PL108704B1 - Method of measuring lustre and device for measuring lustre - Google Patents

Method of measuring lustre and device for measuring lustre Download PDF

Info

Publication number
PL108704B1
PL108704B1 PL19435876A PL19435876A PL108704B1 PL 108704 B1 PL108704 B1 PL 108704B1 PL 19435876 A PL19435876 A PL 19435876A PL 19435876 A PL19435876 A PL 19435876A PL 108704 B1 PL108704 B1 PL 108704B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
measuring
light sources
angle
light
gloss
Prior art date
Application number
PL19435876A
Other languages
English (en)
Other versions
PL194358A1 (pl
Inventor
Boleslaw Kortylewski
Oswald Paprzycki
Alina Staniszewska
Jan Staniszewski
Original Assignee
Akad Rolnicza
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akad Rolnicza filed Critical Akad Rolnicza
Priority to PL19435876A priority Critical patent/PL108704B1/pl
Publication of PL194358A1 publication Critical patent/PL194358A1/pl
Publication of PL108704B1 publication Critical patent/PL108704B1/pl

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest -sposób pomiaru polysku zwlaszcza powierzchni lakiero¬ wanych. Przedmiotem wynalazku jest takze przyrzad do pomiaru polysku takich powierzchni.Dotychczasowy stan techniki. Znane dotychczas 5 sposoby pomiaru polysku powierzchni lakierowanych mozna podzielic na dwie zasadnicze grupy, metod obiek¬ tywnych i metod subiektywnych. Do grupy metod obiek- . tywnych zalicza sie wszystkie sposoby pomiaru polysku na drodze fotoelektrycznej. Sposób ten realizowany jest 10 na przyklad w polyskomierzu Langego zawierajacym fotoelement, który dokonuje pomiaru intensywnosci swia¬ tla odbitego pod katem 45° od badanej powierzchni i od polerowanej plyty ze szkla czarnego lub mlecznego. Stwier¬ dzono jednak, ze wyniki pomiarów polysku uzyskane tym 15 sposobem nie daja najlepszych rezultatów w zastosowa¬ niu do przedmiotów uzytkowych. Oko ludzkie odbiera bowiem subiektywnie jakosc powierzchni lakierowanych, przy czym ta subiektywna ocena nie jest tozsama z wy¬ nikiem dokonanego pomiaru, w którym mierzy sie je¬ dynie zdolnosc odbicia swiatla.Do grupy znanych metod pomiarowych polegajacych na subiektywnych ocenach jakosci powlok mozna zali¬ czyc na przyklad metode wzorców, a takze metode skal kontrastowych, w tym metode podwójnych linii oraz podwójnych klinów.Metoda wzorców jest bardzo przydatna w praktyce przemyslowej, ale posiada te niedogodnosc, ze wymaga okresowej wymiany wzorców w wyniku ich starzenia sie.Pozostale sposoby pomiaru polysku, gdzie jako znaki 30 20 25 testowe stosowane sa cyfry, litery lub proste figury geo¬ metryczne o stopniowanych wielkosciach, pozwalaja oce¬ niac po czesci bezwiednie — ostrosc odbicia lustrzane¬ go. Jednak wielkosc stopniowania przyjetych znaków tes¬ towych okreslana jest w rózny sposób i dosc dowolnie, co wplywa niekorzystnie na dokladnosc pomiaru.Ponadto stosowanie cyfr, liter i róznych figur w me¬ todach zwierciadlanych stwarza te niedogodnosc, ze w czasie rozpoznawania obrazu na badanej powloce, obser¬ wator czesto odgaduje dana wielkosc, poniewaz jest ona slabo widoczna. Wszystko to sprawia, ze powtarzalnosc wyników oraz klasyfikacja liczbowa polysku u róznych obserwatorów przy zastosowaniu opisanych wyzej metod jest rózna i moze prowadzic do blednych ocen.W metodzie podwójnych linii oraz podwójnych kli¬ nów, gdzie odstep miedzy liniami jest równy grubosci linii, równiez stosuje sie stopniowanie grubosci linii. Gru¬ bosc linii moze byc stopniowana np. wg szeregu Renarda R 10 lub R 20 o róznych ilorazach ciagu, które dobiera sie w zaleznosci od wykonczenia powierzchni lakierowanej.Stanowi to równiez pewna niedogodnosc w eksploatacji przyrzadu, a skokowa zmiana grubosci i odstepu linii uniemozliwia znalezienie wartosci posrednich i stworze¬ nia pelniejszej i dokladniejszej klasyfikacji liczbowej po¬ lysku.Dotychczas nie udalo sie subiektywnych metod oceny jakosci powierzchni lakierowanych zastapic w pelni me¬ toda obiektywnego pomiaru polysku. Rózne wlasnosci wykonczonej powierzchni musza byc bowiem oceniane wspólnie i po czesci (jak w przypadku elementów me- 108 704108 704 blowych) nalezy uwzglednic równiez aspekty czysto este¬ tyczne. Stad metody subiektywne musza skutecznie uzu¬ pelniac metody obiektywne, tak zeby ogólna ocena ja¬ kosci wykonczenia powierzchni nie byla sprzeczna z oce¬ na wizualna uzytkownika.Istota wynalazku oraz jego skutki techniczne.W sposobie pomiaru polysku powierzchni lakierowanych wedlug wynalazku co najmniej dwa liniowe zródla swia¬ tla przesuwa sie równolegle wzgledem siebie az do poja¬ wienia sie na badanej powierzchni granicy cienia roz¬ dzielajacego odbite strumienie swietlne. W tym momencie zatrzymuje sie ruch zródel swiatla a powstale miedzy nimi a odleglosci miCfzyi sie znanymi urzadzeniami. Wielkosci odleglosci 'stantfwia podstawe klasyfikacji liczbowej po¬ lysku. Im gorsza} jakosc wykonczenia powierzchni lakie- -o^ewanej^tygL wpisze rozproszenie swiatla a tym samym " "wieksza- odleglosc miedzy zródlami swiatla w momencie powstawania^ granicy cienia.W przyrzadzie do pomiaru polysku powierzchni la¬ kierowanych co najmniej dwa zródla swiatla umieszczone sa w zamknietej obudowie, równolegle wzgledem siebie i pod katem do podstawy przyrzadu przy czym przy¬ najmniej jedno zródlo swiatla jest przesuwne i jest po¬ laczone ze znanym urzadzeniem do mierzenia odleglosci.Korzystnie jest, gdy zródla swiatla umocowane sa na plycie z otworem, umieszczonej w obudowie i usytuo¬ wanej" pod katem do podstawy. W takiej sytuaqi przy¬ najmniej jedno ze zródel swiatla zamocowane jest na przesuwnym suporcie, z którym polaczone jest obrotowo urzadzenie mierzace odleglosc miedzy zródlami swiatla.W przedniej scianie przyrzadu umieszczony jest okular z ukladem optycznym o osi ustawionej do podstawy przy¬ rzadu pod katem odpowiadajacym katowi padania swia¬ tla. W podstawie przyrzadu, w czesci pola widzenia oku¬ laru, umieszczona jest wzorcowa plytka a za nia, w plasz¬ czyznie stanowiacej przedluzenie plytki usytuowany jest otwór, przez który strumien swiatla pada na badana po¬ wierzchnie.Najdokladniejsze wyniki pomiaru uzyskuje sie, gdy zródla swiatla maja rozklad widmowy zblizony do roz¬ kladu widmowego swiatla dziennego. Powstaja wtedy bowiem warunki oceny zblizone do warunków rzeczy¬ wistych, w których oko ludzkie najprecyzyjniej rozróz¬ nia szczególy obrazu odbitego od powloki z uwzgled¬ nieniem walorów barwy powierzchni. Usytuowanie w jednym polu widzenia badanej powierzchni i plyty wzor¬ cowej umozliwia bezposrednie porównanie odbitych obrazów na wzorcu i na badanej powierzchni. Staly kie¬ runek obserwacji i zawsze ta sama odleglosc obserwa¬ tora od obrazu wplywaja korzystnie na powtarzalnosc wyników.Sposób pomiaru polysku wedlug wynalazku pozwala rozpoznawac granice cienia w sposób ciagly i umozliwia ocene polysku w szerokim zakresie liczbowym. Przyrzad natomiast umozliwia prowadzenie pomiarów na duzym odcinku badanej powierzchni, co pozwala wychwycic i wyrazic liczbowo wplyw róznych czynników i efek¬ tów powierzchniowych na jakosc wykonczenia powierz¬ chni lakierowanej.Pomiar polysku moze byc stosowany w czasie kolej¬ nych operacji wykanczania powierzchni, dzieki czemu pozwala na korekcje podstawowych operacji technolo¬ gicznych po zeschnieciu i kolejnych polakierowaniach powlok lakierniczych co wplywa korzystnie na obnize¬ nie