Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do selektywnego usuwania substancji szkodliwych z gazów przemyslowych. W znanych urzadzeniach do czyszczenia gazów przemyslowych, pracujacych na zasadzie absorpcji stosowane sa absorbery z natryskiem absorbenta, wzglednie absorbery pólkowe z przeplywem absorbenta w postaci strumienia, najczesciej przeciwpradowo do oczyszczanego gazu. W absorberach z wypelnieniem stacjonarnym lub ruchomym, stanowiacym warstwe materialu z cial stalych o dowolnym ksztalcie, usuwanie zanieczyszczen z gazu nastepuje na wypelnieniu przez przeplyw cieczy i gazu. Równiez znane jest urzadzenie do usuwania zanieczyszczen, szczególnie w abosrberach barbotazowych, gdzie przep¬ lyw gazu odbywa sie w postaci pecherzyków przez ciecz znajdujaca sie na pólce lub w aparacie.Urzadzenie wedlug wynalazku sklada sie z co najmniej dwu jednakowych kolumn absorpcyjnych, usytuowanych jedna pod druga, oddzielonych od siebie bezprzelewowa pólka i tworzacych jednolita calosc.W kazdej kolumnie absorpcyjnej chlodnica gazu usytuowana jest pod kolumna oczyszczajaca. Chlodnice gazu i kolumny oczyszczajace wyposazone sa w zraszacze mglowe, zas kazda kolumna oczyszczajaca wyposazona jest w warstwe wypelnienia, spoczywajaca na przegrodzie.Urzadzenie wedlug wynalazku stwarza znacznie korzystniejsze warunki absorpcji od stosowanych obecnie aparatów, jak na przyklad równoczesne oczyszczanie gazu przemyslowego z substancji gazowych oraz czastek stalych, umozliwia równoczesne i niezalezne oczyszczanie gazu z kilku gazowych substancji przez odpowiedni dobór absorbentów i polaczen doprowadzajacych absorbent.Zastosowanie bezprzelewowej pólki oddzielajacej dolny i górny stopien absorpcyjny pozwala na przep¬ lyw gazu ze stopnia dolnego do górnego, nie pozwala naprzeplyw absorbenta ze stopnia górnego do dolnego, co jest szczególnie korzystne przy stosowaniu róznych absorbentów — w czesci dolnej i górnej.Niezaleznie od tego w miejscu dwu aparatów wprowadza sie jedno urzadzenie i mimo wieloczynnosciowego dzialania proste w obsludze i eksploatacji, o duzej wydajnosci i wysokim stopniu oczyszczania,jak równiez stwarzajace korzystne warunki do odpylania gazu.Urzadzenie wedlug wynalazku jest przedstawione w przykladzie wykonania na rysunku, na którym przedstawiono jego przekrój podluzny.Dolna kolumna absorpcyjna 1 i górna kolumna absorpcyjna 2 oddzielone sa od siebie bezprzelewowa pólka kolpakowa 3. Chlodnica gazu la usytuowana jest pod kolumna oczyszczajaca Ib, a chlodnica gazu 2a pod kolumna oczyszczajaca 2b. Chlodnice gazu la, 2a i kolumny oczyszczajace Ib, 2b wyposazone sa w zraszacze mglowe 11, 12, 13 i 14.2 119243 Kolumny oczyszczajace Ib. 2b wyposazone sa w warstwy ruchomego wypelnienia 7,8. spoczywajace na perforowanych pólkach 5, 6. Zanieczyszczony gaz doprowadzany jest do urzadzenia od dolu króccem 15 i plynie przeciwpradowo do cieczy absorpcyjnej. Kolumny absorpcyjne 1, 2 zasilane sa niezaleznie w absor- bent doprowadzeniami 9a. 9b oraz lOa i lOb, co umozliwia elastyczna prace urzadzenia z punktu widzenia mozliwosci równoczesnego oczyszczania z kilku szkodliwych substancji gazowych, wzglednie osiagniecia bardzo wysokiej czystosci oczyszczanego gazu. Chlodnice gazu la, 2a oprócz chlodzenia spelniaja funkcje oczyszczajace gaz. Ciecze absorpcyjne zanieczyszczone odprowadzane sa króccami 4 i 18.Oczyszczany gaz odprowadzany jest ze szczytu,urzadzenia króccem 17. Na perforowanych pólkach 5, 6 ouswobodnej ^powierzchni nieprzekraczajacej wartosci 0,7 usypana jest warstwa wypelnienia z drobnych elementów ciala stalego o srednicy do 40 mm, ciezarze wlasciwym do 11000 N/m3, wysokosci w stanie stacjonarnym do 0,25 srednicy aparatu, a w stanie ruchomym do wartosci 10 srednic aparatu. * mm m « 0 Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do selektywnego usuwania substancji szkodliwych z gazów przemyslowych, znamienne tym, ze sklada sie co najmniej z dwu jednakowych kolumn absorpcyjnych (1, 2), usytuowanych jedna pod druga, oddzielonych od siebie bezprzelewowa pólka (3) i tworzacych jednolita calosc, przy czym w kazdej kolumnie absorpcyjnej (1,2) chlodnica gazu (la, 2a) usytuowana jest pod kolumna oczyszczajaca (Ib, 2b), a chlodnice gazu (la, 2a) i kolumny oczyszczajace (Ib, 2b) wyposazone sa w zraszacze mglowe (11,12,13,14), zas kazda z kolumn oczyszczajacych (Ib, 2b) wyposazona jest w warstwe wypelnienia (7,8) spoczywajaca na przegrodzie (5,6).119 243 PLThe subject of the invention is a device for the selective removal of harmful substances from industrial gases. Known industrial gas cleaning devices operating on the absorption principle use absorbers with an absorbent spray, or plate absorbers with an absorbent flow in the form of a stream, usually countercurrent to the gas to be treated. In absorbers with stationary or mobile packing, constituting a layer of solid material of any shape, the removal of pollutants from the gas takes place at the filling through the flow of liquid and gas. A device for removing impurities is also known, especially in bubble filters, where the gas flows in the form of bubbles through a liquid on a shelf or in an apparatus. The device according to the invention consists of at least two identical absorption columns arranged one below the other. , separated from each other by a non-overflow shelf and forming a uniform whole. In each absorption column, the gas cooler is located under the purification column. Gas coolers and purifying columns are equipped with fog sprinklers, and each purifying column is equipped with a filling layer resting on a partition. The device according to the invention creates much more favorable conditions for absorption than the currently used devices, such as the simultaneous purification of industrial gas from gaseous substances and particles solids, it enables simultaneous and independent gas purification from several gaseous substances by appropriate selection of absorbents and absorbent supply connections. The use of a non-overflow shelf separating the lower and upper absorption stages allows gas to flow from the lower to the upper stage, and prevents the flow of absorbent from the upper stage to bottom, which is particularly advantageous when using different absorbents - in the lower and upper part. Regardless of that, in the place of two apparatuses, one device is introduced, and despite the multi-functional operation, it is easy to use and operate, with high efficiency The device according to the invention is presented in an example of embodiment in the drawing, which shows its longitudinal section. The lower absorption column 1 and the upper absorption column 2 are separated from each other by a non-flow collet plate 3 The gas cooler 1a is positioned below the purge column Ib and the gas cooler 2a is below the purge column 2b. The gas coolers 1a, 2a and purification columns Ib, 2b are equipped with mist sprinklers 11, 12, 13 and 14.2 119243 Purification columns Ib. 2b are equipped with layers of movable padding 7.8. resting on the perforated shelves 5, 6. The contaminated gas is led to the device from the bottom through the connection 15 and flows countercurrently to the absorption liquid. The absorption columns 1, 2 are fed independently with the absorbent via the leads 9a. 9b and 10a and 10b, which allows flexible operation of the device in terms of the possibility of simultaneous cleaning from several harmful gaseous substances, or achieving a very high purity of the purified gas. The gas coolers la, 2a, in addition to cooling, also purify the gas. Contaminated absorption liquids are discharged through ports 4 and 18. The treated gas is discharged from the top, the device is discharged through a port 17. On the perforated shelves 5, 6, with a free surface not exceeding 0.7, a layer of filling is made of small solid body elements with a diameter of up to 40 mm, Specific gravity up to 11000 N / m3, heights in steady state up to 0.25 of the device diameter, and in a moving state up to 10 diameters of the device. * mm m «0 Patent claim Device for selective removal of harmful substances from industrial gases, characterized in that it consists of at least two identical absorption columns (1, 2), placed one below the other, separated from each other by a non-overflow shelf (3) and forming a uniform whole, where in each absorption column (1,2) the gas cooler (Ia, 2a) is located under the purifying column (Ib, 2b), and the gas coolers (Ia, 2a) and purifying columns (Ib, 2b) are equipped with they are equipped with mist sprinklers (11, 12, 13, 14), and each of the purifying columns (Ib, 2b) is equipped with a layer of filling (7,8) resting on a partition (5,6).