration and high-performance micro thermoelectric generator by femtosecond laser direct writing for self-powered IoT devices
Masmoudi et al. Single and double diode models for conventional mono-crystalline solar cell with extraction of internal parameters
US5291142A (en) Method and apparatus for measuring the resistance of conductive materials due to electromigration
Blackburn An electrical technique for the measurement of the peak junction temperature of power transistors
Amoiridis et al. Vce-based chip temperature estimation methods for high power IGBT modules during power cycling—A comparison
JP3560308B2 (ja) 太陽電池の良否判定方法
Mialhe et al. The diode quality factor of solar cells under illumination
Maize et al. Transient thermal imaging using thermoreflectance
Debey et al. Fabrication of planar thermocouples for real-time measurements of temperature profiles in polymer melts
JP2013113649A (ja) 半導体装置における熱抵抗の測定方法および測定装置
Grieger et al. Thermal impedance spectroscopy for non-destructive evaluation of power cycling
US5162669A (en) Semiconductor switch including a device for measuring a depletion layer temperature of the switch
PL120091B1 (en) Method of measurement of thermal resistance of monolithic semiconductor integrated circuitsoluprovodnikov integral'nykh skhem
Kanno et al. Avoiding errors in efficiency measurements of high-performance thermoelectric generator modules: Toward best practices for materials researchers
de Sousa et al. Application of the fdm-adi method for simulating sfcl under inrush conditions
Zarebski et al. A method of the BJT transient thermal impedance measurement with double junction calibration
Ranaweera et al. Cell integrated thin-film multi-junction thermocouple array for in-situ temperature monitoring of solid oxide fuel cells
Kim et al. Simple technique for the simultaneous measurements of the four-probe resistivity and the thermoelectric power
JPS5560869A (en) Device for measuring spreading resistance
Yin et al. Thermal resistance measurement of packaged SiC MOSFETs by transient dual interface method
US3355666A (en) R. f. measuring device using a solid state heat pump calorimeter
McAfee et al. Zener diode reverse breakdown voltage as a simultaneous heating and temperature sensing element
JP3539231B2 (ja) 接合温度測定方法及びその方法を実施するための測定装置
PL173206B1 (pl) Sposób pomiaru rezystancji termicznej diod półprzewodnikowych ze złączem pn w zakresie przebicia
RU2787328C1 (ru) Способ измерения теплового сопротивления переход-корпус и тепловой постоянной времени переход-корпус полупроводникового изделия