PL103283B1 - Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych - Google Patents

Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych Download PDF

Info

Publication number
PL103283B1
PL103283B1 PL18562875A PL18562875A PL103283B1 PL 103283 B1 PL103283 B1 PL 103283B1 PL 18562875 A PL18562875 A PL 18562875A PL 18562875 A PL18562875 A PL 18562875A PL 103283 B1 PL103283 B1 PL 103283B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cathode
anode
plate
machine
distance
Prior art date
Application number
PL18562875A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to PL18562875A priority Critical patent/PL103283B1/pl
Publication of PL103283B1 publication Critical patent/PL103283B1/pl

Links

Landscapes

  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do na¬ kladania równomiernych powlok galwanicznych, szczególnie na wzorcach grubosci przeznaczonych do pomiaru metoda termoelektryczna i izotopo¬ wa.
Wzorce grubosci wykonuje sie do chwili obec¬ nej na plytkach zawieszanych swobodnie w wan¬ nie sposobem konwencjonalnym z anodami umiesz¬ czonymi w wannie równiez w sposób konwencjo¬ nalny, a sama kapiel poddaje sie mieszaniu sprezonym powietrzem lub elektrolitem..
Otrzymane w ten sposób wzorce grubosci maja grubosc w granicach do 50 |im i wykazuja duze nie- równomiernosci, w skrajnych przypadkach, szczegól¬ nie blizej krawedzi plytki rzedu nawet do SOfyo.
Wskutek tego wycina sie ze stosunkowo duzej plytki jeden lub co najwyzej dwa wzorce, na któ¬ rych grubosc powloki wykazuje odchylki co naj¬ wyzej ±5%k Dla unikniecia tej niedogodnosci i strat ma¬ terialu, szczególnie dotkliwych, na przyklad przy wytwarzaniu wzorów powlok ze zlota, rodu i in¬ nych metali szlachetnych oraz dla zwiekszenia wydajnosci opracowano urzadzenie wedlug wy¬ nalazku, stanowiace samodzielny zestaw na dnie wanny lub tez podwieszany na wieszaku.
Urzadzenie wedlug wynalazku sklada sie z obu¬ dowy, w której umieszczona jest plytka przezna¬ czona do powlekania jako katoda dociskana sprezyna i anoda. Anoda ma urzadzenie umozli- 2 wiajace jej skosne ustawienie w stosunku do ka¬ tody, które stosuje sie w miare potrzeby. W scia¬ nie urzadzenia przewidziany jest otwór na za¬ mocowanie przewodu doprowadzajacego sprezone powietrze lub elektrolit do mieszania kapieli.
Urzadzenie wyzej wskazane pozwala na uzyski¬ wanie powlok o zalozonej grubosci przy gwaran¬ towanych odchylkach rzedu ±4P/t, podczas gdy najlepsze swiatowe, znajdujace sie na rynku wzorce posiadaja gwarancje dla odchylek rzedu ±5«/o.
Urzadzenie wedlug wynalazku jest pokazane przykladowo schematycznie na dolaczonym rysun¬ ku. Sklada sie z dwóch scian 1 o specjalnym is ksztalcie dostosowanym do potrzeb, wykonanych z dieelektryku, na przyklad metaplexu, polaczo¬ nych ze soba pretami dystansujacymi 2. Rama azurowa 3 z uchem 4 jest osadzona wahliwie na sworzniu 5 i jest przytrzymywana w pozycji pio- nowej za pomoca kolka 6. W wycieciu ramki 3 ustawiona jest plytka 7, stanowiaca katode dla nakladanej powloki, dociskana do ramki 6 .elek¬ troda 8, stanowiaca krazek mosiezny oparta na sprezynie przewodzacej 9. Na przeciwko kato- dy 7 umieszczona jest w zasadzie w pozycji pio¬ nowej anoda 10 w odstepie od katody regulowa¬ nymi wkretami 11, której ustawienie zapewniaja¬ ce optymalna geometrie ukladu, zaleznie od po¬ trzeby, reguluje sie dodatkowo wkretami 12. W dolnej czesci sciany jest wywiercony otwór 13 103 283103 283 przeznaczony na umieszczenie koncówki przewo¬ du 14 doprowadzajacego substancje mieszajaca elektrolitu w wannie.
Cale urzadzenie wedlug wynalazku ustawia sie na dnie wanny galwanizerskiej lub tez zawiesza na szynie. iPrizyklad I. Po podniesieniu kolka przytrzy¬ mujacego ramke i odchyleniu jej, wlozono plytke mosiezna o grubosci 3 mm i o wymiarach iUiOX|100 mm, docisnieto do ramki, przechylono uo pozycji pionowej i zabezpieczono kolkiem.
Ustawiono wkret ustalajacy odstep miedzy plyt- tta stanowiaca katode a anoda, tak aby odleglosc miedzy nimi wynosila 500nim. Po zamocowaniu anody pionowo ustawiono cale urzadzenie na dnie wanny galwaizerskiej do niklowania z polyskiem, napel¬ nionej, na przyklad kapiela wedlug polskiego opi¬ su patentowego nr 53154. Po 5 minutach wyjeto urzadzenie, a z niego plytke pokrywana powlo¬ ka niklowa i poddano ja kontroli w celu ustale¬ nia, w których miejscach i o jakiej grubosci od¬ klada sie powloka niklowa. Doregulowano nachy¬ lenie anody i wstawiono urzadzenie do kapieli.
Po 15 minutach wyjeto urzadzenie, a z niego plytke pokryta powloka niklowa i ustalono, ze tolerancja grubosci jest rzedu oA 14,6 jim do ,1 nm przy zadanej grubosci powloki 15 |im.
Uznano, ze mozna wyciac z plytki 40 wzorców o wymiarach 30X30 mm. Odpad pozostal rzedu */o.
Przyklad II. W celu przygotowania wzor¬ ców powloki zlotej umieszczono plytke o wymia¬ rach 31X,51 mm o grubosci 1 mm wykonana z ko¬ waru w sposób opisany w przykladzie I. Wkret ustalajacy odstep anody od katody ustawiono tak, aby odleglosc miedzy nimi wynosila 15 mm. Ano¬ de wykonana z kwasoodpornej stali ustawiono pionowo i wstawiono cale urzadzenie na dno wanny z kapiela do zlocenia z polyskiem wedlug polskiego opisu patentowego nr 62186. Po 5 mi¬ nutach wyjeto urzadzenie z kapieli i sprawdzono sposób osadzania sie powloki ze zlota. Okazalo sie, ze przechylanie anody jest prawidlowe, w zwiazku z czym prowadzono proces nakladania dalej. Po 40 minutach wyjeto urzadzenie, rozmontowano i dokonano pomiaru grubosci nalozonej powloki.
Odchylki od zadanej grubosci 30 |im wynosily od 29,3 \im do 3lljl |im, a wiec w granicach A3fVo.
Okazalo sie, ze z jednej plytki mozna wyciac 9 wzorców, wskutek czego odpad wynosil okolo

