NL7906632A - AUTOMATIC BUNDLE CORRECTION IN VOICE. - Google Patents
AUTOMATIC BUNDLE CORRECTION IN VOICE. Download PDFInfo
- Publication number
- NL7906632A NL7906632A NL7906632A NL7906632A NL7906632A NL 7906632 A NL7906632 A NL 7906632A NL 7906632 A NL7906632 A NL 7906632A NL 7906632 A NL7906632 A NL 7906632A NL 7906632 A NL7906632 A NL 7906632A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- detector
- electron
- detector elements
- signals
- electron microscope
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/21—Means for adjusting the focus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2446—Position sensitive detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/24475—Scattered electron detectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24571—Measurements of non-electric or non-magnetic variables
- H01J2237/24578—Spatial variables, e.g. position, distance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/245—Detection characterised by the variable being measured
- H01J2237/24592—Inspection and quality control of devices
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
Description
w € i F- ·—· ·* PHN 9563 1w € i F- - - · * PHN 9563 1
N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven Automatische bundelcorrektie in STEMN.V. Philips' Incandescent lamp factories in Eindhoven Automatic beam correction in STEM
De uitvinding heeft betrekking op een elektronen-mikroskoop voorzien van, om een optische as gerangschikt, een elektronenoptiseh lenzenstelsel, een stigmator en een bundelaftastinrichting voor het aftasten van een object 5 met een elektronenbundel en van een detektor voor het detekteren van het object doordringende elektronen.The invention relates to an electron microscope comprising, arranged about an optical axis, an electron-optical lens system, a stigmator and a beam scanning device for scanning an object 5 with an electron beam and a detector for detecting the object penetrating electrons.
Een dergelijke elektronenmikroskoop is bekend uit het Amerikaanse octrooischrift no. 3833811. In een daarin beschreven elektronenmikroskoop wordt een object 10 afgetast en worden het object doordringende elektronen gedetekteerd.Such an electron microscope is known from US patent no. 3833811. In an electron microscope described therein, an object 10 is scanned and the object penetrating electrons are detected.
Uit metingen in een aldus gevormd beeld worden signalen gewonnen voor het instellen van het focus van de condensorlens en het astigmatisme van de stigmator.From measurements in an image thus formed, signals are obtained for adjusting the focus of the condenser lens and the astigmatism of the stigmator.
15 Beelden, opgenomen door twee onderscheiden detek- toren, worden op een monitor weeigegeven en door bijsturing van de bekrachtiging van de elektronenoptische elementen worden de twee beelden tot samenvallen gebracht, waardoor een optimale instelling van de elektronenbundel is bereikt.Images captured by two distinct detectors are displayed on a monitor, and by adjusting the excitation of the electron optical elements, the two images are brought together to achieve an optimum setting of the electron beam.
20 Het bezwaar van deze methode is, dat de mikroskopist de lensstroom steeds weer moet bijstellen en daartoe de nodige (X metingen moet verrichten. Hiermede gaat in de praktijk veel . tijd verloren en moet een object vaak gedurende een groot deel van de tL jd enkel bestraald worden voor het instellen 25 van de lenzen. Door optredende objectcontaminatie kan de eigenlijke waarneming dan veelal niet meer optimaal worden uitgevoerd.The drawback of this method is that the microscopist has to adjust the lens current time and again and has to take the necessary X measurements. In this way, a great deal of time is lost in practice and an object must often only be used for a large part of the time. irradiated for adjusting the lenses 25. Due to object contamination occurring, the actual observation can then usually no longer be optimally performed.
* De uitvinding beoogt deze bezwaren te ondervangen en daartoe heeft een elektronenmikroskoop van de in de aan-30 hef genoemde soort tot kenmerk, dat voor het meten van de beweging van een intensiteitspatroon dat door aftasten van een in het objectvlak gelegen struktuur in het detektie- 7906632 PHN 9563 2 vlak wordt gevormd, de detektor meerdere, onafhankelijk-.-uitleesbare detektorelementen bevat, die paarsgewijs door een elektronisch circuit selecteerbaar zijn, welk elektronisch circuit uit de detektorsignalen een regelsignaal S vormt voor minimalisering van defocussering en/of astig-matisme van het elektronenoptisch systeem.The object of the invention is to obviate these drawbacks, and for this purpose an electron microscope of the type mentioned in the preamble is characterized in that for measuring the movement of an intensity pattern which is detected in the detection by scanning a structure located in the object plane. 7906632 PHN 9563 2 is formed flat, the detector comprises a plurality of independently readable detector elements, which can be selected in pairs by an electronic circuit, the electronic circuit from the detector signals forming a control signal S for minimizing defocusing and / or astigmatism of the electron optical system.
