PL117969B1 - Apparatus for purifying materials - Google Patents

Apparatus for purifying materials Download PDF

Info

Publication number
PL117969B1
PL117969B1 PL21100378A PL21100378A PL117969B1 PL 117969 B1 PL117969 B1 PL 117969B1 PL 21100378 A PL21100378 A PL 21100378A PL 21100378 A PL21100378 A PL 21100378A PL 117969 B1 PL117969 B1 PL 117969B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
furnace
tube
vacuum
quartz
quartz tube
Prior art date
Application number
PL21100378A
Other languages
English (en)
Other versions
PL211003A1 (pl
Inventor
Jan Staskiewicz
Zbigniew Galocz
Bogdan Goluch
Original Assignee
Wyzsza Szkola Inzynierska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wyzsza Szkola Inzynierska filed Critical Wyzsza Szkola Inzynierska
Priority to PL21100378A priority Critical patent/PL117969B1/pl
Publication of PL211003A1 publication Critical patent/PL211003A1/xx
Publication of PL117969B1 publication Critical patent/PL117969B1/pl

Links

Landscapes

  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Description

***** <1 U"»i 1 Twórcy wynalazku: Jan Staskiewicz, Zbigniew Galocz, Bogdan Goluch Uprawniony z patentu: Wyzsza Szkola Inzynierska, Koszalin (Polska) Urzadzenie do oczyszczania materialów Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do o- czyszczania materialów, znajdujace zastosowanie w laboratoriach chemicznych i technologicznych do oczyszczania badanych materialów z obcych niepozadanych materialów.Znane sa urzadzenia, które skladaja sie zazwy¬ czaj z pieca, w którym umieszczona jest rura próznioszczelna. W rurze znajduje sie ampula lub lódka z odpowiednio uprofilowanyim dnem, w któ¬ rej koncu zwanym wyparnikiem umieszczony jest material, który ma podlegac procesowi oczysz¬ czania.W rurze wytwarza sie podcisnienie albo usuwa sie powietrze i wprowadza odpowiedni dla da¬ nego procesu technologicznego gaz, kontrolujac jed¬ noczesnie jego cisnienie lub zapewniajac wymaga¬ na predkosc jego przeplywu przez rure. Istotne znaczenie dla procesu oczyszczania ma rozklad temperatury wytworzonej przez piec, wzdluz am- puly. Oczyszczanie materialu znajdujacego sie w ampule odbywa sie na zasadzie destylacji oraz su- bld/macji molekularnej i stosuje sie je dla mate¬ rialów, których punkty wrzenia zanieczyszczen i oczyszczanego materialu sa dostatecznie oddalone od siebie.Wada znanych urzadzen jest stosowanie w nich pieców z nieprzezroczystymi oslonami odblasko¬ wymi i termoizolujacymi, co uniemozliwia obser¬ wacje wizualna procesu oczyszczania.Celem wynalazku jest wyeliminowanie tej nie- 10 15 20 25 30 dogodnosci przez zastapienie pieca konwencjonal¬ nego piecem z przezroczystym elementem grzej¬ nym. Przezroczyste warstwy oporowe znane sa miedzy innymi z polskiego opisu patentowego nr 44 523. Warstwy wyfkonane na bazie dwutlenku cyny czy tez trójtlenku indu wykorzystuje sie ja¬ ko elementy grzejne w urzadzeniach, np. w sprze¬ cie chemicznym, jako odszraniacze szyb w samo¬ chodach, promienniki podczerwieni.Urzadzenie wedlug wynalazku posiada piec wy¬ konany z rury kwarcowej z naniesiona na nia cienka przezroczysta warstwa elektroprzewodzaca.Warstwa ta sklada sie z dwutlenku cyny SnOs domieszkowanego antymonem Sb. Hec posiada warstwe grzejna podzielona na dwie odizolowane od siebie czesci, co zapewnia uzyskanie zadanego rozkladu temperatury. W innej wersji piec sklada sie z dwóch rur o róznych srednicach usytuowa¬ nych wzgledem siebie wspólosiowo z mozliwoscia wzajemnego osiowego przemieszczania.Przedmiot wynalazku uwidoczniony jest w przy¬ kladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urzadzenie w przekroju wzdluznym, a fig. 2 druga wersje urzadzenia w przekroju wzdluznym.Urzadzenie (fig. 1) sklada sie z pieca zbudowa¬ nego z rury kwarcowej 1, na której naniesione sa dwie odizolowane od siebie warstwy grzejne 2 i 3. Warstwy grzejne 2 i 3 skladaja sie z cien¬ kich rzedu 1 mikrometra przezroczystych warstw 117 969117 969 3 elektroprzewodzacych 4, wykonanych z dwutlenku cyny SnOj domieszkowanego antymonem Sb.Warstwe te mozna traktowac jako polikrystalicz¬ ny lub bezpostaciowy material pólprzewodnikowy, o bardzo malej wartosci przerwy elektrycznej cha¬ rakteryzujacej sde przewodnoscia wlasciwa w tem¬ peraturze pokojowej rzedu 10~1—10*/om- • centy¬ metr/-1. Warstwy elektroprzewodzace 4 naniesio¬ ne sa na rure kwarcowa 1 metoda pizohydrolitycz- na i cechuja sie transmisja swiatla w obszarze widzialnym okolo 80%. Opornosc wlasciwa tych warstw mozna zmieniac w zaleznosci od potrzeb, stosujac odpowiedni proces technologiczny ich otrzymywania. Warstwy elektroprzewodzace 4 po¬ laczone sa z elektrodami 5 do podlaczenia zród¬ la pradu. Wewnatrz rury kwarcowej 1 umiesz¬ czona jest rura próznioszczelna 6 zakonczona szli¬ fem prózniowym^7, sluzacym do polaczenia z u- kladem prózniowym. W rurze próznioszczelnej 6 znajduje sie ampula 8 z materialem oczyszczo¬ nym. W drugiej wersji (fig. 2) urzadzenie sklada sie z pieca zlozonego z dwóch rur kwarcowych 1 o róznej srednicy ulozonych wspólosiowo, z moz¬ liwoscia wzajemnego osiowego przemieszczania.W rurze próznioszczelnej 6 wytwarza sie pod¬ cisnienie i jednoczesnie poddaje sie ogrzewaniu przy pomocy pieca, którego warstwy elektroprze¬ wodzace 4 podlaczone sa do zródla pradu.Wlasciwy rozklad temperatury w rurze próznio¬ szczelnej 6 wzdluz umieszczonej w niej ampuly 8 z materialem oczyszczanym, zapewnia sie przez kolejne wlaczanie warstw grzejnych 2 i 3 albo 5 przez przesuwanie wzdluz osi rur kwarcowych 1.Zastrzezenia patentowe 10 15 20 1. Urzadzenie do oczyszczania materialów, zwlaszcza metoda destylacji molekularnej, sklada¬ jace sie z pieca zawierajacego wewnatrz rure próznioszczelna, w której umieszczony jest po¬ jemnik z oczyszczonym materialem, znamienne tym, ze piec wykonany jest z rury kwarcowej (1), na która naniesiona jest przezroczysta warstwa elektroprzewodzaca (4) dwutlenku cyny SnOj do- mdeszikowanego antymonem Sb otrzymana metoda pizohydrolityczna. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze piec posiada dwie strefy grzejne (2, 3) odizo¬ lowane od siebie, nalozone na jedna rure kwar¬ cowa (1). 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze piec sklada sie z dwóch rur kwarcowych (1) o róznych srednicach ulozonych wzgledem siebie wspólosiowo, z mozliwoscia wzajemnego osiowego przemieszczania./?$£ Drukarnia Narodowa, Zaklad nr 0,. 548/82 Cena 100 zl PL

Claims (3)

  1. Zastrzezenia patentowe 10 15 20 1. Urzadzenie do oczyszczania materialów, zwlaszcza metoda destylacji molekularnej, sklada¬ jace sie z pieca zawierajacego wewnatrz rure próznioszczelna, w której umieszczony jest po¬ jemnik z oczyszczonym materialem, znamienne tym, ze piec wykonany jest z rury kwarcowej (1), na która naniesiona jest przezroczysta warstwa elektroprzewodzaca (4) dwutlenku cyny SnOj do- mdeszikowanego antymonem Sb otrzymana metoda pizohydrolityczna.
  2. 2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze piec posiada dwie strefy grzejne (2, 3) odizo¬ lowane od siebie, nalozone na jedna rure kwar¬ cowa (1).
  3. 3. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym, ze piec sklada sie z dwóch rur kwarcowych (1) o róznych srednicach ulozonych wzgledem siebie wspólosiowo, z mozliwoscia wzajemnego osiowego przemieszczania. /?$£ Drukarnia Narodowa, Zaklad nr 0,. 548/82 Cena 100 zl PL
PL21100378A 1978-11-16 1978-11-16 Apparatus for purifying materials PL117969B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21100378A PL117969B1 (en) 1978-11-16 1978-11-16 Apparatus for purifying materials

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL21100378A PL117969B1 (en) 1978-11-16 1978-11-16 Apparatus for purifying materials

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL211003A1 PL211003A1 (pl) 1980-06-16
PL117969B1 true PL117969B1 (en) 1981-09-30

Family

ID=19992604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL21100378A PL117969B1 (en) 1978-11-16 1978-11-16 Apparatus for purifying materials

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL117969B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL211003A1 (pl) 1980-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4778559A (en) Semiconductor substrate heater and reactor process and apparatus
EP0570586A1 (en) Fluid heater
US4889974A (en) Thin-film heating element
US2125912A (en) Electrical heating
US2727632A (en) Sintered porous vitreous disc with heater
JPS63260828A (ja) ガラスを融解及び精製する方法
PL117969B1 (en) Apparatus for purifying materials
US4891335A (en) Semiconductor substrate heater and reactor process and apparatus
US2894107A (en) Ignition proof heater
KR100507129B1 (ko) 무기물의 용융 또는 정제를 위한 장치
US6848275B1 (en) Method for melting or refining glasses or glass ceramics
KR101412460B1 (ko) 발열 코일의 처짐 방지 구조를 갖는 히터
JP2628519B2 (ja) 電子電熱変換材料の製造方法および電子電熱変換材料
US2178419A (en) Method and apparatus for coating vitreous tubes
US4017674A (en) Method for starting operation of a resistance melter
US4956046A (en) Semiconductor substrate treating method
KR100790788B1 (ko) 연속식 유리 용융로
US2886491A (en) Method of glass manufacture
GB2164931A (en) Electrically heated forehearth
US3527590A (en) Apparatus for melting glass
US3598955A (en) Electrical contact for moving filaments
JPS646343A (en) Manufacture of fluorescent lamp
US2585761A (en) Electric glass melting process
CN101390185B (zh) 具有x-灯加热器的真空反应腔
US1889665A (en) Electric furnace