pracochlonnosci procesów wykanczania powierzchni.Objasnienie figur rysunku. Przyrzad wedlug wy¬ nalazku uwidoczniono w przykladowym wykonaniu na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia przekrój podluz¬ ny przyrzadu, fig. 2 przedstawia wzajemne usytuowanie 5 zródel swiatla i ich polaczenie z urzadzeniem mierzacym w widoku z góry, natomiast fig. 3 przedstawia kolejne etapy tworzenia sie granicy cienia miedzy dwoma odbi¬ tymi strumieniami swietlnymi od badanej powloki, wi¬ dzianego przez obserwatora w okularze przyrzadu. io szczególowy opis przykladu wykonania wynalaz¬ ku. Przyrzad sklada sie z drewnianej obudowy 1, wew¬ natrz której znajduje sie plyta 2 z prostokatnym otwo¬ rem 3. Plyta 2 jest pochylona wzgledem podstawy przy¬ rzadu pod katem 45°. Na plycie 2, nad otworem 3, za- 15 mocowane sa równolegle dwie swietlówki typu de mx z tzw. poprawionym oddawaniem barw w wersji cieplno- -bialej o temperaturze barwowej 3000 °K. Swietlówka 4 jest na stale zamocowana do plyty 2. Swietlówka 5 jest ruchoma i moze byc odsuwana i dosuwana do swietlów- 20 ki 4 za pomoca wrzeciona 6 sruby mikrometrycznej mo¬ cowanego obrotowo do suportu 7. Sanki 8 suportu 7 prze¬ mieszczane sa na prowadnicach 9, na których umocowa¬ no miedzy saniami 8 a boczna sciana przyrzadu sprezy¬ ny 10 dosuwajace swietlówke 5 do swietlówki 4 ruchem 25 ciaglym. Za swietlówkami wewnatrz obudowy przy¬ rzadu, jest umieszczony matowy czarny ekran 11 zwiek¬ szajacy dokladnosc odczytu oraz zabezpieczajacy swie¬ tlówki przed osadzeniem sie na nich pylu i kurzu.W przedniej sciance przyrzadu wbudowany jest oku- 30 lar 12 z ukladem optycznym. Stanowi go soczewka 13, w ognisku której umieszczona jest matówka 14. Os oku¬ laru 12 ustawiona jest pod katem 45° do podstawy przy¬ rzadu, w której usytuowany jest otwór 15, a w jego prze¬ dluzeniu, wzorcowa plyta 16 z czarnego polerowanego 35 szkla. Tylna sciana przyrzadu ma otwory 17 dla lepszego odprowadzenia ciepla.Przyrzad zaopatrzony jest ponadto w uchwyty 18 ulat¬ wiajace manipulacje w czasie pomiaru. Podstawa przy¬ rzadu jest wyklejona miekkim filcem, który w czasie rha- 40 nipulacji przyrzadem oczyszcza badana powierzchnie z pylu i kurzu a jednoczesnie chroni ja przed uszkodze¬ niem. Na sciance bocznej przyrzadu przewidziano miejsce na umieszczenie odpowiedniej tabeli klasyfikujacej ja¬ kosc wykonczenia powierzchni lakierowanej, w zalez- 45 nosci od wielkosci odsuniecia swietlówek w mm.Przyrzad ustawia sie na badanej powierzchni 19 i wla¬ cza sie zródla swiatla, Strumien swietlny przez otwór 3 w plycie 2 i otwór 15 w podstawie przyrzadu pada na badana powierzchnie pod katem 45° a jego odbicie pod EO takim samym katem jest obserwowane przez okular. Po¬ krecajac wrzeciono 6 sruby mikrometrycznej ze skala przesuwa sie swietlówke 5 wzgledem swietlówek 4. W trakcie odsuwania sie od siebie swietlówek, na badanej powierzchni tworzy sie stopniowo cien, az do powstania 55 wyraznej granicy rozdzialu dwóch liniowych zródel swiatla.Fazy tworzenia sie charakterystycznego cienia na ba¬ danej powierzchni w czasie odsuwania od siebie swietló¬ wek pokazano na fig. 3 rysunku. Faza a przedstawia obraz swietlówek polaczonych. Faza b przedstawia moment 60 tworzenia sie cienia stopniowo wzdluz calej dlugosci swietlówek w miare ciaglego odsuwania od siebie zródel swiatla. Faza c przedstawia moment zakonczenia two¬ rzenia sie cienia stanowiacego wyrazna granice rozdzialu dwóch liniowych zródel swiatla odbitych od powloki 65 lakierniczej. Dla tego momentu dokonuje sie odczytu108 704 5 w milimetrach na wrzecionie sruby mikrometrycznej.Male wartosci odsuniecia rzedu kilku setnych milimetra klasyfikuja wykonczenie powloki na