NL8900646A - Deeltjesdetector. - Google Patents

Deeltjesdetector. Download PDF

Info

Publication number
NL8900646A
NL8900646A NL8900646A NL8900646A NL8900646A NL 8900646 A NL8900646 A NL 8900646A NL 8900646 A NL8900646 A NL 8900646A NL 8900646 A NL8900646 A NL 8900646A NL 8900646 A NL8900646 A NL 8900646A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
detector
semiconductor element
detector according
charged particles
transistor
Prior art date
Application number
NL8900646A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Optische Ind De Oude Delft Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Optische Ind De Oude Delft Nv filed Critical Optische Ind De Oude Delft Nv
Priority to NL8900646A priority Critical patent/NL8900646A/nl
Priority to PCT/NL1990/000015 priority patent/WO1990009681A1/en
Publication of NL8900646A publication Critical patent/NL8900646A/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/10Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
    • H01J29/36Photoelectric screens; Charge-storage screens
    • H01J29/39Charge-storage screens
    • H01J29/44Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by particle radiation, e.g. bombardment-induced conductivity
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16Measuring radiation intensity
    • G01T1/28Measuring radiation intensity with secondary-emission detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0232Optical elements or arrangements associated with the device
    • H01L31/02322Optical elements or arrangements associated with the device comprising luminescent members, e.g. fluorescent sheets upon the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/115Devices sensitive to very short wavelength, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/115Devices sensitive to very short wavelength, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation
    • H01L31/119Devices sensitive to very short wavelength, e.g. X-rays, gamma-rays or corpuscular radiation characterised by field-effect operation, e.g. MIS type detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2441Semiconductor detectors, e.g. diodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2445Photon detectors for X-rays, light, e.g. photomultipliers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2446Position sensitive detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24507Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Description