Doordat in een elektronenmikroskoop volgens de uitvinding de instelling van de relevante lenzen en de stigmator voortdurend automatisch wordt geoptimaliseerd 10 behoeft het object niet extra te worden bestraald, De opgedeelde detektor wordt ook gebruikt voor de eigenlijke signaaldetektie en aan de elektronenmikroskoop behoeven dus geen additieve elementen voor de instelling toegevoegd te worden. Hierdoor wordt voorkomen dat extra onnauwkeurig-15 heden of storingen worden geïntroduceerd.Since in an electron microscope according to the invention the setting of the relevant lenses and the stigmator is continuously optimized automatically, the object does not need to be additionally irradiated. The divided detector is also used for the actual signal detection and therefore no electron elements are required for the electron microscope. the setting to be added. This prevents additional inaccuracies or malfunctions from being introduced.
In een voorkeursuitvoering van de elektronenmikroskoop bevat de detektor twee op enige afstand van elkaar, in eenzelfde detektorhelft gelegen, detektorelementen voor het meten van een signaal dat een maat is voor 20 de defocussering van een relevante lens van het elektronenoptisch systeem.In a preferred embodiment of the electron microscope, the detector comprises two spaced apart detector elements in the same detector half for measuring a signal which is a measure of the defocusing of a relevant lens of the electron optical system.
In een -verdere voorkeursuitvoering bevat de detektor meerdere paren detektorelementen voor het verkrijgen van signalen di'e een maat zijn voor hat astigmatis-25 me in de eLektronenbundel en waarmede het astigmatisme door bijstelling van de stigmator kan worden geminimaliseerd.In a further preferred embodiment, the detector comprises several pairs of detector elements for obtaining signals which are a measure of the astigmatism in the electron beam and with which the astigmatism can be minimized by adjusting the stigmator.
Bij voorkeur worden defocussering en astigmatisme tegelijkertijd automatisch gecorrigeerd bijvoorbeeld door het toepassen van een daartoe geprogrammeerde mikro-30 processor waarop de detektorelementen zijn aangesloten en die de gewenste combinatie uit de aangeboden detektorsignalen vormt en daaruit regelsignalen voor' beide correkties afleidt.Preferably, defocusing and astigmatism are automatically corrected at the same time, for example by applying a programmed microprocessor to which the detector elements are connected and which forms the desired combination from the offered detector signals and derives control signals from them for both corrections.
Aan de hand van de tekening zullen in het onder-staande enkele voorkeursuitvoeringen volgens de uitvinding nader worden beschreven. In de tekening toont, _ fig. 1 schematisch een elektronenmikroskoop 7906632 vm 9563 3 F * volgens de uitvinding voorzien van een detektor met meerdere onafhankelijk uitleesbare detektorelementen, fig. 2 een dergelijke detektor gezien vanuit de invallende elektronenbundel, g fig.3 een schematische weergave van een elek tronenbundel met defocussering en astigmatisme.Some preferred embodiments according to the invention will be described in more detail below with reference to the drawing. In the drawing, fig. 1 schematically shows an electron microscope 7906632 vm 9563 3 F * according to the invention provided with a detector with several independently readable detector elements, fig. 2 such a detector seen from the incident electron beam, fig. 3 a schematic view of an electron beam with defocusing and astigmatism.
Een elektronenmikroskoop zoals geschetst in fig.An electron microscope as outlined in fig.