polysk zwierciadla¬ ny i wysoki, natomiast duze wartosci rzedu kilku mili¬ metrów klasyfikuja wykonczenie powloki na polysk zwier¬ ciadlany i wysoki, natomiast duze wartosci rzedu kilku mi¬ limetrów klasyfikuja wykonczenie powloki na mat polys¬ kujacy lub mat.Zastrzezenia patentowe 1. Sposób pomiaru polysku, zwlaszcza powierzchni lakierowanych, w którym mierzy sie intensywnosc swiatla odbitego od badanej powierzchni pod katem, znamien¬ ny tym, ze co najmniej dwa liniowe zródla swiatla prze¬ suwa sie równolegle wzgledem siebie az do pojawienia sie na badanej powierzchni granicy cienia rozdzielaja¬ cego odbite strumienie swietlne, w którym to momen¬ cie zatrzymuje sie ruch zródel swiatla a powstale mie¬ dzy nimi odleglosci mierzy sie znanymi urzadzeniami. 2. Przyrzad do pomiaru polysku, zwlaszcza powierz- 6 chni lakierowanych, w ksztalcie zamknietej obudowy, ze zródelm swiatla umieszczonym na usytuowanej pod katem do badanej powierzchni przegrodzie z otworami znamienny tym, ze na przegrodzie umieszczone sa co 5 najmniej dwa liniowe zródla swiatla (4 i 5) ustawione równolegle wzgledem siebie przy czym przynajmniej jedno zródlo swiatla (5) jest przesuwne i jest polaczone ze znanym urzadzeniem do mierzenia odleglosci a po¬ nadto przyrzad ma w przedniej sciance okular (12) z 10 ukladem optycznym o osi ustawionej wzgledem podsta¬ wy przyrzadu pod katem odpowiadajacym katowi pa¬ dania swiatla przy czym w podstawie przyrzadu, w polu widzenia okularu (12), znajduje sie otwór (15), na prze¬ dluzeniu którego, w kierunku okularu, umieszczona jest 15 wzorcowa plytka (16). \— 3. Przyrzad wedlug zastrz. 2 znamienny tym, ze zródla swiatla (4 i 5) maja najkorzystniej rozklad wid¬ mowy zblizony do rozkladu widmowego swiatla dzien¬ nego.108 704 12. 1 LZG Z-d 3, z. 289/1400/51, n. 115 + 20 egz. f. A4 Cena 45 zl PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Sposób pomiaru polysku, zwlaszcza powierzchni lakierowanych, w którym mierzy sie intensywnosc swiatla odbitego od badanej powierzchni pod katem, znamien¬ ny tym, ze co najmniej dwa liniowe zródla swiatla prze¬ suwa sie równolegle wzgledem siebie az do pojawienia sie na badanej powierzchni granicy cienia rozdzielaja¬ cego odbite strumienie swietlne, w którym to momen¬ cie zatrzymuje sie ruch zródel swiatla a powstale mie¬ dzy nimi odleglosci mierzy sie znanymi urzadzeniami.
2. Przyrzad do pomiaru polysku, zwlaszcza powierz- 6 chni lakierowanych, w ksztalcie zamknietej obudowy, ze zródelm swiatla umieszczonym na usytuowanej pod katem do badanej powierzchni przegrodzie z otworami znamienny tym, ze na przegrodzie umieszczone sa co 5 najmniej dwa liniowe zródla swiatla (4 i 5) ustawione równolegle wzgledem siebie przy czym przynajmniej jedno zródlo swiatla (5) jest przesuwne i jest polaczone ze znanym urzadzeniem do mierzenia odleglosci a po¬ nadto przyrzad ma w przedniej sciance okular (12) z 10 ukladem optycznym o osi ustawionej wzgledem podsta¬ wy przyrzadu pod katem odpowiadajacym katowi pa¬ dania swiatla przy czym w podstawie przyrzadu, w polu widzenia okularu (12), znajduje sie otwór (15), na prze¬ dluzeniu którego, w kierunku okularu, umieszczona jest 15 wzorcowa plytka (16). \—
3. Przyrzad wedlug zastrz. 2 znamienny tym, ze zródla swiatla (4 i 5) maja najkorzystniej rozklad wid¬ mowy zblizony do rozkladu widmowego swiatla dzien¬ nego.108 704 12. 1 LZG Z-d 3, z. 289/1400/51, n. 115 + 20 egz. f. A4 Cena 45 zl PL
PL19435876A 1976-12-11 1976-12-11 Method of measuring lustre and device for measuring lustre PL108704B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19435876A PL108704B1 (en) 1976-12-11 1976-12-11 Method of measuring lustre and device for measuring lustre