Titel: Deeltjesdetector.
De uitvinding heeft betrekking op een detector voor het detecteren van geladen deeltjes, die door een elektrisch veld direkt of indirekt naar de detector worden bewogen, alsmede op een inrichting voorzien van een derge-lijke deeltjesdetector.
Een dergelijke detector voor geladen deeltjes, bijvoorbeeld elektronen is bijvoorbeeld de anode van een fotovermenigvuldigerbuis, of de anode van een beeldver-sterkerbuis, maar ook de trefplaat van een televisiecamerabuis of de anode van een klystron. In het geval van een fotovermenigvuldigerbuis zijn de elektronen, die de anode bereiken indirekt van de kathode afkomstig, doordat tussen kathode en anode een aantal dynodes is geplaatst, die middels secundaire emissie een vermenigvuldiging van het oorspronkelijk door de kathode geëmitteerde aantal elektronen veroorzaken.
Ook in een beeldversterkerbuis, die al dan niet van het proximity-focus type kan zijn kan van secundaire emissie-effecten gebruik worden gemaakt, evenals in een televisiecamerabuis. In een beeldversterkerbuis kan voorts bijvoorbeeld een zgn. "multi-channel plate" worden toegepast.
De uitvinding beoogt een verbeterde detector voor geladen deeltjes met een relatief hoog rendement en een snelle responsie die invallende geladen deeltjes kan detecteren en een corresponderend elektrisch uitgangssignaal kan verschaffen. Hiertoe wordt een detector voor geladen deeltjes van de boven beschreven soort gekenmerkt doordat de detector tenminste één meerlaags halfgeleiderelement omvat, dat in bedrijf de geladen deeltjes opvangt en omzet in een corresponderend elektrisch uitgangssignaal.
In het volgende zal de uitvinding nader worden beschreven met verwijzing naar de bijgevoegde tekening van enkele uitvoeringsbeelden.
Figuur 1 toont schematisch een voorbeeld van een gemodificeerde fotovermenigvuldigerbuis, voorzien van een deeltjes detector volgens de uitvinding met een GaAs-transistor; figuur 2 illustreert schematisch bij wijze van voorbeeld de opbouw van een npn-transistor van een detector volgens figuur 1? figuur 3 toont een vervangingsschema van de inrichting van figuur 1; figuur 4 toont een modificatie van figuur 3? en figuur 5 en figuur 6 tonen vervangingsschema's van nog twee varianten van de inrichting van figuur 1.
Figuur 1 toont schematisch een voorbeeld van een gemodificeerde fotovermenigvuldigerbuis voorzien van een detector volgens de uitvinding met een transistor.
De gemodificeerde fotovermenigvuldigerbuis omvat een huis 1 met een ingangsvenster 2. In het huis heerst in bedrijf vacuum. Het ingangsvenster 2 is op gebruikelijke wijze aan de binnenzijde voorzien van een foto-kathode 3, die in responsie op invallend licht 4 elektronen 5 emitteert. De geëmitteerde elektronen worden middels focusserings- en versnellingselektroden 6,7 op een elektronendetector 8 gericht. De elektronendetector 8 omvat volgens de uitvinding tenminste één meerlaags halfgeleiderelement, dat in het getoonde voorbeeld een transistor, bijvoorbeeld een silicium npn-transistor, is. Door toepassing van een dergelijke bipolaire transistor verkrijgt de buis een zodanig rendement, dat de gebruikelijke dynodes kunnen worden weggelaten.
De getoonde buis zou derhalve ook als een gemodificeerde beeldversterkerbuis opgevat kunnen worden. Door toepassing van een transistor als elektronendetector wordt een buis met een snelle responsie en een relatief grote versterking verkregen, terwijl bovendien door het ontbreken van dynodes een compacte bouw mogelijk is. Dergelijke buizen zijn zeer geschikt voor toepassing als fotodetector.
Figuur 3 toont een elektrisch vervangingsschema van de inrichting van figuur 1. De onder invloed van invallend licht 4 door de fotokathode 3 geëmitteerde elektronen 5 worden door een geschikt elektrisch veld naar de elektronendetector 8 bewogen. De elektronendetector is uitgevoerd als npn-transistor. De elektronen 5 dringen door de emitter 9 heen en genereren elektron-gat paren in de basis 10. Hierdoor wordt de transistor geactiveerd.
Per +_ 3,6 eV energie van een invallend elektron ontstaat in silicium ongeveer één elektron-gat paar.
Daar een invallend elektron een energie van een groot aantal malen 3,6 eV kan hebben, bijvoorbeeld 20 keV, genereert elk elektron een groot aantal elektron-gat paren. Bovendien treedt door de werking van een transistor nog een extra versterking op, zodat een zeer hoge totale versterking verkregen kan worden.
De transistor is op gebruikelijke wijze ingesteld middels een collectorspanning Vc. De emitter ligt via een emitter-impedantie 12 aan aarde. Het uitgangssignaal verschijnt over de emitter-impedantie en kan desgewenst binnen of buiten de buis verder versterkt worden met behulp van een geschikte versterker.
Figuur 2 toont bij wijze van voorbeeld de opbouw van een geschikte npn-transistor, bijvoorbeeld een sili-ciumtransistor. Op een substraat 13 zijn op bekende wijze een collector, basis en emitter gevormd. De emitter 9 kan uit een relatief dunne laag n-type materiaal bestaan.