1 bevat een elektronenbron 1 met een anode 2 en een bundelrichtsysteem (beam alignment) 3, een condensorlens 10 4, een stigmator 5, een objectieflens 6 een bundelaftast- systeem 7» een objectruimte 8 met een objectvlak 9» een diffractielens 10, een tussenlens 11, een projectielens 12, een filmcamera 13 en een detektor 14 met een signaalafvoer-leiding 15· Al deze onderdelen zijn opgenomen in een huis 15 16 met een toevoerleiding 17 voor de elektronenbron en met een kijkvenster 18 voor het bestuderen van een fluorescentie scherm 19· Aan-het huis kunnen verder een vakuumpompin-richting 20, een platencamera 21 en een televisiemonitor 22 zijn aangesloten. De detektor is verder verbonden met een 20 elektronisch circuit 23 waarop een regelcircuit 24 voor het elektronenoptisch stelsel, in het bijzonder voor de objec-tieflens 6 en voor de stigmator 5 is aangesloten.1 contains an electron source 1 with an anode 2 and a beam alignment system 3, a condenser lens 10 4, a stigmator 5, an objective lens 6 a beam scanning system 7 »an object space 8 with an object surface 9» a diffraction lens 10, an intermediate lens 11, a projection lens 12, a film camera 13 and a detector 14 with a signal output line 15. All these parts are housed in a housing 15 16 with a supply line 17 for the electron source and with a viewing window 18 for studying a fluorescent screen 19 Furthermore, a vacuum pump device 20, a plate camera 21 and a television monitor 22 can be connected to the house. The detector is further connected to an electronic circuit 23 to which a control circuit 24 for the electron optical system, in particular for the objective lens 6 and for the stigmator 5, is connected.
De detektor bevat in een uitvoeringsvorm voor het compenseren van enkel de defocussering, die terwille 25 van de duidelijkheid hier eerst wordt beschreven, ten minste twee detektorelementen 30 en 31 zoals aangegeven in fig. 2.In one embodiment for compensating only the defocusing, which is first described here for clarity, the detector includes at least two detector elements 30 and 31 as shown in FIG. 2.
De detektorelementen 30 en 31 liggen aan eenzelfde zijde van een als y-as aangegeven deellijn van 30 de detektor die hier overeenkomt.met de beeldrichting van een televisieaftastpatroon waarmede een object wordt afgetast. Een x-as,dwars op de y-as gericht, valt. derhalve samen met de lijnaftastrichting van het aftastpatroon.The detector elements 30 and 31 lie on the same side of a dividing line of the detector, indicated as y-axis, which corresponds here with the image direction of a television scanning pattern with which an object is scanned. An x axis, oriented transverse to the y axis, falls. therefore together with the line scanning direction of the scanning pattern.
De automatische instelling van de focussering op het ob-35 ject kan nu op de volgende wijze worden voorgesteld. Hierbij wordt de objectaftasting beschouwd als een beweging van het object ten opzichte van een stilstaande elektronen- 7906632 ί % ΡΗΝ 9563 4 bundel.The automatic focus adjustment on the object can now be represented in the following manner. Here, the object scan is considered to be a movement of the object relative to a stationary electron beam 7906632% 9563 4 beam.
Als een objectstruktuur met een snelheid s beweegt dwars op de stilstaand gedachte, dé struktuur doorstralende elektronenbundel, dan beweegt een intensiteits-5 patroon dat ontstaat·door interferentie van de ongestoorde elektronenbundel met een door de struktuur afgebogen elektronenbundel zich in een detektievlak mèt een snelheid v -1 die gegeven is door v = L.s.d · Hierin is L de afstand tussen het bundelfocus en het beeldvlak, of in geval zich 10 lensvelden tussen dat bundelfocus en het beeldvlak bevinden een quivalente afstand. De defocusseerafstand d gemeten ten opzichte van de struktuur in het objectvlak wordt bij onder-focussering positief en bij overfoc.ussering negatief gemeten. Bij onderfocussering ligt het focus voorbij het ob-15 ject en bij overfooussering voor het object gezien vanaf de elektronenbron. Uit de formule blijkt dan, dat v gelijkgericht is met de aftastrichting s bij onderfocussering en tegengesteld gericht daarmee is bij overfocussering.If an object structure moves at a speed s transverse to the stationary thought, the structure irradiating electron beam, then an intensity-5 pattern that arises due to interference of the undisturbed electron beam with an electron beam diffracted by the structure moves in a detection plane with a speed v -1 given by v = Lsd · Here L is the distance between the beam focus and the image plane, or in case there are 10 lens fields between that beam focus and the image plane, a quivalent distance. The defocusing distance d measured with respect to the structure in the object plane is measured positively with under-focusing and negatively with over-focusing. In under focusing, the focus is beyond the object and in over focusing for the object as seen from the electron source. It can then be seen from the formula that v is aligned with the scanning direction s with underfocusing and is opposite to it with overfocusing.
Het is hierbij gunstig om de struktuur van een altijd wel 20 aanwezig draagvlies voor het object als intensiteitspa-troon opwekkende struktuur te kiezen. Een op zich bekende methodiek om de beweging van een intensiteitspatroon te meten is het bepalen van het tijdverschil tussen de signalen van twee, op een zekere onderlinge afstand van elkaar 25 gelegen detektorelementen. Signalen s1 en s2 van de detek-torelementen 30 en 31 gelegen op een onderlinge afstand a in de x-richting vertonen bijvoorbeeld een tijdsverschil -1-1 t dat gegeven is door t = a.d. L s . Door t te meten -1 -1 wordt een waarde voor a.d.L v verkregen en met a, L en 30 v als vast gegeven een waarde voor d die toegevoerd aan een regelcircuit voor een relevante spotvormende lens van het elektronenoptsich systeem de defocussering opheft.It is advantageous here to select the structure of a carrying fleece for the object which is always present as the structure generating the intensity pattern. A method known per se to measure the movement of an intensity pattern is to determine the time difference between the signals of two detector elements, which are spaced apart from one another. For example, signals s1 and s2 of the detector elements 30 and 31 located at a mutual distance a in the x direction show a time difference -1-1 t which is given by t = a.d. L s. By measuring t -1 -1, a value for a.d.L v is obtained and, with a, L and 30 v as a fixed value, a value for d supplied to a control circuit for a relevant spot-forming lens of the electron optical system cancels defocusing.
Een optimale waarde voor de vertragingstijd tussen de signalen s1 en s2 kan worden verkregen door met 35 een maximale waarde van de. correlatiefunkties y = jsl(t).s2(t +<3t)dt de grootte en het teken van de bijbehorende waarde te bepalen. De gevonden <it is dan een maat voor het correktiesignaal. Het kan daarbij.An optimum value for the delay time between the signals s1 and s2 can be obtained by having a maximum value of the. correlation functions y = jsl (t) .s2 (t + <3t) dt determine the size and sign of the corresponding value. The found it is then a measure of the correction signal. It is possible.
7906632 . . * ΡΗΝ 9563 5 gunstig zijn, de detektor uit te voeren met meerdere paarsgewijs te koppelen detektorelementen die steeds beiden in eenzelfde detektorhelft zijn gelegen en een zekere onderlinge afstand in de x-richting hebben.7906632. . * ΡΗΝ 9563 5, it is advantageous to design the detector with a plurality of detector elements which can be coupled in pairs and which are each located in the same detector half and which have a certain mutual distance in the x direction.
5 Xn een verdere voorkeursuitvoering van een elek- tronenmikroskoop volgens de uitvinding wordt zowel de de-focussering als het astigmatisme van de elektronenbundel ter plaatse van het objectvlak opgeheven. Hiertoe bevat de detektor bij voorkeur een matrix van afzonderlijk uitlees-10 bare detektorelementen bijvoorbeeld gerangschikt in een orthogonaal stelsel van 5x5 elementen. Geheel analoog aan het bovenstaande kan met een dergelijke matrix een detektor-elementenpaar worden uitgekozen voor het verkrijgen van een de defocussering compenserend signaal.In a further preferred embodiment of an electron microscope according to the invention, both the de-focusing and the astigmatism of the electron beam at the object plane are canceled. For this purpose the detector preferably comprises a matrix of separately readable detector elements, for instance arranged in an orthogonal system of 5x5 elements. Entirely analogous to the above, with such a matrix, a detector element pair can be selected to obtain a defocus compensation signal.
15 In figuur 3 is. een elektronenbundel geschetst waarin zowel bundelastigmatisme als defocussering ten aanzien van het objectvlak optreedt.15 is in Figure 3. an electron beam outlined in which both beam astigmatism and defocusing of the object plane occur.
Dwars op een optsiche as 4o zijn ten opzichte van een x, y assenstelsel dat correspondeert met de aftastrich-20 tingen van de elektronenbundel over het object en waarbij de lijnrichting samenvalt met de x-ri diting en de beeld-richting samenvalt met de y-richting in de figuur aangegeven; in een vlak 41 een eerste brandlijn m van de astigmatische bundel en in een vlak 42 een tweede brandlijn n van de 25 astigmatische bundel. De vlakken 41 en 42 liggen op gelijke afstand aan weerszijden van een focus (nauwste doorsnede) 43 van de astigmatische bundel. Verder zijn aangegeven, een objectvlak 44 en een detektievlak 45.Transverse to an optical axis 4o with respect to an x, y coordinate system corresponding to the scanning directions of the electron beam across the object and the line direction coinciding with the x-direction and the image direction coinciding with the y- direction shown in the figure; in a plane 41 a first focal line m of the astigmatic beam and in a plane 42 a second focal line n of the astigmatic beam. The faces 41 and 42 are equidistant on either side of a focus (narrowest section) 43 of the astigmatic beam. Furthermore, an object plane 44 and a detection plane 45 are indicated.
In algemene vorm is het astigmatisme van een 30 stralenbundel gekarakteriseerd door een orientatiehoek van de onderling loodrechte brandlijnen m en n, bijvoorbeeld ten aanzien van het x, y assenkruis, en door een afstand 2p tussen de twee brandlijnen m en m, gemeten langs de optische as. Uit een algemene formulering voor het astig-35 matisme blijkt, dat de door de objectaftasting opgewekte beweging van het intensiteitspatroon in het detektievlak, bij aftasten van het object met de x-as als lijnaftast- 7906632In general form, the astigmatism of a beam of rays is characterized by an orientation angle of the mutually perpendicular focal lines m and n, for example with respect to the x, y axes cross, and by a distance 2p between the two focal lines m and m, measured along the optical as. A general formulation for astig-35 matism shows that the movement of the intensity pattern in the detection plane generated by the object scan, when scanning the object with the x-axis as line scan, 7906632
t Jt J
PHN 9563 6 richting, een component in de y-richting heeft indien de elektronenbundel scheef georienteerd astigmatisme vertoont; dus indien het m, n assenkruis niet samenvalt met het x, y assenkruis. Ook voor het korrigeren van zowel de defocus-5 sering als het astigmatisme kan het bewegingspatroon in het detektievlak als instelcriterium dienen.· Uit algemene formulering van het bewegingspatroon kan worden afgeleid, dat bij langs de x-as gerichte objectaftasting voor de snelheden Ux in de x-richting en Uy in de y-richting in het 10 detektievlak geldt:PHN 9563 6 direction, has a component in the y direction if the electron beam exhibits skewed astigmatism; so if the m, n axes cross does not coincide with the x, y axes cross. The motion pattern in the detection plane can also serve as a setting criterion for correcting both the defocusing and the astigmatism. · From the general formulation of the motion pattern, it can be deduced that with object scanning along the x axis for the velocities Ux in the x-direction and Uy in the y-direction in the plane of detection holds:
Ux = - Ls (d + p cos (d2-p2) ^Ux = - Ls (d + p cos (d2-p2) ^
Uy = - Ls p sin 2et (d2'-p2 ) ^Uy = - Ls p sin 2et (d2'-p2) ^
Uit deze bewegingsformule kunnen -zowel Ux als Uy &tömen worden bepaald met gebruikmaking van tijdsverschilmetingen 15 van respectievelijk in de x-richting en in de y-richting ten opzichte van elkaar verschoven gesitueerde detektor-elementenparen.From this motion formula, both Ux and Uy & toms can be determined using time difference measurements of detector element pairs positioned in the x direction and in the y direction, respectively.