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19435876A PL108704B1 (en) 1976-12-11 1976-12-11 Method of measuring lustre and device for measuring lustre

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL194358A1 PL194358A1 (pl) 1978-06-19
PL108704B1 true PL108704B1 (en) 1980-04-30

Family

ID=19979805

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19435876A PL108704B1 (en) 1976-12-11 1976-12-11 Method of measuring lustre and device for measuring lustre

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL108704B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL194358A1 (pl) 1978-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Hunter Methods of determining gloss
US6667800B1 (en) Method and device for measuring and quantifying surface defects on a test surface
JP3445722B2 (ja) 表面検査装置および表面検査方法
JPH0420845A (ja) 光沢むらの測定方法
US3245306A (en) Photometer and method
Hunter A multipurpose photoelectric reflectometer
US4991967A (en) Scratch depth measuring instrument and method
PL108704B1 (en) Method of measuring lustre and device for measuring lustre
JPH06105223B2 (ja) 光学的表面特性測定装置
JP7446725B2 (ja) 測定装置、測定方法、および、プログラム
US1988556A (en) Gloss measuring device
CA2612237C (en) Method and system for measuring the curvature of an optical surface
Westberg Paper 25: Development of Objective Methods for Judging the Quality of Ground and Polished Surfaces in Production
US2899747A (en) Method of measuring the bearing length of drawing dies
Coveney Dimensional measurement using vision systems.
RU2789204C1 (ru) Устройство и способ для обнаружения оптических дефектов деталей конструкционной оптики
EP4671678A1 (en) METHOD AND DEVICE FOR DETERMINING A HEIGHT MAP
Guild Curvature measurements
CN206040035U (zh) 一种用分光仪测定牛顿环曲率的实验装置
CN106990046A (zh) 一种多角度光泽度仪的光学系统及其实现方法
Mirandé Challenges in the dimensional Calibration of submicrometer Structures by Help of optical Microscopy
JPH0420846A (ja) 光沢測定方法および装置
US643184A (en) Apparatus for measuring and comparing illumination.
Hartmann Apparatus and method for the photographic measurement of the brightness of surfaces
SU991192A1 (ru) Устройство дл исследовани температурных полей