PL100569B1 - Urzadzenie do odparowywania cieczy w cienkich warstwach - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do odparowania cieczy wrazliwych na rozklad termiczny, w cienkich warstwach, w procesie" ciaglym, w warunkach splywu grawitacyjnego. Odparowywana ciecz ogrzewana styka sie z powierzchnia, grzejna oraz wprawiana jest w ruch dodatkowy ruchomymi elementami urzadzenia.

Proces odparowania cieczy wrazliwych na rozklad termiczny wymaga prowadzenia cieczy po powierzchni grzejnej cienka warstwa celem zapobiezenia przekroczenia temperatury rozkladu w wyniku przegrzan lokalnych.

Pociaga to za soba koniecznosc powiekszenia powierzchni odparowania i koniecznosc zastosowania srodków ulatwiajacych zmniejszenie gruboscj warstwy z naprowadzaniem dodatkowych porcji cieczy w przypadku zerwaniawarstwy. .

Znane sa takie urzadzenia, w których przedstawione rozmazywanie cieczy po ogrzewanej powierzchni roboczej, prowadzace do zmniejszenia grubosci warstwy cieczy przeznaczonej do odparowania, jak równiez do ponownego pokrywania ciecza miejsc, na których warstwa cieczy zostala zerwana, jest realizowane przez wirnik wspólpracujacy z wewnetrzna powierzchnia walcowego plaszcza grzejnego. Rozwiazanie takie jest stosowane w wyparkach Luwa iSambay. .

Istota rozwiazania wedlug Wynalazku polega na tym, ze umieszczone przy nieruchomych powierzchniach grzejnych komór wyparnych czlony rozprowadzajace ciecz polaczone sa poprzez element mocujacy z wibrato¬ rem wymuszajacym ruchy posuwisto-zwrotne czlonów w kierunku równoleglym do powierzchni grzejnych.

Odleglosc czlonów rozprowadzajacych od powierzchni grzejnych okreslana jest gruboscia wkladek odlegloscio¬ wych przymocowanych do czlonów rozprowadzajacych i wspólpracujacych z powierzchnia grzejna slizgowo.

Polaczone przez wspólny element mocujacy z wibratorem czlony rozprowadzajace ciecz wykonane sa przy tym w postaci ukladu mechanicznego o duzym,zageszczeniu elementów rozmazujacych, zwlaszcza w postaci s.atki. blachy perforowanej albo zwinietej srubowo lub w postaci pierscieni tasmy albo drutu.

Rozwiazanie wedlug wynalazku pozwala uniknac klopotliwego i kosztownego pasowania i wywazania wirnika, rozmazujacego ciecz na powierzchni grzejnej, oraz umozliwia duza koncentracje powierzchni roboczej? ioor,r>9 w jednostce objetosci urzadzenia, wobec czego odznacza sie malymi gabarytami.

Urzadzenie wedlug wynalazku jest przedstawione w przykladzie wykonania na rysunku, którego fig. i pokazuje schematycznie urzadzenie w przekroju osiowym, fig. 2 - w przekroju poprzecznym AA, fig. 3 - w przekroju poprzecznym B-B.

Urzadzenie zawiera komory grzejne 1 i komory wyparne 2 usytuowane na przemian i oddzielone od siebie sciankami w postaci wspólsródkowyeh rur. Przez komory grzejne 1 przeplywa czynnik «grzejny. W komorach wyparnych 2 przy ich powierzchniach roboczych umieszczone sa wykonane z siatki czlony rozprowadzajace ciecz 3 polaczone poprzez wspólny element mocujacy 4 z wibratorem 5 i wprawiane przez wibrator w ruch drgajacy w kierunku równoleglym do osi urzadzenia celem rozmazania cieczy po powierzchni. Miedzy powierzchniami roboczymi komór wyparnych 2 i czlonami rozprowadzajacymi ciecz 3 umieszczone sa wkladki odleglosciowe 6 przymocowane do czlonów rozprowadzajacych ciecz 3, majace na celu zmniejszenie zuzycia czlonów rozprowadzajacych ciecz 3.

Claims (2)

Zastrzezenia patentów.e

1. Urzadzenie do odparowywania cieczy w cienkich warstwach, w procesie ciaglym, w warunkach splywu grawitacyjnego oraz z zastosowaniem podgrzewania cieczy stykajacej sie z powierzchnia grzejna, jak równiez z wprowadzeniem cieczy w dodatkowy ruch ruchomymi elementami urzadzenia, ?namienn,e tym, ze umieszczone w poblizu nieruchomych powierzchni roboczych komór wyparnych (2) czlony rozprowadzajace ciecz (3) polaczone sa poprzez wspólny element mocujacy (41 z wibratorem (5) wymuszajacym ruchy posuwisto-zwrotne czlonów w kierunku równoleglym do powierzchni roboczych, przy czym odleglosc czlonów rozprowadzajacych ciecz (3) od powierzchni roboczych okreslona jest gruboscia wkladek odleglosciowych (6).

2. Urzadzenie wedlug zastrz. 1, znamienne tym. ze polaczone przez wspólny element mocujacy z wibratorem (5) czlony rozprowadzajace ciecz (3) wykonane sa w postaci ukladu mechanicznego o duzym zageszczeniu elementów rozmazujacych, zwlaszcza w postaci siatki, blachy perforowanej, albo zwinietej srubowo lub w postaci pierscieni tasmy albo drutu. opary cieczy aecz do odpowanta czynnik grzejny i ciecz zageszczona Fig.1100 569 A-A ^Cleczdo odparowania B-B Fig. 2 'czynnik ()r:t>.jny Fig 3