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1959-01-14 |
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1959-01-15 |
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Kalle Ag |
Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
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(es)
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NL130926C
(es)
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1980-11-21 |
1982-06-24 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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DE3100856A1
(de)
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1981-01-14 |
1982-08-12 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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DE3582697D1
(de)
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1984-06-07 |
1991-06-06 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung.
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(de)
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1984-12-12 |
1986-06-19 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform
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DE3718416A1
(de)
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1987-06-02 |
1988-12-15 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung
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DE3729034A1
(de)
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1987-08-31 |
1989-03-09 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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DE3820699A1
(de)
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1988-06-18 |
1989-12-21 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
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DE3940911A1
(de)
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1989-12-12 |
1991-06-13 |
Hoechst Ag |
Verfahren zur herstellung negativer kopien
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Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
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DE4003025A1
(de)
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1990-02-02 |
1991-08-08 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
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DE4004719A1
(de)
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1990-02-15 |
1991-08-22 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
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DE4137325A1
(de)
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1991-11-13 |
1993-05-19 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf der basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches material
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Agfa Nv |
An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
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