NL7608283A - Werkwijze voor het bereiden van een ontwikke- laar die toegepast kan worden bij een litho- grafisch druksysteem. - Google Patents

Werkwijze voor het bereiden van een ontwikke- laar die toegepast kan worden bij een litho- grafisch druksysteem.

Info

Publication number
NL7608283A
NL7608283A NL7608283A NL7608283A NL7608283A NL 7608283 A NL7608283 A NL 7608283A NL 7608283 A NL7608283 A NL 7608283A NL 7608283 A NL7608283 A NL 7608283A NL 7608283 A NL7608283 A NL 7608283A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
developer
preparing
procedure
printing system
graphic printing
Prior art date
Application number
NL7608283A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Mitsubishi Chem Ind
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chem Ind filed Critical Mitsubishi Chem Ind
Publication of NL7608283A publication Critical patent/NL7608283A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325—Non-aqueous compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
NL7608283A 1975-07-31 1976-07-27 Werkwijze voor het bereiden van een ontwikke- laar die toegepast kan worden bij een litho- grafisch druksysteem. NL7608283A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50093467A JPS5217901A (en) 1975-07-31 1975-07-31 Developer for lithographic press plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7608283A true NL7608283A (nl) 1977-02-02

Family

ID=14083130

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7608283A NL7608283A (nl) 1975-07-31 1976-07-27 Werkwijze voor het bereiden van een ontwikke- laar die toegepast kan worden bij een litho- grafisch druksysteem.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4267260A (nl)
JP (1) JPS5217901A (nl)
DE (1) DE2634434A1 (nl)
FR (1) FR2319923A1 (nl)
GB (1) GB1536047A (nl)
NL (1) NL7608283A (nl)
SE (1) SE7608622L (nl)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5587151A (en) * 1978-12-25 1980-07-01 Mitsubishi Chem Ind Ltd Developing solution composition for lithographic printing plate
DE3012522A1 (de) * 1980-03-31 1981-10-08 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
DE3039110A1 (de) * 1980-10-16 1982-05-13 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren fuer die spannungsfreie entwicklung von bestrahlten polymethylmetacrylatschichten
US4628023A (en) * 1981-04-10 1986-12-09 Shipley Company Inc. Metal ion free photoresist developer composition with lower alkyl quaternary ammonium hydrozide as alkalai agent and a quaternary ammonium compound as surfactant
US4351895A (en) * 1981-10-19 1982-09-28 American Hoechst Corporation Deletion fluid for positive printing plates
JPS6097358A (ja) * 1983-11-01 1985-05-31 Nippon Seihaku Kk 感光性平版印刷版用現像剤
JPS60130741A (ja) * 1983-12-19 1985-07-12 Nippon Seihaku Kk 感光性平版印刷版用現像剤
EP0149490B2 (en) * 1984-01-17 1993-12-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer
US5143814A (en) * 1984-06-11 1992-09-01 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate
US5066561A (en) * 1984-06-11 1991-11-19 Hoechst Celanese Corporation Method for producing and using a positive photoresist with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate
US4665009A (en) * 1984-07-10 1987-05-12 Hughes Aircraft Company Method of developing radiation sensitive negative resists
US5354645A (en) * 1988-08-23 1994-10-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for the production of flexographic printing reliefs
AU628399B2 (en) * 1988-08-23 1992-09-17 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for the production of flexographic printing reliefs
GB2226150A (en) * 1988-12-15 1990-06-20 Nordisk Tidningsplat Ab A developer for use with lithographic printing plates
US5204227A (en) * 1990-05-10 1993-04-20 3D Agency, Inc. Method of developing photopolymerizable printing plates and composition therefor
EP0501546A1 (en) * 1991-02-26 1992-09-02 Agfa-Gevaert N.V. High contrast developer containing an aprotic solvent
US5780406A (en) * 1996-09-06 1998-07-14 Honda; Kenji Non-corrosive cleaning composition for removing plasma etching residues
US6162593A (en) * 1999-10-26 2000-12-19 Wyatt; Marion F. Diisopropylbenzene containing solvent and method of developing flexographic printing plates
US6413923B2 (en) * 1999-11-15 2002-07-02 Arch Specialty Chemicals, Inc. Non-corrosive cleaning composition for removing plasma etching residues
TWI276929B (en) * 2003-12-16 2007-03-21 Showa Denko Kk Photosensitive composition remover
US20060040218A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Wyatt Marion F Terpene ether solvents

