PL11892B1 - Elementy aparatów oczyszczajacych do odsiarczania na goraco gazów destylacyjnych i pirogenezyjnych z substancyj weglowych. - Google Patents

Description

Przedmiotem niniejszego wynalazku jest sposób budowy elementów aparatów oczyszczajacych, usuwafajcych w* zupelno¬ sci powyzsze wady.Zasada wynalazku polega na umie¬ szczeniu substancji oczyszczajacej, wy¬ tworzonej w znany sposób z metalu lub rozdrobnionego tlenku, na podkladzie z masy porowatej, porcelany lub innej, w rurach o przekroju okraglym, posiadaja¬ cym dwie powierzchnie promieniowania: wewnetrzna i zewnetrzna. W ten sposób masa, poddana dzialaniu regenerujacego pradu powietrza, nie zagrzewa sie powy¬ zej pozadanej temperatury, a to dzieki do¬ godnemu chlodzeniu przez promieniowa¬ nie nazewnatrz i nawewnatrz aparatu.W praktyce elementy oczyszczajace wykonac mozna prosciej z dwóch koncen¬ trycznych rur A, A°v pomiedzy któremi znajduje sie przestrzen a, zamknieta na obu koncach pokrywami lub okraglemi dnami B, 2?1, jak w przykladzie wykona¬ nia przedstawionym w przekroju piono¬ wym na fig. 1 oraz w przeikraju poziomym wzdluz linji 2—2 na fig. 1. Mase oczy¬ szczajaca o jakimkolwiek znanym skla¬ dzie, np, z niklu subtelnie rozdrobnionego, w postaci cegielek, malych rurek lub o po¬ dobnym ksztalcie, umieszcza sie na poro¬ watym podkladzie. Na koncach tego urza¬ dzenia oczyszczajacego znajduja sie dwie komory, Dy BP, sluzace z jednej strony do pobierania gazu oczyszczanego i odprowa¬ dzania pozostalosci gazowych powstalych podczas regeneracji, a z drugiej strony do odprowadzania gazu oczyszczonego i do¬ prowadzania regenerujacego powietrza lub tlenu. Rura E doprowadzajaca gaz zaopa¬ trzona jest w zawór e oraz w odgalezienie F, sluzace do usuwania gazu, powstalego po regeneracji {S02-\-AJ Przewód E po¬ winien byc styczny do okraglej czesci apa¬ ratu i posiadac zawór e. Rura odlotowa G—g sluzy do odprowadzania gazu oczy¬ szczonego i posiada odgalezienia wlotowe dla powietrza lub tlenu {H—h).Jak widac, element oczyszczajacy zbu¬ dowany w ten sposób posiada dwie po¬ wierzchnie promieniowania, a mianowicie zewnetrzna A'1 oraz wewnetrzna A. W ce¬ lu uzyskania dobrych rezultatów szerokosc przestrzeni pierscieniowej, t. j. odleglosc pomiedzy powierzchniami A1 i A, powin¬ na byc dostatecztnie mala tak, aby strefa srodkowa tej przestrzeni, w której panu¬ je temperatura najwyzsza, znajdowala sie dosc blisko zewnetrznych powierzchni pro¬ mieniujacych. Tak np. element oczyszcza¬ jacy, objety sciana A o srednicy okolo 300 ma powinien zawierac przestrzen pierscieniowa o grubosci okolo 100 mm, a srednica powierzchni zewnetrznej objetej sciana A1 winna wynosic okolo 500 mm.Takie elementy oczyszczajace zapo¬ biegaja osiagnieciu szkodliwej tempera¬ tury topnienia metalu oczyszczajacego lab materjalu na którym metal ten spo¬ czywa, przyczem regeneracja odbywa sie w krótszym czasie anizeli przy urzadzeniu oczyszczajacem o tej samej pojemnosci i pelnym przekroju.Oczywiscie, ze sciany A, A1, ograni¬ czajace przestrzen pierscieniowa, nieko¬ niecznie musza byc walcami o przekroju kolowym, moga równiez posiadac rózne in¬ ne dogodine ksztalty geometryczne; prze¬ strzen pieiisd*niawa moze byc utworzona równiez pomiedzy dwiema powierzchnia¬ mi falisteani lub w ksztalcie gwiazdy, o ile — 2 —zajdzie koniecznosc zwiekszenia zewnetrz¬ nej i wewnetrznej powierzchni promienio¬ wania.Sciany A i A1 niekoniecznie musza byc do siebie równolegle, a strzeni pierscieniowej a jednakowa wzdluz calej wysokosci lub dlugosci elementu o- czyszezajacego. Mozna zastosowac zmien¬ na szerokosc przestrzeni pierscieniowej, wzrastajaca stopniowo od strefy o naj¬ wyzszej temperaturze.Powyzej opisane elementy urzadzen o- czyszczajacych mozna zastosowac w ksztal¬ cie baterji o serjach równoleglych lub in¬ nych oraz o zmiennej ilosci elementów, za¬ leznie od kazdorazowego zastosowania i przeznaczenia. Urzadzenia oczyszczajace moga równiez posiadac rozmaite (rury i za¬ wory dodatkowe w razie zastosowania re¬ generacji, wymagajacej nietylko powie¬ trza lub tlenu. PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe. 1. Elementy aparatów oczyszczaja¬ cych do odsiarczania na goraco gazów de¬ stylacyjnych lub pirogenezyjnych w sub¬ stancjach weglowych, znamienne tern, ze skladaja sie z dwóch przewodów (A, A1), tworzacych pierscieniowy przekrój po¬ przeczny, zamknietych na koncach dna¬ mi (B, B1) i zaopatrzonych stycznie wpo- blizu tych den w rure wlotowa (E, ej dla gazu oczyszczanego, od której odga¬ lezia sie przewód odlotowy (F, f) dla ga¬ zów powstalych po regeneracji, oraz w ru¬ re wylotowa (G, g) dla gazów oczyszczo¬ nych, od której odgalezia sie przewód wlo¬ towy (H—h) dla powietrza liib tlenu, slu¬ zacego do regeneracji.
2. 2. Elementy aparatów oczyszczaja¬ cych wedlug zastrz. 1, znamienne tern, ze masa oczyszczajaca umieszczona jest w przestrzeni pierscieniowej pomiedzy dwie¬ ma sciankami (C, C1) w ten sposób, iz po¬ miedzy niemi a dnem lub pokrywa (B, B1) elementu oczyszczajacego znajduja sie ko¬ mory {D, D1), przyczem do komór tych do¬ chodza odpowiednie rury wlotowe i wylo¬ towe dla gazów.
3. 3. Elementy aparatów sluzacych do oczyszczania gazów wedlug zastrz. 1, zna¬ mienne tern, ze szerokosc przestrzeni pier¬ scieniowej (a) wzrasta stopniowo od stre¬ fy o najwyzszej temperaturze podczas re¬ generacji. Compagnie Internationale pour la Fabrication des Essences & Pet roi es. Zastepca: Inz. St. Pawlikowski, rzecznik patentowy.Do opisu patentowego Nr 11892. li Druk L. Boguslawskiego, Warszawa. PL