Als eerste stap in de korrektie-procedure wordt nu een opvolgende reeks d-waarden gerealiseerd (through focus 20 series) door de bekrachtiging van de relevante lens continu of stapsgewijs te variëren. Uit de bewegingsvergelijking volgt nu, dat het teken van Ux en Uy simultaan omkeert v-oor respectievelijk d= d1= -jp| en d= d2= +j;p| Bij d= d3= -p «*4.As a first step in the correction procedure, a successive series of d values (through focus 20 series) is now realized by varying the excitation of the relevant lens continuously or stepwise. From the equation of motion it now follows that the sign of Ux and Uy simultaneously reverses for d = d1 = -jp | and d = d2 = + j; p | At d = d3 = -p «* 4.
cos 2d treedt daarentegen alleen tekenomkering voor Ux op.cos 2d, on the other hand, only causes character reversal for Ux.
25 Door de lensbekrachtiging in te stellen op het rekenkundig gemiddelde van de twee stroomwaarden behorende bij de lensbekrachtiging voor respectievelijk d, en d^ is de optimale focussering met d=0 bereikt.By adjusting the lens excitation to the arithmetic mean of the two current values associated with the lens excitation for d, and d ^, respectively, the optimum focusing with d = 0 has been achieved.
In een door een microprocessor gestuurde automatische 30 korrekt ie schakeling is het gunstig gebruik te maken van de lineaire afhankelijkheid van d van de lensstroom en van het feit dat zowel £p| als p cos 2eC een direkte samenhang met de bij de onderscheiden d-waarden behorende lensstroom-waarden tonen en het teken van p eenduidig samenhangt met het teken van Uy.In a microprocessor-controlled automatic correction circuit, it is advantageous to take advantage of the linear dependence of d on the lens current and the fact that both £ p | if p cos 2eC show a direct correlation with the lens current values associated with the distinguished d-values and the sign of p is unambiguously related to the sign of Uy.
Het korrigeren van astigmatisme kan in twee stappen worden gerealiseerd. In een eerste stap wordt diagonaal 79 0 6 6 3 2 ........Correcting astigmatism can be done in two steps. In a first step, diagonal 79 0 6 6 3 2 ........
OO
PHN 9563 7 astigmatisme toegevoegd ten einde de oriëntatie van het astigmatisme, dus de oriëntatie van het m, n assenkruis, te doen samenvallen met het x, y assenkruis. XJit het bewegingspatroon is de grootte van het diagonaal astigmatisme 5 bekend waarbij, voor een extra check de tekenomkering van Uy gebruikt kan worden. Als de oriëntatie van het astigmatisme tot samenvallen met het x, y assehkruis is gebracht, worden in een tweede stap de afstanden p tot nul gereduceerd door toevoeging van x-as gericht astigmatisme met 10 een sterkte van -p cos 2cc, waarbij de tekenomkering van Ux als check kan worden gebruikt. Na uitvoering van de opvolgende korrektiestappen is de elektronenbundel optimaal gefocusseerd en vrij van astigmatisme. De korrektie kan worden geprogrammeerd voor een microprocessor schakeling en 15 bij voortduring tijdens normale metingen worden doorgevoerd. Hierbij kan gebruik gemaakt worden van de te meten beeldvorming zonder dat deze daardoor op enigerlei wijze wordt verstoord. Een gunstige lens voor het uitvoeren van de korrekties is beschreven in J. Phys. D Appl. Physies vol.PHN 9563 7 Astigmatism added to make the orientation of the astigmatism, i.e. the orientation of the m, n axes cross, coincide with the x, y axes cross. X The motion pattern is known as the size of the diagonal astigmatism 5, whereby for an additional check the Uy sign reversal can be used. When the orientation of the astigmatism is brought to coincide with the x, y axis cross, in a second step the distances p are reduced to zero by adding x axis directed astigmatism with a magnitude of -p cos 2cc, with the sign inversion of Ux can be used as a check. After the subsequent correction steps have been carried out, the electron beam is optimally focused and free from astigmatism. The correction can be programmed for a microprocessor circuit and continuously carried out during normal measurements. Use can herein be made of the image to be measured without being disturbed thereby in any way. A favorable lens for performing the corrections is described in J. Phys. D Appl. Physies vol.
20 7, (197*0 PP* 805-814.20 7, (197 * 0 PP * 805-814.
25 30 35 790663225 30 35 7906632
Claims (7)
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL7906632A NL7906632A (en) | 1979-09-05 | 1979-09-05 | AUTOMATIC BUNDLE CORRECTION IN VOICE. |
| DE19803032818 DE3032818A1 (en) | 1979-09-05 | 1980-08-30 | X-RAY SCREEN ELECTRON MICROSCOPE WITH AUTOMATIC BEAM CORRECTION |
| GB8028209A GB2059120B (en) | 1979-09-05 | 1980-09-01 | Automatic beam correction in a scanning transmission electron microscope |
| FR8019038A FR2464558A1 (en) | 1979-09-05 | 1980-09-03 | ELECTRONIC MICROSCOPE WITH AUTOMATIC BEAM CORRECTION |
| CA000359606A CA1153131A (en) | 1979-09-05 | 1980-09-05 | Automatic beam correction in a scanning transmission electron microscope |
| US06/184,561 US4379230A (en) | 1979-09-05 | 1980-09-05 | Automatic beam correction in a scanning transmission electron microscope |
| JP12340580A JPS5673853A (en) | 1979-09-05 | 1980-09-05 | Method and device for automatically correcting electron microscope |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL7906632A NL7906632A (en) | 1979-09-05 | 1979-09-05 | AUTOMATIC BUNDLE CORRECTION IN VOICE. |
| NL7906632 | 1979-09-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL7906632A true NL7906632A (en) | 1981-03-09 |
Family
ID=19833784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL7906632A NL7906632A (en) | 1979-09-05 | 1979-09-05 | AUTOMATIC BUNDLE CORRECTION IN VOICE. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4379230A (en) |
| JP (1) | JPS5673853A (en) |
| CA (1) | CA1153131A (en) |
| DE (1) | DE3032818A1 (en) |
| FR (1) | FR2464558A1 (en) |
| GB (1) | GB2059120B (en) |
| NL (1) | NL7906632A (en) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4567369A (en) * | 1982-06-18 | 1986-01-28 | National Research Development Corporation | Correction of astigmatism in electron beam instruments |
| GB2123582B (en) * | 1982-06-18 | 1986-01-29 | Nat Res Dev | Correction of astigmatism in electron beam instruments |
| NL8304217A (en) * | 1983-12-07 | 1985-07-01 | Philips Nv | AUTOMATICALLY ADJUSTABLE ELECTRON MICROSCOPE. |
| JPS60147117A (en) * | 1984-01-10 | 1985-08-03 | Fujitsu Ltd | Method for adjustment of electron beam device |
| US4948971A (en) * | 1988-11-14 | 1990-08-14 | Amray Inc. | Vibration cancellation system for scanning electron microscopes |
| US5300776A (en) * | 1992-09-16 | 1994-04-05 | Gatan, Inc. | Autoadjusting electron microscope |
| DE19802848B4 (en) * | 1998-01-26 | 2012-02-02 | Display Products Group,Inc. | Method and apparatus for testing a substrate |
| EP1428006B1 (en) * | 2001-01-26 | 2012-10-03 | Fei Company | Method and apparatus for scanned instrument calibration |
| US6770867B2 (en) | 2001-06-29 | 2004-08-03 | Fei Company | Method and apparatus for scanned instrument calibration |
| EP1783811A3 (en) * | 2005-11-02 | 2008-02-27 | FEI Company | Corrector for the correction of chromatic aberrations in a particle-optical apparatus |
| US20070134513A1 (en) * | 2005-12-13 | 2007-06-14 | Binney & Smith | Chemiluminescent system |
| EP1953791A1 (en) * | 2007-02-05 | 2008-08-06 | FEI Company | Apparatus for observing a sample with a particle beam and an optical microscope |
| EP2325862A1 (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-25 | Fei Company | Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens |
| EP2511936B1 (en) | 2011-04-13 | 2013-10-02 | Fei Company | Distortion free stigmation of a TEM |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3576438A (en) * | 1969-04-28 | 1971-04-27 | Bell Telephone Labor Inc | Focus monitor for electron microscope including an auxiliary electron gun and focusing lens |
| JPS5433195B2 (en) * | 1972-05-16 | 1979-10-18 | ||
| JPS4919627A (en) * | 1972-06-14 | 1974-02-21 | ||
| JPS521869B2 (en) * | 1972-07-11 | 1977-01-18 | ||
| US4038543A (en) * | 1975-07-08 | 1977-07-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Scanning transmission electron microscope including an improved image detector |
