Przedmiotem wynalazku jest uklad optyczny majacy zastosowanie zwlaszcza w aparatach fotograficznych, powiekszalnikach, przegladarkach diapozytywów.Znane sa powiekszalniki, w których otrzymuje sie sku¬ pienie swiatla badz przez zastosowanie kondensora so- 5 czewkowego, badz przez odpowiednie przystosowanie odblysników.Jednakze uklady do skupiania swiatla stosujace soczewki sa uciazliwe w obsludze z uwagi na wystepujace aberacje, sa takze ciezkie i podatne na uszkodzenia. Ponadto wyma- „ 10 gaja zastosowania dodatkowych mechanizmów sterowania, które sa stosunkowo skomplikowane. Tak samo w zna¬ nych urzadzeniach tego typu, operator musi zmieniac' kondensor do skupiania swiatla wówczas, gdy zmienia format filmu wyswietlanego lub zastosowac kondensory J5 soczewkowe ze zmienna ogniskowa.Glówna wada ukladów z odblysnikiem jest to, ze sku¬ piaja one promienie swiatla zawsze w tej samej odleglosci.Celem wynalazku jest unikniecie niedogodnosci znanych rozwiazan. Cel ten osiagnieto przez zaopatrzenie ukladu, 20 zawierajacego plytke pólprzepuszczalna czesciowo odbija¬ jaca promienie swietlne, usytuowana skosnie w stosunku do padajacej na nia wiazki swietlnej, w plaski element od- bijajacy promienie swietlne i samokolimacyjny, umiesz¬ czony na wprost punktu lub powierzchni, na której na- 7 25 stepuje skupienie swiatla, lub dodatkowo w plaski element odbijajacy promienie swietlne, umieszczony na wprost punktu lub powierzchni wysylajacej swiatlo.Plytka czesciowo odbijajaca a czesciowo przepuszcza¬ jaca promienie swietlne usytuowana jest pod katem 35—55 ° 30 w stosunku do osi wiazki swietlnej. Odleglosc miedzy punktem skupiania promieni swietlnych a srodkiem plytki pólprzepuszczalnej3 jest równa odleglosci miedzy srodkiem plytki pólprzepuszczalnej a punktem wysylania swiatla lub srodkiem powierzchni wysylajacej swiatlo.Uklad wedlug wynalazku moze byc zastosowany glównie w dziedzinie fotografii, reprografii lub fotokopii, kina lub telewizji. Korzystnie, znajduje on zastosowanie zwlaszcza w aparatach fotograficznych, powiekszalnikach, przegla¬ darkach diapozytywów. W tych przypadkach jego spraw¬ nosc jest znacznie wyzsza od znanych ukladów.Uklad wedlug wynalazku jest szczególnie uzyteczny w dziedzinie fotokopii lub reprografii, zapewniajac maksy¬ malne skupienie swiatla na powierzchni, na której ma byc reprodukowany obraz.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przykladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia uklad wedlug wynalazku zastosowany w aparacie fotograficznym, w przekroju pionowym, fig. 2 — uklad wedlug wynalazku zastosowany w powiekszalniku fotograficznym, w prze¬ kroju pionowym, fig. 3 — uklad zastosowany w przegla¬ darce diapozytywów, w przekroju pionowym, fig. 4 — drugi przyklad zastosowania ukladu w aparacie fotogra¬ ficznym, w przekroju pionowym, fig. 5 — trzeci przyklad zastosowania ukladu w aparacie fotograficznym, w prze¬ kroju pionowym.Obudowa 1 (fig. 1) aparatu fotograficznego zawiera na przodzie obiektyw fotograficzny 2, scianke tylna 3, na której podczas uzytkowania aparatu, umieszcza sie ma¬ terial swiatloczuly na przyklad film fotograficzny. Obudowa 108 728108 728 3 1 zawiera w górnej czesci, otwór 4, w którym jest umiesz¬ czona soczewka okularu 5.Zastosowanie urzadzenia wedlug wynalazku jest prze¬ znaczone do przeniesienia w kierunku tego okularu obrazu otrzymanego poprzez obiektyw, skupiajac dostatecznie swiatlo w punkcie 7 ogniskowej soczewki okularu 5.Na drodze wiazki swietlnej przechodzacej przez obiek¬ tyw 2 umieszczona jest pólprzepuszczalna plytka 9 czescio¬ wo odbijajaca promienie swietlne. Taplytka 9 jest umiesz¬ czona ukosnie w stosunku do osi X — X' wiazki swietlnej, a jej nachylenie jest takie, ze zwierciadlo moze przesylac rrymiVtS dwiatfa nkftdkytafcoTiy w kierunku przeciwnym do]rj4r{)p$iJ73w ^tó£g} lwiatlo musi byc skupione. Plytka 9 test umieszczona na wprost obiektywu 2 pod katem a doJ osi X — X' wynoszacym 35—55°, a korzystnie 45°.N4 w^st^kulaagu^^^tlnizej wiazki swiatla wychodzacej z JfciiektywjL2jamica/O^ny jest plaski element odbijajacy samokolimacyjny 10, zawierajacy pewna liczbe bardzo malych kulek szkla przyklejonych do odpowiedniego wspornika, lub stanowi go odpowiednio obrabiana powierz¬ chnia wewnetrzna dolnej scianki obudowy 1. Opisane urzadzenie dziala nastepujaco: Rozwazono promienie swietlne 11, 12 i 13 wysylane z punktu 8 obiektywu 2 i stwierdzono, ze plytka 9 umozliwia przejscie czesci tego swiatla, w postaci promieni swietlnych Ha, 12a i 13a, które trafiaja nastepnie w plaszczyzne ogniskowa 3, na której znajduje sie powierzchnia fotoczula. Tymczasem inna czesc swiatla jest odbijana pod postacia promieni llb, 12b i 13b w kierunku odbijajacej powierzchni samo- kolimacyjnej elementu 10, przy czym te promienie sa odbijane w przeciwnym kierunku, to jest w kierunku plytki 9. Zatem, czesc swiatla przechodzi przez te plytke i jest skierowana dalej w postaci promieni lic, 12c i 13c, do okularu 5.Inna czesc promieni swietlnych odbitych od elementu 10 jest skierowana do obiektywu, gdzie jest tracona. Nie mniej jednak, uklad wedlug wynalazku moze skupiac do¬ stateczna ilosc swiatla w punkcie 7 okularu i operator moze widziec jasno obraz utworzony na matowej powie¬ rzchni odbijajacej i samokolimacyjnej elementu 10, przy czym ten obraz jest dokladnie taki sam jak obraz otrzyma¬ ny na plaszczyznie ogniskowej 3 aparatu fotograficznego.Odleglosc miedzy punktem 7, w którym swiatlo jest skupio¬ ne i srodkiem 0 plytki 9, jest równa odleglosci miedzy tym punktem 0 plytki i punktem 8 obiektywu, z którego sa wysylane promienie swietlne.Korzystne jest zastosowanie w ukladzie ekranów 14, 15 i 16, w celu zabezpieczenia powierzchni fotoczulej 3 przed dzialaniem bladzacych promieni swietlnych a ponadto nalezy umiescic przeslone przed powierzchnia 3. Mozna równiez ja umiescic przed powierzchnia okularu 5. .Uklad optyczny wykonany zgodnie z wynalazkiem jest bardziej sprawny niz znany uklad tego typu, a ponadto wytwarzanie jego jest oszczedniejsze niz wytwarzanie znanych celowników lustrzanych.Na fig. 2 przedstawiono schematycznie szczególowy przyklad wykonania powiekszalnika fotograficznego, w któ¬ rym zastosowano uklad optyczny wedlug wynalazku eli¬ minujacy stosowanie soczewek lub odblysnika skupiaja¬ cego, które sa stosowane w powiekszalnikach znanego typu.W rozwiazaniu tym obiektyw 17 powiekszalnika stanowi punkt, w którym swiatlo musi byc skupione. Punkt ten jest usytuowany ponizej wiazki swietlnej wysylanej przez punkt 18.W czesci górnej, powiekszalnik ma obudowe la, w której 4 umieszczona jest czesciowo przepuszczajaca promienie swietlne a czesciowo je odbijajaca plytka 9a usytuowana ukosnie w stosunku do osi X — X' tak, aby odbic czesc promieni swietlnych w kierunku przeciwnym w stosunku 5 do punktu lub srodka skupienia obiektywu 17. Plytka 9a tworzy z osia X — X' kat a zawarty w granicach od 35 do 55 °, korzystnie 45 °.Powierzchnia wewnetrzna obudowy la, która znajduje sie na stronie, w kierunku której promienie swietlne sa odbijane