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2670286A (en) * 1951-01-20 1954-02-23 Eastman Kodak Co Photosensitization of polymeric cinnamic acid esters
BE525225A (nl) * 1951-08-20
US3796602A (en) * 1972-02-07 1974-03-12 Du Pont Process for stripping polymer masks from circuit boards

Also Published As

Publication number Publication date
US4267260A (en) 1981-05-12
JPS5217901A (en) 1977-02-10
FR2319923A1 (fr) 1977-02-25
JPS5430321B2 (nl) 1979-09-29
GB1536047A (en) 1978-12-20
DE2634434A1 (de) 1977-02-10
SE7608622L (sv) 1977-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7608283A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een ontwikke- laar die toegepast kan worden bij een litho- grafisch druksysteem.
NL159043B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lithografische drukplaat.
NL7509530A (nl) Inrichting voor het bedrukken van voorwerpen.
NL164580C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotopolymeriseer- baar mengsel.
NL7507595A (nl) Werkwijze voor het verwerken van gegevens voor het vervaardigen van een drukvorm en inrichting voor het toepassen van de werkwijze.
NL7602583A (nl) Werkwijze en inrichting voor het drukken van geseg- menteerde tekens.
NL187844C (nl) Inrichting voor het bewerken van drukwerken.
NL7605464A (nl) Inrichting voor het opwekken van tekens.
NL167897C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van gerasterde drukvormen overeenkomstig een beeldorigineel.
NL7612005A (nl) Werkwijze voor het vergroten van het contactop- pervlak in een meerfasestelsel en inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL7602776A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een farmaceuti- sche formulering met retardeffect.
NL7611121A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een emulsie.
NL7612349A (nl) Inrichting voor het drukken van verschillende lettersoorten.
NL7603090A (nl) Werkwijze en inrichting voor het nauwkeurig posi- tioneren van het begin en het einde van de repro- duktie bij een graveerstelsel.
NL7501065A (nl) Machine voor het afgeven van kranten en soort- ke voorwerpen.
NL7505878A (nl) Werkwijze voor het bereiden en toepassen van bifenylylderivaten.
NL7416394A (nl) Inrichting voor het afdunnen van skeletkarak- ters.
NL176067B (nl) Werkwijze en inrichting voor de bereiding van een mengsel, dat bij de fabricage van silicaten gebruikt kan worden.
NL182159C (nl) Werkwijze voor het bereiden van neerslagkiezelzuren en silicaten.
NL7604261A (nl) Kern voor toepassing bij het opspoelen van bladmaterialen.
NL155045B (nl) Werkwijze voor het bereiden van organosiliciumpreparaten en de onder toepassing van deze preparaten van een antiadhesielaag voorziene voorwerpen.
NL177213C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een geurverdrijvend en transpiratieremmend cosmetisch preparaat alsmede werkwijze voor het bereiden van voor toepassing in dergelijke preparaten geschikte bis (n-oxypyrid-2-yl-thio)aluminiumderivaten.
NL143176B (nl) Verbetering van de werkwijze voor het bereiden van een lak voor drukplaten en drukplaten, vervaardigd met een aldus bereide lak.
NL175727C (nl) Werkwijze voor het bereiden van gemodificeerde cyclopentadieenharsen en drukinkten, waarin deze harsen worden toegepast.
NL7411129A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bewerken van een groot voorwerp.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed