PL109227B1 - Moistening means for galvanic processing - Google Patents

Description

Opis patentowy Patent dodatkowy do patentu nr —*— Zgloszono: 03.01.77 (P. 195084) Pierwszenstwo: Zglosizenie ogloszono: 05.12.77 Opis patentowy opublikowano: 10.03.1981 Int. a.2 C23G 5/02 //C25D 3/00 CZYTELNIA U"*cfo Petowtowego Twórcy wynalazku: Tadeusz Koduira, Anaia Zmijewska Uprawniony z patentu: Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa (Polska) Srodek zwilzajacy do obróbki galwanicznej PrzieidlmdoteirA wynalazku jesit srodek zwilzajacy do obróbki galwanicznej, zwlaszcza do (kapieli od¬ tluszczaj aoeij.W celu uzyskania (powloki /galwanicznej odpo¬ wiedniej jakosci i . przyczepnosci nalezy bardzo dokladnie oczyscic powierzchnie metalu lub sto¬ pu stanowiacego podloze. Proces przygotowania powierzchni przed nakladaniem powlok galwa¬ nicznych laklada sie z kilku ,luib kilkunastu naste¬ pujacych po sobie ioperacjl Miedzy innymi sto¬ suje sie odtluszczanie chemiczne* i elektrochemicz¬ ne. W slklaid kapieli do odtluszczania chemicznego i elektrochemicznego wchodza zwilzacze.Znane zwilzacze' stanowia na ogól emulgaptory bedace adduiktami tlenku etyllenu do alkoholi, produkty konidenisacji fcwasiów tluszczowych, e- strów badz amidów z itolernkiem etylenu lub sulfon ndany ailkiloakrylowe czy izopropylonaiftalenosiul- foniany.Zn,anie emulgatory stosowane jako zwilzacze nie spelniaja dostatecznie swego zadania, gdyz jed¬ ne odznaczaja sie wysoka pienistoscia lub inna — sa niepieniste, a przy tym niezbyt dobrze spelniaja . swoja funkcje zwilzaczy w ukladzie woda-emul- gator — cienka warstewka tlustego zanieczyszcze¬ nia — faza stala (metal).Wada zwiilzaczy o wysokiej pienistosci' jest gro¬ madzenie sie duzej ilosci wodoru w pianie ii zwia¬ zane z tym niebezpieczenstwo wybuchu a takze brak mozliwosci stosowania metody natryskowej. 10 15 29 25 Wada zwilzaczy o niskiej pdenistosci jest rozpry¬ skiwanie kapieli oraz niewystarczajaco doibtre zwilzanie w przypadku bardzo icienkdch warstewek tlustych zanieczyszczen na powierzchni nietalu.Celem wynalazku jest opracowanie srodka zwil¬ zajacego do obróbki galwanicznej powodujacego optymalna pienisitosc kapieli, charakteryzujaca sie 1—3 cm warstwa piany, a jednoczesnie; wystarcza¬ jaco dobrze zwilzajacego wszystkie elementy me¬ talowe poddawane obróbce galwanicznej, niezalez¬ nie od grubosci warstewki 'tlustych zanieczyszczen powstajacych na ich powierzchni.Zadaniem wynalaziku jest opracowanie skladu ilosciowego i jakosciowego srodka zwilzajacego po- wiodujacego optymalna pienisitosc kapieli a jed¬ noczesnie wystarczajaco dobrze zwilzajacego wszy¬ stko metalowe eilementy poddawane obróbce gal¬ wanicznej, szczególnie te o powierzchni zanieczysz¬ czonej bardzo cienka Wiarsitewka tlustych zanie¬ czyszczen.Srodek zwilzajacy wedlug wynalazku opracowa¬ no na bazie adduiktu tlenku etylenu do alkoho¬ lu.Istota rozwiazania wedlug wynalazku jest .sro¬ dek zwilzajacy do obróbki galwanicznej, zwlasz¬ cza do kapieli odtluszczajacej zawierajacy 10— 30% wagowych zwiazku o 18—26 atomach C w czasteczce i bedacego siarczanem sodowym ad- duktu tlenku etylenu do alkoholu alifatycznego oraz 70—90% wagowych zwiazku o 14^-28 aito- 109 227M s lód 22f Mach C w czasteczce i oedajcego addiuilcteim tlen¬ ku etylenu do glikolu.Nieoczekiwanie okazalo sie, ze srodek wedlug wynalazku charakteryzuje sie najbardziej poza¬ dana optymalna pienistoscia a takze powoduje bardzo dobre zwilzanie wszystkich elementów me¬ talowych poddawanych obróbce galwanicznej, w tym równiez elementów o bardzo cienkiej war¬ stewce tlustych zanieczyszczen na powierzchni.Optymalna warstwa (piany ma grubosc 1—3 cm i nie powoduje zagrozenia wybuchem, zapobiega rozpryskiwaniu kapieli a ponadto gromadzi i u- trzymuje powodujac wtórnego zanieczyszczenia kapieli.Przyklad. Srodek wedlug wynalazku o skla¬ dzie 25°/o soli sodowej siarczanu oksyetylowanego alkoholu laurylowego (o 20 atomach C w lancu¬ chu) i 75% adduiktu tlenku etylenu do glikolu po¬ lietylenowego o nazwie handlowej Polikol 400 (o 22 atomach C w lancuchu) zastosowano jako do¬ datek w ilosci 4 ,g/l do alkalicznej kapieli o skla¬ dzie NaOH — 22,5 g/l, Na2Si03.5H20 — 10 g/l, Na^Os — 9,5 g/l, Na5P04.12H20 — 1 g/l i Na4P2C7 — 1,12 g/l. Kapiel istosowano w galwa- 10 15 20 nicznym procesie miedziowania, niklowainda i chro¬ mowania detali ^stalowych. Najpiecie powierzchnio¬ we tak przygotowanej kapieli oznaczone za pomo¬ ca itensjometru Guastalla w temiperaituirze 25±2°C wynosi 35 dyn/cm, zdolnosc pianotwórcza 80 mm, wskaznik trwalosci piany oznaczony wedlug nor¬ my PN-74/C-04801 w temperaturze 95° — 7,5°/* Kapiel charakteryzowala sie warstwa piany gru¬ bosci ok. 2 cm oraz zdolnoscia zwilzania po¬ wierzchni metalowych o najcienszych wairstwach tlustych zanieczyszczen. W warstwie piany groma¬ dzila sie znaczna ilosc zanieczyszczen. PL

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Srodek zwilzajacy do obróbki galwanicznej, zwlaszcza do kapieli odtluszczajacej, wytworzony na bazie adduktu tlenku etylenu do alkoholu, znamienny tym, ze zawiera 10—30°/© wagowych zwiazku o 18—26 atoniach C w czasteczce i beda¬ cego siarczanem sodowym adduiktu tlenku etylenu do alkoholu alifatycznego oraz 70—90% wagowych zwiazku o 14—28 atomach C w czasteczce, stano¬ wiacego addukt tlenku etylenu dó glikolu. £N-3, z. 702/86 Cena 45 zl PL