przez plytke 9a, zawiera plaski element odbijaja¬ cy i samokolimacyjny lOa, jak równiez drugi element odbijajacy i samokolimacyjny 19a, usytuowany w przy¬ blizeniu na wprost punktu 18 wysylajacego swiatlo, oraz plytke 9a, przy czym-element ten jest utworzony na po¬ wierzchni wewnetrznej drugiej scianki obudowy la.Elementy odbijajace lOa i 19a tworza miedzy soba kat 3, przy czym w plaszczyznie dwusiecznej tego kata, umieszczona jest plytka 9a. Kat P ma wielkosc 50°, ale moze on miec równiez inne wartosci, np. 90° podczas gdy plytka 9a moze tworzyc katy niekoniecznie równe, w stosunku do powierzchni odbijajacych dwóch elementów lOa i 19a.Powiekszalnik opisany powyzej dziala nastepujaco: Rozwazajac trzy promienie swietlne 27, 28 i 29 wy¬ sylane z punktu 18 zródla swiatla, stwierdzono, ze ude- 65 rzaja one o plytke 9a wówczas, gdy jedna czesc swiatla 15 Obiektyw projekcyjny jest umieszczony na ruchomym wsporniku 20, z mozliwoscia regulacji w kierunku piono¬ wym. Wspornik jest polaczony za posrednictwem mieszka 21 z drugim wspornikiem 22, w celu podtrzymania nega¬ tywu lub pozytywu fotograficznego przeznaczonego do reprodukcji. 30 Zródlo swiatla 18 jest umieszczone na ruchomym wspor¬ niku 23 umozliwiajacym jego regulacje w kierunku pozio¬ mym wzdluz osi X — X'. Ten wspornik 23 jest równiez polaczony z odpowiednim otworem obudowy za posred¬ nictwem mieszka 21 uszczelniajacego przed doplywem 35 swiatla- W celu zapewnienia maksymalnej sprawnosci, odleg¬ losc miedzy punktem 18 wysylajacym swiatlo i srodkiem 0 powierzchni plytki 9a, jest korzystnie równa odleglosci miedzy srodkiem 0 i srodkiem skupiania swiatla, to jest 40 srodkiem obiektywu projekcyjnego 17.Skupienie swiatla dokonuje sie w punkcie 17 jesli swiatlo jest wysylane z punktu 18. Ponadto skupienie nastapi w punkcie 17a, jesli wysylanie swiatla ma miejsce z punktu 18a, lub w punkcie 17b jesli wysylanie swiatla ma miejsce 45 z punktu 18b, i tak dalej. Jesli przemieszcza sie punkty 18 i 17 wzdluz odpowiednich osi tak, aby pozostaly stale równe odleglosci od punktu 0, zawsze bedzie mialo miejsce maksymalne skupienie swiatla przechodzacego z punktu 18 do punktu 17. 50 Ruchome wsporniki 20 i 23 odpowiedniego obiektywu i zródla swiatla sa polaczone miedzy soba przez odpowiedni mechanizm umozliwiajacy przemieszczanie jednoczesne tych dwóch wsporników, na te sama odleglosc, i w odpo¬ wiednim kierunku. Mozna równiez zastosowac regulowa- 55 nie reczne.Mechanizm sprzegajacy zawiera kolo stozkowe 24 za¬ zebione z dwoma kolami 25 i 28 polaczonymi jedno ze wspornikiem 20 a drugie ze wspornikiem 23. Jednakze, mozna równiez zastosowac inny odpowiedni mechanizm, w celu otrzymania tego samego skutku.108 728 5 przebiega wzdluz toru normalnego w kierunku powierzchni odbijajacej elementu 19a w postaci promieni 28a i 29a.Inna czesc swiatla jest odbijana przez powierzchnie plytki 9a w kierunku powierzchni odbijajacej drugiego elementu lOa, w postaci promieni 28b i 29b.W obu przypadkach, powierzchnie odbijajace i samo- kolimacyjne elementów lOa i 19b przesylaja promienie, które one otrzymaly, w kierunku przeciwnym do tego, który te promienie mialy przed uderzeniem o te powierz¬ chnie. Promienie tak odbite przez powierzchnie elementu 19a uderzaja ponownie o powierzchnie plytki 9a i sa wów¬ czas czesciowo odbite przez te plytke w kierunku punktu 17a, w którym one sa skupione w postaci promieni 27c, 28c i 29c.Natomiast inna czesc swiatla biegnie wzdluz dotych¬ czasowego toru, aby powrócic do punktu 18.Inna czesc promieni