| DE2542356C2 (en) * | 1975-09-19 | 1977-10-20 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Method for focusing the objective lens of a corpuscular transmission scanning microscope and device for automatic implementation of the method, as well as application |
| DE2619739A1 (en) * | 1976-04-30 | 1977-11-10 | Max Planck Gesellschaft | Transmission scanning corpuscular microscope - has filter provided with modifying signals which are linked and collected synchronously with scanning |
| JPS5492050A (en) * | 1977-12-29 | 1979-07-20 | Jeol Ltd | Method and apparatus for astigmatic correction of scanning electronic microscope and others |
| US4162403A (en) * | 1978-07-26 | 1979-07-24 | Advanced Metals Research Corp. | Method and means for compensating for charge carrier beam astigmatism |
-
1979
- 1979-09-05 NL NL7906632A patent/NL7906632A/en not_active Application Discontinuation
-
1980
- 1980-08-30 DE DE19803032818 patent/DE3032818A1/en active Granted
- 1980-09-01 GB GB8028209A patent/GB2059120B/en not_active Expired
- 1980-09-03 FR FR8019038A patent/FR2464558A1/en active Granted
- 1980-09-05 CA CA000359606A patent/CA1153131A/en not_active Expired
- 1980-09-05 JP JP12340580A patent/JPS5673853A/en active Granted
- 1980-09-05 US US06/184,561 patent/US4379230A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1153131A (en) | 1983-08-30 |
| US4379230A (en) | 1983-04-05 |
| DE3032818A1 (en) | 1981-04-02 |
| FR2464558A1 (en) | 1981-03-06 |
| GB2059120A (en) | 1981-04-15 |
| DE3032818C2 (en) | 1991-06-20 |
| FR2464558B1 (en) | 1983-12-30 |
| JPS5673853A (en) | 1981-06-18 |
| JPH0122705B2 (en) | 1989-04-27 |
| GB2059120B (en) | 1983-07-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8975582B2 (en) | Method and apparatus for reviewing defects | |
| US6825454B2 (en) | Automatic focusing device for an optical appliance | |
| US4953188A (en) | Method and device for producing phase-contrast images | |
| KR100685574B1 (en) | Apparatus and method for evaluating a large target relative to the measuring hole of the sensor | |
| US6333510B1 (en) | Electron beam exposure or system inspection of measurement apparatus and its method and height detection apparatus | |
| NL7906632A (en) | AUTOMATIC BUNDLE CORRECTION IN VOICE. | |
| US4990776A (en) | Electron microscope | |
| JP2563134B2 (en) | Scanning transmission type phase contrast electron microscope | |
| JPH0723844B2 (en) | Surface shape measuring instrument | |
| CN106233125A (en) | Copolymerization focal line detection optical system | |
| US4800269A (en) | Scanning type optical microscope | |
| US6717125B2 (en) | Arrangement and method for focus monitoring in a microscope with digital image generation, preferably in a confocal microscope | |
| JPH0713707B2 (en) | Scanning optical microscope | |
| US3971936A (en) | Corpuscular beam microscope, particularly electron microscope, with adjusting means for changing the position of the object to be imaged or the image of the object | |
| JPS63131116A (en) | Confocal microscope | |
| JPS606293A (en) | Method and apparatus for aligning focus of light to object | |
| US6370221B2 (en) | Method of setting a position of an object of measurement in layer thickness measurement by X-ray fluorescence | |
| JP2002203507A (en) | Concavoconvex image forming device and electron beam analyzer | |
| EP3379557A1 (en) | Scanning transmission electron microscope and method for high throughput acquisition of electron scattering angle distribution images | |
| WO2022162881A1 (en) | Defect inspection device | |
| JPS61163314A (en) | Scan microscope | |
| NL8602175A (en) | METHOD FOR BUNDLE CENTERING. | |
| JP6523992B2 (en) | Image acquisition method, image acquisition apparatus and scanning microscope | |
| JPH01149354A (en) | Electron microscope | |
| KR20230149932A (en) | Apparatus and method for measuring a focal length |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1B | A search report has been drawn up | ||
| BV | The patent application has lapsed |