NO120280B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO120280B NO120280B NO17003767A NO17003767A NO120280B NO 120280 B NO120280 B NO 120280B NO 17003767 A NO17003767 A NO 17003767A NO 17003767 A NO17003767 A NO 17003767A NO 120280 B NO120280 B NO 120280B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- manganese
- manganese dioxide
- manganese nitrate
- thermal decomposition
- nitrate
- Prior art date
Links
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous oxide Inorganic materials [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 tintan Chemical compound 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/0029—Processes of manufacture
- H01G9/0036—Formation of the solid electrolyte layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
Fremgangsmåte for fremstilling av belegg
av grått mangan-dioksyd.
Foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte for fremstilling av belegg av grått mangandioksyd ved termisk dekomponering av mangan-nitrat•
Det er tidligere kjent å fremstille belegg av mangan-dioksyd ved termisk dekomponering av mangan-nitrat. Mangan-nitrat benyttes for dette formål ofte i en fortynnet oppløsning, og påføres grunn-platen, som skal belegges, ved dypping eller lignende. Deretter oppnår man en termisk dekomponering av mangan-nitratet ved oppvarming. Under denne prosessen omformes mangan-nitrat til mangan-dioksyd. Samtidig frigjøres vann og nitrogenoksyder (nitrøse gasser).
Slike belegg av mangan-dioksyd fremstilles hovedsakelig på
grunn av deres elektriske egenskaper. Det er bl.a. kjent å anbringe et lag mangan-dioksyd på oksydbelegget i såkalte "tørre elektrolytt, kondensatorer", hvor oksydbelegget er dannet på overflaten til et såkalt "ventilmetall". Ventilmetaller er metaller som lett kan belegges med et oksydbelegg av samme materiale, og hvor dette beleg-get oppviser en kraftig adhesjon til metallet og samtidig har en høy dielektrisitetskonstant.
Til de mest vanlige ventilmetaller hører aluminium, tantal, tintan, zirkonium, niob, hafnium og wolfram.
Imidlertid finner også lag av mangan-dioksyd stor anvendelse innen elektroteknikken, f.eks. i primærelementer.
Innen disse områder er det nødvendig å fremstille mangan-dioksyd på en slik måte at man ikke bare oppnår fordelaktige elektriske egenskaper, som f.eks. en lav spesifikk motstand, men dessuten får gcde mekaniske egenskaper, som f.eks. en god adhesjon til grunnflaten.
Når man produserer mangan-dioksyd ved en termisk dekomponering
av mangan-nitrat, fåe mangan-dioksydet i en sort, brun eller grå tilstand. Mens lagene med den sorte og den brune tilstanden for mangan-dioksyd ikke oppnår tilstrekkelig god adhesjon til sitt underlag, og dessuten har en relativt høy elektrisk motstand ved siden av at de er vanskelige å reprodusere, utmerker den grå tilstanden for mangan-dioksyd seg ved at den er reproduserbar, at den har en god adhesjons-evne og at man får godt ledende lag på svært mange forskjellige underlagsmaterialer, slik som glass, keramikk, metaller og sintrede legemer. Imidlertid har man foreløbig ikke vært i stand til å danne den grå tilstanden av mangan-dioksyd på en reproduserbar måte ved termisk dekomponering av mangan-nitrat.
Foreliggende oppfinnelse angir en fremgangsmåte til å produsere lag av mangan-dioksyd ved termisk dekomponering av mangan-nitrat,
ved hvilken måte man alltid oppnår den grå tilstanden av mangan-nitratet, hvilken tilstand som nevnt er særpreget ved sine gode mekaniske og elektriske egenskaper.
Fremgangsmåten man ifølge oppfinnelsen benytter for å oppnå
dette er nærmere angitt i de fremsatte krav.
På grunn av det høye vanndampinnholdet i atmosfæren under dekomponeringen, blir utviklingen av nitrøse gasser på den ene siden, og fordampningen av krystallisasjonsvannet på den annen side påviselig redusert. Derved reguleres dekomponeringen av mangan-nitrat på en slik måte at man får mangan-dioksyd i form av et lag med sølvgrå, skjellformede krystaller.
Atmosfæren' hvor den termiske dekomponeringen av mangan-nitratet utføres, må inneholde minst 60% fuktighet, men fuktigheten kan også beløpe seg opptil 100%.
Ved fremgangsmåten i henhold til foreliggende oppfinnelse kan det fremstilles lag med grått mangan-dioksyd som er særlig fordel-aktig for anvendelse i elektriske kondensatorer hvor ett lag mangan-dioksyd anbringes på det dielektriske dioksydlag på overflaten til et legeme av ventilmetall• Legemet av ventilmetall kan ha en vilkår-lig form, f.eks. form av en profilert metallstav, et folie eller et sintret legeme.