swietlnych uderzajacych o po¬ wierzchnie plytki 9a, jest przesylana w kierunku punktu 18. Ten sam wynik jest otrzymany wówczas, gdy odsunie sie obiektyw projekcyjny 17 wzdluz osi pionowej, w celu zmiany stowaaku powiekszenia i/albo zmiany jego poloze¬ nia. W tym przypadku zródlo swiatla 18 przemieszcza sie jednoczesnie z obiektywem 17 tak, ze odleglosc miedzy punktem 18 i punktem 0 jest zawsze taka sama jak odleg¬ losc miedzy punktem 0 i srodkiem obiektywu projekcyjnego 17.Zródlo swiatla umieszczone w tym powiekszalniku moze byc zródlem o malej srednicy umieszczonym doklad¬ nie w punkcie 18. Jednakze srednica tego punktu nie powinna byc wieksza od srednicy otworu stosowanego obiektywu. Za tym zródlem mozna umiescic wklesly re¬ flektor 30 lub mala powierzchnie odbijajaca i samokoli- macyjna 41. Przed tym zródlem swiatla mozna umiescic cale zadane wyposazenie takie jak filtry, oprawy rozpra¬ szajace, szkla izolujace cieplnie czy tez przyslony.W praktycznym zastosowaniu wynalazku takim jak poka¬ zano na fig. 2 mozna stosowac tylko jeden element odbija¬ jacy i samokolimacyjny lOa lub 19a, zamiast dwóch.Jednakze otrzymuje sie sprawnosc swietlna maksymalna, jesli stosuje sie dwa elementy odbijajace tego typu.W przedmiotowym rozwiazaniu mozna takze zastosowac filtry barw umieszczone przed powierzchniami odbijaja¬ cymi elementów lOa i 19a. Srednica skupionego swiatla w punktach 17, 17a lub 17b jest funkcja jakosci powierz¬ chni elementów lOa, 19a, jakosci optycznej powierzchni szkla, z którego wykonana jest plytka 9a, a takze srednicy zródla swiatla, ale srednica ta jest niezalezna od odleglosci miedzy punktami 18 i 0, oraz 17 i 0, jesli te odleglosci sa wzajemnie równe.Najlepsza mozliwa sprawnosc wynoszaca okolo 50% uzyskuje sie stosujac szklo na plytke 9, majace przezroczy¬ stosc 50% i moc odbijania 50%. Jednakze wyniki zado¬ walajace mozna równiez otrzymac przez zastosowanie zwyklej plytki szkla, lub kazdej innej powierzchni przez¬ roczystej majacej moc odbijania okolo 5—10%.Mozna równiez stosowac powierzchnie odbijajace utwo¬ rzone z cienkiej warstwy tworzywa sztucznego, przykle¬ jonej do plytki przezroczystego szkla lub do plytki z prze¬ zroczystego tworzywa sztucznego. Alternatywnie, ta po¬ wierzchnia moze byc utworzona przez przezroczyste zwier¬ ciadlo blonkowe takie jak film.Obiektyw projekcyjny 17 moze byc uszczelniony az do zadanego stopnia, zwazywszy jednak, ze zródlo swiatla nie jest w kazdym przypadku widoczne z tego miejsca, 6 ryzyko oswietlenia obrazu ze zródla swiatla, jest calkowicie wyeliminowane.Mozna takze wykonac powiekszalnik fotograficzny o prostszej budowie niz przedstawiona na fig. 2. W tym 5 przypadku montuje sie obiektyw projekcyjny 17 i zródlo swiatla 18 na stalych wspornikach i aby ustawic ostrosc filmu, zmienia sie odleglosc miedzy wspornikiem 22 i obiek¬ tywem 17.Na fig. 3 przedstawiono inny szczególowy przyklad io wykonania urzadzenia optycznego z zastosowaniem ukladu wedlug wynalazku. W tym przypadku, urzadzenie stanowi przegladarke diapozytywów fotograficznych. Obudowa Ib tej przegladarki zawiera w czesci dolnej komore 32 zawie¬ rajaca mala zarówke elektryczna 33 i baterie 34. Wlókno 15 35 zarówki 33 stanowi w tym przypadku punkt wysylania swiatla.W obudowie Ib umieszczona jest plytka 9b czesciowo przepuszczajaca, a czesciowo pochlaniajaca promienie swietlne, ustawiona ukosnie w stosunku do osi X — X' 20 zródla swiatla, pod katem a równym 45° tak, ze odbite promienie swietlne przez zwierciadlo, sa kierowane w kie¬ runku przeciwnym do punktu skupienia swiatla. W tym przykladzie punkt skupienia znajduje sie w srodku 36 soczewki okularu 37. Elementy odbijajace i samokolima- 25 cyjne lOb i 19b umieszczone sa odpowiednio z jednej i drugiej strony plytki 9b znajdujacej sie w plaszczyznie srodkowej kata 3 utworzonego przez elementy lOb, 19b.Zasada dzialania przegladarki jest praktycznie identycz¬ na do zasady dzialania powiekszalnika przedstawionego 30 na fig. 2. Ta przegladarka jest szczególnie korzystna z tego powodu, ze promienie swietlne sa skupione w srodku optycznym soczewki obserwacyjnej okularu 37.W przegladarce wedlug wynalazku, miedzy plytka 9b pólprzepuszczalna, czesciowo odbijajaca promienie swietlne 35 a punktem 36 umieszczony jest wspornik diapozytywu 31.W przegladarce, przed zródlem swiatla, umieszczony jest ekran lub filtr 39, a zi zródlem swiatla odblysnik 40.Ten odblysnik mozna zasra-pic malym elementem o po¬ wierzchni odbijajacej lub samokolimacyjnej 41, umiesz- 40 czonym za lampa 33.Dzieki takiemu rozwiazaniu, przegladarka zapewnia zadowalajaca jasnosc diapozytywów stosujac jedna lampe o niewielkiej mocy i ogniwo o niskim napieciu.Na fig. 4 przedstawiono urzadzenie optyczne z ukladem 45 wedlug wynalazku, stanowiace aparat fotograficzny prze¬ znaczony do reprodukq'i obrazu.Aparat jest przystosowany do reprodukowania obrazu 42 utworzonego na telewizyjnej lampie kineskopowej 43.Urzadzenie to mogloby byc takze zastosowane do reprodu- 50 kowania innych obrazów na przyklad dokumentów umiesz¬ czanych w plaszczyznie lampy i w tym przypadku otrzy- manoby urzadzenie do reprografii.Przed reprodukowanym obrazem 42, urzadzenie zawiera plytke 9c czesciowo przepuszczajaca a czesciowo odbijaja- 55 ca promienie swietlne, umieszczona ukosnie w stosunku do osi X — X' wiazki swietlnej wysylanej przez reprodukowany obraz, który jest oswietlony przez dwa zródla swiatla 44 umieszczone z obydwu stron obrazu. Plytka 9c usytuowana jest pod katem 45° w stosunku do osi X — X'. Elementy 60 lOc i 19c z powierzchniami odbijajacymi i samokolimacyj- nymi sa rozmieszczone z obydwu stron plytki 9c. Elementy te tworza miedzy soba kat P, a plytka 9c jest umieszczona w plaszczyznie srodkowej tego kata.Odleglosc miedzy srodkiem powierzchni 45 i punktem 65 0 plytki 9c jest równa odleglosci miedzy punktem 0 i sród-108 728 7 kiem obrazu 42. Powierzchnia skupiania 45 stanowi takze powierzchnie do reprodukcji obrazu. W tym celu umiesz¬ cza sie na niej wspornik lub rame, w celu otrzymania powierzchni fotoczulej. Korzystnie, wspornik jest ruchomy wzdluz osi Y — Y', w celu dokladnego ustawienia ostrosci, mozna dokonac tego za pomoca mechanizmu 48 przedstawionego na fig. 4.Mieszek 47 stanowi srodek uszczelniajacy, w celu polacze¬ nia tego wspornika za pomoca oslony 48 z obudowa lc tego urzadzenia. Element 19c zaopatrzony jest w relownik 50.Zamiast reprodukowania obrazu utworzonego na lam¬ pie 43 mozna reprodukowac na przyklad, obraz diapozy¬ tywowy oswietlajac go od tylu. Jest takze mozliwe zasto¬ sowanie tego urzadzenia do reprodukowania róznych doku¬ mentów niezaleznie od tego czy obraz oswietla sie za pomoca zródla swiatla 44. W tym przypadku, urzadzenie moze stanowic aparat fotokopiujacy, wyjatkowo prosty i sprawny.Oczywiscie, jakosc obrazu tak otrzymanego, zmienia sie zaleznie od jakosci powierzchni pólprzezroczystej i pól- odbijajacej plytki 9c, a takze od tego czy stosuje sie jedna lub dwie powierzchnie odbijajace samokolimacyjne. Ja¬ kosc obrazu zalezy ponadto od technologii wytwarzania