De basis 10 kan uit een dikkere laag p-type materiaal bestaan en de collector 11 weer uit een relatief dikke laag n-type materiaal. Het substraat 13 kan uit p-type materiaal bestaan.
Op de emitter 9 en tussen de collector 11 en het substraat 13 kan nog een contactlaag of contactgebied van bijvoorbeeld n+-type materiaal zijn aangebracht.
Dergelijke contactlagen zijn schematisch aangegeven met 14 en 15 in figuur 2. De laag 9 dient de invallende elektronen door te laten en wordt daarom relatief dun uitgevoerd.
Opgemerkt wordt, dat voor het detecteren van positief geladen deeltjes, zoals protonen of positieve ionen pnp-transistoren kunnen worden toegepast.
Voorts is de beschreven detectiemethode ook geschikt voor het detecteren van andere negatief geladen deeltjes dan elektronen.
Voorts kunnen in alle gevallen eventueel diodes worden toegepast.
Figuur 4 toont een variant van figuur 3 waarbij in de buis een extra versterkingstrap in de vorm van een transistor 26 is toegepast. Evenals in figuur 3 zijn de instelweerstanden niet getoond.
Het is als alternatief mogelijk de transistor te voorzien van een materiaallaag, die de opvallende geladen deeltjes omzet in licht met een geschikte golflengte.
Het licht wordt door de in dat geval als fotogevoelig element functionerende transistor weer omgezet in elektron-gat paren, waardoor op de reeds beschreven wijze weer een elektrisch uitgangssignaal ontstaat, dat al dan niet verder versterkt kan worden.
Met voordeel kan gebruik worden gemaakt van een licht van een geschikte golflengte verschaffend fosforscherm, dat direkt op het halfgeleiderelement kan zijn aangebracht, doch ook op enige afstand daarvan.
Figuur 5 toont een elektrisch vervangingsschema van een dergelijke configuratie. Een fosforscherm 27 vangt de door de kathode 3 geëmitteerde elektronen 5 op en emitteert licht. Het licht passeert de emitter van de transistor 8 en wordt in de basis van de transistor geabsorbeerd en omgezet in elektron-gat paren. De emitter kan uit n-type materiaal bestaan, dat het licht doorlaat.
De basis kan uit p-type materiaal bestaan, dat niet transparant is voor het geëmitteerde licht, en de collector weer uit n-type materiaal. Het verkregen uitgangssignaal kan desgewenst weer verder versterkt worden. Voorts kunnen zoals eerder beschreven weer contactlagen zijn toegepast. Eventueel kan in plaats van een transistor een diode worden toegepast.
Een voordeel van de toepassing van een fosforscherm of een ander onder invloed van invallende deeltjes oplichtend scherm is, dat het scherm een extra versterking kan verschaffen.
Volgens een andere variant, die schematisch in figuur 6 is getoond, worden de geëmitteerde elektronen opgevangen met behulp van een geleidende opvangplaat 30, die met de stuurelektrode van een transistorelement, zoals bijvoorbeeld een veldeffecttransistor 31 is verbonden.
De optredende versterking is in dat geval beperkt tot de door het transistorelement verschafte versterking.
Een veldeffecttransistor (unipolaire transistor) kan evenals een bipolaire transistor worden gebruikt om direkt geladen deeltjes op te vangen, die dan weer in elektron-gat paren worden omgezet en een elektrisch uitgangssignaal verschaffen.
In alle beschreven gevallen is het mogelijk de detector uit te voeren als een matrix van detectorelementen van één van de beschreven typen. De elektrische uitgangssignalen van de verschillende elementen representeren dan gezamenlijk een tweedimensionaal beeld. Met behulp van een matrix van transistoren kan dan op eenvoudige wijze een camerabuis of een (proximity focus) beeldversterker met grote versterking gemaakt worden.
Opgemerkt wordt, dat na het voorgaande diverse modificaties voor de deskundige voor de hand liggen.
Zo kunnen de door een detector verschafte elektrische uitgangssignalen op diverse wijzen worden versterkt en/of verder verwerkt. Ook kunnen de verschillende lagen van de transistoren volgens de daartoe bekende technieken zijn onderverdeeld in dunnere lagen, die op verschillende wijzen gedoopt zijn.
Bij toepassing van een matrix van transistoren kan desgewenst op dezelfde chip geïntegreerde uitlees-elektronica worden toegepast zoals ook bijvoorbeeld bij CCD-arrays wordt toegepast.
Voorts wordt opgemerkt dat een detector volgens de uitvinding zou kunnen worden toegepast bij analysetechnieken onder vacuum, zoals bijvoorbeeld in aftastende elektronenmicroscopen (Scanning Electron Microscope) waarin een te onderzoeken substraat met van een elektronenkanon afkomstige elektronen gebombardeerd wordt en door het substraat geëmitteerde elektronen gedetecteerd dienen te worden.
Voorts zouden de elektronen vanaf de collectorzijde de basis kunnen bereiken.
In plaats van de beschreven typen transistoren kunnen ook andere typen .transistoren worden toegepast.
Voorbeelden van bruikbare meerlaags halfgeleiderelementen zijn van silicium vervaardigde bipolaire junctietransistoren en heterojunctietransistoren van InP/GalnAsP vervaardigd.
Dergelijke modificaties worden geacht binnen het kader van de uitvinding te vallen.