Claims (2)

Zastrzezenia patentowe
1. Urzadzenie do nakladania równomiernych powlok galwanicznych, skladajace sie z obudowy, ao w której umieszczone sa plytka stanowiaca ka¬ tode oraz anoda i przewód do substancji prze¬ znaczonej do mieszania kapieli, znamienne tym, ze obudowa sklada sie z dwóch scian (1) polaczonych ze soba pretami dystansujacymi (2) ii jest w niej 25 umieszczona ramka azurowa (3) z uchem (4) osadzo¬ nym wahliwie na sworzniu (5) przytrzymywana w pozycji pionowej kolkiem (6), a w jej wycie¬ ciu osadzona jest plytka (7) stanowiaca katode, dociskana do ramki elektroda (8) podparta spre- 30 zyna przewodzaca (9), natomiast anoda (10) jest oparta o wkrety (11) ustalajace jej odstep od ka¬ tody oraz o wkrety (12) ustalajace jej polozenie w stosunku do pionu.
2. Urzadzenie wedlug zastrz. l, znamienne tym, 35 ze w dolnej czesci sciany (1) znajduje sie otwór (13) przeznaczony do umocowania przewodu (14) doprowadzajacego substancje do mieszania kapie¬ li. 14 11 LZGraf. Z-d Nr 2 — 0H3 95 egz. A4 Cena 45 zl
PL18562875A 1975-12-17 1975-12-17 Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych PL103283B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL18562875A PL103283B1 (pl) 1975-12-17 1975-12-17 Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL18562875A PL103283B1 (pl) 1975-12-17 1975-12-17 Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL103283B1 true PL103283B1 (pl) 1979-05-31

Family

ID=19974751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL18562875A PL103283B1 (pl) 1975-12-17 1975-12-17 Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL103283B1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Nowak et al. Electrochemical investigation of the codeposition of SiC and SiO2 particles with nickel
TWI226439B (en) Plating bath analysis
Fornari et al. Copper and nickel selective recovery by electrowinning from electronic and galvanic industrial solutions
US8894835B2 (en) Method of inspecting a metal coating and a method for analytical control of a deposition electrolyte serving to deposit said metal coating
ES8106565A1 (es) Dispositivo de revestimiento electrolitico
US3215609A (en) Electroplating test cell and method
Beacom et al. A radioisotopic study of leveling in bright nickel electroplating baths
PL103283B1 (pl) Urzadzenie do nakladania rownomiernych powlok galwanicznych
US4153521A (en) Method of automatic control and optimization of electrodeposition conditions
US4086154A (en) Apparatus for determining stress in an electrodeposit
RU2553161C2 (ru) Способ и устройство для контроля эффективности ванны металлического электроосаждения
US5425870A (en) Multipurpose electrolytic meter
PL72613Y1 (pl) Uchwyt do obróbki galwanicznej
CN211872140U (zh) 一种电镀溶液主盐浓度的调控装置
CN214327962U (zh) 电解蚀刻设备
Bauer The effect of mass transport on deposit quality in copper electrowinning
Yu et al. Cell cycle effects on the basal and DNA-damaging-agent-stimulated ADPRT activity in cultured mammalian cells
JPS6030759B2 (ja) 電解浴中の金属イオン濃度の制御方法
CN211445983U (zh) 一种装饰件表面处理电镀装置
Statham, EF*, Coyle, TJ** & Howat Some aspects of electrolytic gold refining as applied to South African Mine Bullion
CN206512301U (zh) 一种内壁有钻石型凸点结构的电镀滚筒
CN206359639U (zh) 一种转盘式电镀设备
JPH05332991A (ja) 鍍金鋼板の鍍金付着量測定装置
Fisher et al. Electroplating high aspect ratio through holes in thick printed circuit boards
Puippe et al. An intelligent measurement system for surface area measurement