elementów samokolimacyjnych.Sprawnosc urzadzenia wedlug wynalazku jest znacznie wyzsza od sprawnosci znanych aparatów do reprodukcji, które zawieraja znany obiektyw i sa stosowane do repro¬ dukcji dokumentów. Podobnie koszt urzadzenia wedlug wynalazku jest znacznie nizszy od kosztu znanych aparatów.Dzieki rozwiazaniu wedlug wynalazku, jest mozliwe wykonanie aparatu do reprodukcji dokumentów o róznych wymiarach zmieniajac wymiary plytki 9c.Na fig. 5 przedstawiono inny przyklad wykonania apa¬ ratu z ukladem, wedlug wynalazku. Rozmieszczenie ogólne elementów tworzacych to urzadzenie jest takie sam* jak w przykladzie poprzednim. Urzadzenie zaopatrzona jest w zwierciadlo 49 umieszczone miedzy plytka 9c i powierz¬ chnia reprodukcyjna 45d9 która jest unieszczoia w plasz¬ czyznie równoleglej do plaszczyzny obrazu 42. Zwierciadlo 49 nachylone jest pod katem 45° wzgladem powierzchni reprodukcyjnej 45d. Urzadzenie to moze byc stosowane jako aparat do fotokopiowanh, w celu reprodukowania dokumentów, jak równiez jako aparat do reprodukowania obrazu utworzonego na ekranie lampy kineskopowej lub przezroczystego obrazu oswietlonego od tylu. 8 W szczególowym zastosowaniu, urzadzenie stanowi nowy typ aparatu fotograficznego bez niedogodnosci charakteryzujacych znane aparaty.Uklad optyczny wedlug wynalazku moze miec zasto- 5 sowania równiez w wielu innych dziedzinach przez laczenie z róznymi roizijimi apiratów z odpowiednim wyposaze¬ niem.Zastrzezenia patentowe 10 1. Uklad optyczny majajcy zastosowanie zwlaszcza w aparatach fotograficznych, powiekszalnikach, przegladar¬ kach diapozytywów, zawierajacy plytke pólprzepuszczalna, czesciowo odbijajaca promienie swietlne, usytuowana skos¬ nie w stosunku do padajacej na nia wiazki swietlnej, zna- 15 mienny tym, ze zawiera odbijajacy promienie swietlne i samokolimacyjny plaski element umieszczony na wprost punktu lub powierzchni skupiania swiatla, lub dodatkowo plaski element odbijajacy promienie swietlne, umieszczony na wprost punktu lub powierzchni wysylajacej swiatlo. 20 2. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze odleglosc miedzy punktem skupiania promieni swietlnych lub srod¬ kiem powierzchni skupiajacej a srodkiem plytki pólprze- puszczalnej, czesciowo odbijajacej promienie swietlne, jest równa odleglosci miedzy srodkiem plytki pólprzepuszczal- 25 nej a punktem wysylania swiatla lub srodkiem powierzchni wysylajacej swiatlo. 3. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze elementy odbijajace promienie swietlne i samokolimacyjne umiesz¬ czone sa z dwóch stron pólprzepuszczalnej plytki czesciowo 39 odbijajacej promienie swietlne, która jest usytuowana pod katem 35—55° w stosunku do osi X—X wiazki swiatla. 4. Uklad wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze w przy¬ padku zastosowania ukladu w powiekszalniku, punkt sku¬ pienia stanowi obiektyw projekcyjny (17), polaczony miesz- 35 kiem ze wspornikiem (22). 5. Uklid wedlag zistrz. 4, znamienny tym, ze obiektyw projekcyjny (17) jest umocowany na ruchomym wsporniku (20), który jest polaczony ze wspornikiem (23) zródla swiatla. 40 6. Uklad wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze w przy¬ padku zastosDwania ukladu w przegladarce diapozytywów, wspornik do umieszczenia w nin diapozytywu (31) umiesz¬ czony jest miedzy plytka pólprzepaszczilna czesciowo od¬ bijajaca promienie swietlne (9b), a punktem skupiania 45 swiatla (36).108 728 Ticr.l108 728 Tia4 44 ,r LZG Z-d 3, z. 310/1400/81, n. 105 + 20 egz. f. A4 Cena 45 zl PL