Claims (13)

1. Detector voor het detecteren van geladen deeltjes, die door een elektrisch veld direkt of indirekt naar de detector worden bewogen, met het kenmerk, dat de detector tenminste één meerlaags halfgeleiderelement omvat, dat in bedrijf de geladen deeltjes opvangt en omzet in een corresponderend elektrisch uitgangssignaal.
2. Detector volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het tenminste ene halfgeleiderelement tenminste één bipolaire transistor omvat.
3. Detector volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het tenminste ene halfgeleiderelement tenminste één unipolaire transistor omvat.
4. Detector volgens één der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de detector een voor het tenminste ene halfgeleiderelement aangebracht scherm omvat van een materiaal, dat in responsie op invallende geladen deeltjes licht afgeeft, en dat het tenminste ene halfgeleiderelement onder invloed van licht een elektrisch uitgangssignaal kan verschaffen.
5. Detector volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat het scherm direkt op het tenminste ene halfgeleiderelement is aangebracht.
6. Detector volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat het tenminste ene halfgeleiderelement is voorzien van een plaat van geleidend materiaal, die invallende geladen deeltjes opvangt en die elektrisch is verbonden met de stuurelektrode van een transistor.
7. Detector volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat de transistor een veldeffecttransistor is.
8. Detector volgens één der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de detector een matrix van halfgeleiderelementen omvat.
9. Detector volgens conclusie 8, met het kenmerk, dat de matrix van halfgeleiderelementen althans deels samen met uitleeselektronica op één chip is geïntegreerd .
10. Inrichting omvattend althans één in bedrijf geladen deeltjes emitterend orgaan dat in een afgesloten huis is geplaatst gekenmerkt door een deeltjesdetector volgens één of meer der conclusies 1 t/m 9 voor het opvangen van direkt of indirekt van het emitterende orgaan afkomstige geladen deeltjes.
11. Inrichting volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat de inrichting een proximity focus beeldversterkerbuis is, waarin het anaodescherm een als matrix uitgevoerde voor elektronen gevoelige deeltjesdetector volgens conclusie 8 is.
12. Inrichting volgens conclusie 11 gekenmerkt door een tussen het deeltjes emitterende orgaan en de detector geplaatste "multi-channel"-plaat.
13. Analyse-inrichting voor materiaalanalyse onder vacuum, zoals een aftastende elektronenmicroscoop, gekenmerkt door een detector volgens één of meer der conclusies 1 t/m 9.
NL8900646A 1989-02-08 1989-03-16 Deeltjesdetector. NL8900646A (nl)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8900646A NL8900646A (nl) 1989-03-16 1989-03-16 Deeltjesdetector.
PCT/NL1990/000015 WO1990009681A1 (en) 1989-02-08 1990-02-08 Particle detector

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8900646A NL8900646A (nl) 1989-03-16 1989-03-16 Deeltjesdetector.
NL8900646 1989-03-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8900646A true NL8900646A (nl) 1990-10-16

Family

ID=19854299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8900646A NL8900646A (nl) 1989-02-08 1989-03-16 Deeltjesdetector.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL8900646A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4639379B2 (ja) バイポーラ型飛行時間質量分析計用のディテクター
US5374826A (en) Hybrid photomultiplier tube with high sensitivity
US6657178B2 (en) Electron bombarded passive pixel sensor imaging
US6201257B1 (en) Semiconductor X-ray photocathodes devices
EP1306906B1 (en) Electron bombarded active pixel sensor
JP5102580B2 (ja) 荷電粒子線応用装置
JPH08148113A (ja) 光電子増倍管
US3585439A (en) A camera tube with porous switching layer
US20020093288A1 (en) Imaging apparatus
Fukasawa et al. High speed HPD for photon counting
JPH09503091A (ja) イメージ増倍管
US6836059B2 (en) Image intensifier and electron multiplier therefor
US4868380A (en) Optical waveguide photocathode
JP5739763B2 (ja) 光導電素子及び撮像デバイス
US3798453A (en) Multichannel digital photometer
NL8900646A (nl) Deeltjesdetector.
US5311044A (en) Avalanche photomultiplier tube
JPH07320681A (ja) 高感度ハイブリッド・フォトマルチプライア・チューブ
NL8900313A (nl) Elektronendetector.
US3805058A (en) Radiation sensitive transducer
JP5111276B2 (ja) 撮像デバイス
WO1990009681A1 (en) Particle detector
JP3154827B2 (ja) 走査電子顕微鏡などの反射電子検出器
US5210403A (en) Radiation detecting device with a photocathode being inclined to a light incident surface
US3735139A (en) Photo detector system with dual mode capability

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed