PL103283B1 - Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych - Google Patents
Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych Download PDFInfo
- Publication number
- PL103283B1 PL103283B1 PL18562875A PL18562875A PL103283B1 PL 103283 B1 PL103283 B1 PL 103283B1 PL 18562875 A PL18562875 A PL 18562875A PL 18562875 A PL18562875 A PL 18562875A PL 103283 B1 PL103283 B1 PL 103283B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- plate
- machine
- distance
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- 208000004998 Abdominal Pain Diseases 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 208000002881 Colic Diseases 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do na¬
kladania równomiernych powlok galwanicznych,
szczególnie na wzorcach grubosci przeznaczonych
do pomiaru metoda termoelektryczna i izotopo¬
wa.
Wzorce grubosci wykonuje sie do chwili obec¬
nej na plytkach zawieszanych swobodnie w wan¬
nie sposobem konwencjonalnym z anodami umiesz¬
czonymi w wannie równiez w sposób konwencjo¬
nalny, a sama kapiel poddaje sie mieszaniu
sprezonym powietrzem lub elektrolitem..
Otrzymane w ten sposób wzorce grubosci maja
grubosc w granicach do 50 |im i wykazuja duze nie-
równomiernosci, w skrajnych przypadkach, szczegól¬
nie blizej krawedzi plytki rzedu nawet do SOfyo.
Wskutek tego wycina sie ze stosunkowo duzej
plytki jeden lub co najwyzej dwa wzorce, na któ¬
rych grubosc powloki wykazuje odchylki co naj¬
wyzej ±5%k
Dla unikniecia tej niedogodnosci i strat ma¬
terialu, szczególnie dotkliwych, na przyklad przy
wytwarzaniu wzorów powlok ze zlota, rodu i in¬
nych metali szlachetnych oraz dla zwiekszenia
wydajnosci opracowano urzadzenie wedlug wy¬
nalazku, stanowiace samodzielny zestaw na dnie
wanny lub tez podwieszany na wieszaku.
Urzadzenie wedlug wynalazku sklada sie z obu¬
dowy, w której umieszczona jest plytka przezna¬
czona do powlekania jako katoda dociskana
sprezyna i anoda. Anoda ma urzadzenie umozli-
2
wiajace jej skosne ustawienie w stosunku do ka¬
tody, które stosuje sie w miare potrzeby. W scia¬
nie urzadzenia przewidziany jest otwór na za¬
mocowanie przewodu doprowadzajacego sprezone
powietrze lub elektrolit do mieszania kapieli.
Urzadzenie wyzej wskazane pozwala na uzyski¬
wanie powlok o zalozonej grubosci przy gwaran¬
towanych odchylkach rzedu ±4P/t, podczas gdy
najlepsze swiatowe, znajdujace sie na rynku
wzorce posiadaja gwarancje dla odchylek rzedu
±5«/o.
Urzadzenie wedlug wynalazku jest pokazane
przykladowo schematycznie na dolaczonym rysun¬
ku. Sklada sie z dwóch scian 1 o specjalnym
is ksztalcie dostosowanym do potrzeb, wykonanych
z dieelektryku, na przyklad metaplexu, polaczo¬
nych ze soba pretami dystansujacymi 2. Rama
azurowa 3 z uchem 4 jest osadzona wahliwie na
sworzniu 5 i jest przytrzymywana w pozycji pio-
nowej za pomoca kolka 6. W wycieciu ramki 3
ustawiona jest plytka 7, stanowiaca katode dla
nakladanej powloki, dociskana do ramki 6 .elek¬
troda 8, stanowiaca krazek mosiezny oparta na
sprezynie przewodzacej 9. Na przeciwko kato-
dy 7 umieszczona jest w zasadzie w pozycji pio¬
nowej anoda 10 w odstepie od katody regulowa¬
nymi wkretami 11, której ustawienie zapewniaja¬
ce optymalna geometrie ukladu, zaleznie od po¬
trzeby, reguluje sie dodatkowo wkretami 12. W
dolnej czesci sciany jest wywiercony otwór 13
103 283103 283
przeznaczony na umieszczenie koncówki przewo¬
du 14 doprowadzajacego substancje mieszajaca
elektrolitu w wannie.
Cale urzadzenie wedlug wynalazku ustawia sie
na dnie wanny galwanizerskiej lub tez zawiesza
na szynie.
iPrizyklad I. Po podniesieniu kolka przytrzy¬
mujacego ramke i odchyleniu jej, wlozono plytke
mosiezna o grubosci 3 mm i o wymiarach
iUiOX|100 mm, docisnieto do ramki, przechylono
uo pozycji pionowej i zabezpieczono kolkiem.
Ustawiono wkret ustalajacy odstep miedzy plyt-
tta stanowiaca katode a anoda, tak aby odleglosc
miedzy nimi wynosila 500nim. Po zamocowaniu anody
pionowo ustawiono cale urzadzenie na dnie wanny
galwaizerskiej do niklowania z polyskiem, napel¬
nionej, na przyklad kapiela wedlug polskiego opi¬
su patentowego nr 53154. Po 5 minutach wyjeto
urzadzenie, a z niego plytke pokrywana powlo¬
ka niklowa i poddano ja kontroli w celu ustale¬
nia, w których miejscach i o jakiej grubosci od¬
klada sie powloka niklowa. Doregulowano nachy¬
lenie anody i wstawiono urzadzenie do kapieli.
Po 15 minutach wyjeto urzadzenie, a z niego
plytke pokryta powloka niklowa i ustalono, ze
tolerancja grubosci jest rzedu oA 14,6 jim do
,1 nm przy zadanej grubosci powloki 15 |im.
Uznano, ze mozna wyciac z plytki 40 wzorców
o wymiarach 30X30 mm. Odpad pozostal rzedu
*/o.
Przyklad II. W celu przygotowania wzor¬
ców powloki zlotej umieszczono plytke o wymia¬
rach 31X,51 mm o grubosci 1 mm wykonana z ko¬
waru w sposób opisany w przykladzie I. Wkret
ustalajacy odstep anody od katody ustawiono tak,
aby odleglosc miedzy nimi wynosila 15 mm. Ano¬
de wykonana z kwasoodpornej stali ustawiono
pionowo i wstawiono cale urzadzenie na dno
wanny z kapiela do zlocenia z polyskiem wedlug
polskiego opisu patentowego nr 62186. Po 5 mi¬
nutach wyjeto urzadzenie z kapieli i sprawdzono
sposób osadzania sie powloki ze zlota. Okazalo sie,
ze przechylanie anody jest prawidlowe, w zwiazku
z czym prowadzono proces nakladania dalej. Po
40 minutach wyjeto urzadzenie, rozmontowano
i dokonano pomiaru grubosci nalozonej powloki.
Odchylki od zadanej grubosci 30 |im wynosily od
29,3 \im do 3lljl |im, a wiec w granicach A3fVo.
Okazalo sie, ze z jednej plytki mozna wyciac
9 wzorców, wskutek czego odpad wynosil okolo
Claims (2)
1. Urzadzenie do nakladania równomiernych powlok galwanicznych, skladajace sie z obudowy, ao w której umieszczone sa plytka stanowiaca ka¬ tode oraz anoda i przewód do substancji prze¬ znaczonej do mieszania kapieli, znamienne tym, ze obudowa sklada sie z dwóch scian (1) polaczonych ze soba pretami dystansujacymi (2) ii jest w niej 25 umieszczona ramka azurowa (3) z uchem (4) osadzo¬ nym wahliwie na sworzniu (5) przytrzymywana w pozycji pionowej kolkiem (6), a w jej wycie¬ ciu osadzona jest plytka (7) stanowiaca katode, dociskana do ramki elektroda (8) podparta spre- 30 zyna przewodzaca (9), natomiast anoda (10) jest oparta o wkrety (11) ustalajace jej odstep od ka¬ tody oraz o wkrety (12) ustalajace jej polozenie w stosunku do pionu.
2. Urzadzenie wedlug zastrz. l, znamienne tym, 35 ze w dolnej czesci sciany (1) znajduje sie otwór (13) przeznaczony do umocowania przewodu (14) doprowadzajacego substancje do mieszania kapie¬ li. 14 11 LZGraf. Z-d Nr 2 — 0H3 95 egz. A4 Cena 45 zl
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18562875A PL103283B1 (pl) | 1975-12-17 | 1975-12-17 | Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18562875A PL103283B1 (pl) | 1975-12-17 | 1975-12-17 | Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL103283B1 true PL103283B1 (pl) | 1979-05-31 |
Family
ID=19974751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL18562875A PL103283B1 (pl) | 1975-12-17 | 1975-12-17 | Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL103283B1 (pl) |
-
1975
- 1975-12-17 PL PL18562875A patent/PL103283B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Nowak et al. | Electrochemical investigation of the codeposition of SiC and SiO2 particles with nickel | |
| TWI226439B (en) | Plating bath analysis | |
| Fornari et al. | Copper and nickel selective recovery by electrowinning from electronic and galvanic industrial solutions | |
| US8894835B2 (en) | Method of inspecting a metal coating and a method for analytical control of a deposition electrolyte serving to deposit said metal coating | |
| ES8106565A1 (es) | Dispositivo de revestimiento electrolitico | |
| US3215609A (en) | Electroplating test cell and method | |
| Beacom et al. | A radioisotopic study of leveling in bright nickel electroplating baths | |
| PL103283B1 (pl) | Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych | |
| US4153521A (en) | Method of automatic control and optimization of electrodeposition conditions | |
| US4086154A (en) | Apparatus for determining stress in an electrodeposit | |
| RU2553161C2 (ru) | Способ и устройство для контроля эффективности ванны металлического электроосаждения | |
| US5425870A (en) | Multipurpose electrolytic meter | |
| PL72613Y1 (pl) | Uchwyt do obróbki galwanicznej | |
| CN211872140U (zh) | 一种电镀溶液主盐浓度的调控装置 | |
| CN214327962U (zh) | 电解蚀刻设备 | |
| Bauer | The effect of mass transport on deposit quality in copper electrowinning | |
| Yu et al. | Cell cycle effects on the basal and DNA-damaging-agent-stimulated ADPRT activity in cultured mammalian cells | |
| JPS6030759B2 (ja) | 電解浴中の金属イオン濃度の制御方法 | |
| CN211445983U (zh) | 一种装饰件表面处理电镀装置 | |
| Statham, EF*, Coyle, TJ** & Howat | Some aspects of electrolytic gold refining as applied to South African Mine Bullion | |
| CN206512301U (zh) | 一种内壁有钻石型凸点结构的电镀滚筒 | |
| CN206359639U (zh) | 一种转盘式电镀设备 | |
| JPH05332991A (ja) | 鍍金鋼板の鍍金付着量測定装置 | |
| Fisher et al. | Electroplating high aspect ratio through holes in thick printed circuit boards | |
| Puippe et al. | An intelligent measurement system for surface area measurement |