Claims (2)
1. Fremgangsmåte til å dekke et legeme med et eller flere lag grått mangan-dioksyd ved å gi legemet som skal dekkes et mangan-nitrat belegg og varme opp legemet til en temperatur ved hvilken mangan-nitratet dekomponerer til mangan-dioksyd, karakterisert ved at den termiske dekomponering av mangan-nitratet finner sted i en atmosfære med minst 60% fuktighet.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved a t mangan-nitratet påføres utenpå det dielektriske oksydlaget til ventil-metall legemet til en elektrisk kondensator.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1966ST025971 DE1521518B2 (de) | 1966-10-12 | 1966-10-12 | Verfahren zur Herstellung von Schichten aus grauem Mangandioxid |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO120280B true NO120280B (no) | 1970-09-28 |
Family
ID=7460782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO17003767A NO120280B (no) | 1966-10-12 | 1967-10-09 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5210840B1 (no) |
| BE (1) | BE704987A (no) |
| CH (1) | CH483496A (no) |
| DE (1) | DE1521518B2 (no) |
| DK (1) | DK118072B (no) |
| LU (1) | LU54604A1 (no) |
| NL (1) | NL152936B (no) |
| NO (1) | NO120280B (no) |
| SE (1) | SE331984B (no) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63125741U (no) * | 1987-02-09 | 1988-08-17 | ||
| JPS63165450U (no) * | 1987-04-16 | 1988-10-27 | ||
| JP4755971B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2011-08-24 | ホリストン ポリテック株式会社 | 固体電解コンデンサ用硝酸マンガンクローズドリサイクルシステム |
-
1966
- 1966-10-12 DE DE1966ST025971 patent/DE1521518B2/de active Granted
-
1967
- 1967-10-05 LU LU54604D patent/LU54604A1/xx unknown
- 1967-10-09 NO NO17003767A patent/NO120280B/no unknown
- 1967-10-10 SE SE1381467A patent/SE331984B/xx unknown
- 1967-10-11 NL NL6713770A patent/NL152936B/xx unknown
- 1967-10-11 JP JP42065021A patent/JPS5210840B1/ja active Pending
- 1967-10-11 CH CH1418167A patent/CH483496A/de not_active IP Right Cessation
- 1967-10-12 DK DK505867A patent/DK118072B/da not_active IP Right Cessation
- 1967-10-12 BE BE704987D patent/BE704987A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SE331984B (no) | 1971-01-25 |
| CH483496A (de) | 1969-12-31 |
| DE1521518A1 (de) | 1969-07-24 |
| BE704987A (no) | 1968-04-12 |
| NL152936B (nl) | 1977-04-15 |
| LU54604A1 (no) | 1967-12-05 |
| JPS5210840B1 (no) | 1977-03-26 |
| DE1521518B2 (de) | 1970-09-10 |
| DK118072B (da) | 1970-07-06 |
| NL6713770A (no) | 1968-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Bévillon et al. | Theoretical and experimental study of the structural, dynamical and dielectric properties of perovskite BaSnO3 | |
| US6143366A (en) | High-pressure process for crystallization of ceramic films at low temperatures | |
| Tabata et al. | Dielectric properties of strained (Sr, Ca) TiO 3/(Ba, Sr) TiO 3 artificial lattices | |
| Li et al. | Microstructure, colossal permittivity, and humidity sensitivity of (Na, Nb) co‐doped rutile TiO2 ceramics | |
| US3775142A (en) | Improved ceramic compositions for high stability capacitors | |
| Martínez et al. | Effect of the substrate temperature on the physical properties of molybdenum tri-oxide thin films obtained through the spray pyrolysis technique | |
| NO120280B (no) | ||
| US3345543A (en) | Solid electrolytic capacitor with anodized aluminum electrode and method of making | |
| Perez et al. | Influence of post-deposition annealing on the chemical states of crystalline tantalum pentoxide films | |
| Rukmini et al. | Sintering temperature dependent ferroelectric phase transition of Pb0. 91 (La1− z/3Liz) 0.09 (Zr0. 65Ti0. 35) 0.9775 O3 | |
| Zhao et al. | Optical constants of e-beam evaporated and annealed Nb2O5 thin films with varying thickness | |
| Das et al. | Impedance spectroscopy analysis of (Pb0. 93Gd0. 07)(Sn0. 45Ti0. 55) 0.9825O3 ferroelectrics | |
| Dong et al. | Effects of substrate on the crystalline structure and microwave dielectric properties of Bi1. 5Mg1. 0Nb1. 5O7 sol–gel thin films | |
| Soni et al. | A-site substituted BaTiO3: analysis of structural, optical, ferroelectric and dielectric nature | |
| Job et al. | Growth, structural, vibrational, mechanical and dielectric studies of KSbF4 crystal | |
| US3405440A (en) | Ferroelectric material and method of making it | |
| Reséndiz-Muñoz et al. | Stoichiometry Calculation in BaxSr1− xTiO3 Solid Solution Thin Films, Prepared by RF Cosputtering, Using X‐Ray Diffraction Peak Positions and Boltzmann Sigmoidal Modelling | |
| Ravikant et al. | Effect of temperature and humidity on dielectric and impedance properties of K (Nb0. 8Ta0. 2) 0.99 Mn0. 01O3 electroceramics | |
| WO2019023307A1 (en) | INCREASING THE OPERATING TEMPERATURE OF BOPP-BASED CAPACITORS BY FLUORATING A FILM | |
| US3499782A (en) | Substrate protective oxidized coating process | |
| Balasundaram et al. | Structure, dielectric, and AC conduction properties of amorphous germanium thin films | |
| Takayuki Miyazaki et al. | Spectroscopic ellipsometry study of Si surfaces modified by low-energy Ar+-ion irradiation | |
| Kobune et al. | Effects of deposition temperature on characteristics of ferroelectric Sr2Bi4Ti5O18 nanoplates fabricated by RF sputtering | |
| US3401054A (en) | Formation of coatings on germanium bodies | |
| Lu et al. | Low-temperature crystallization of electroceramic thin films at elevated pressure |