NL7608160A - Werkwijze voor het invoeren van toevoegingen in een halfgeleidend substraat. - Google Patents
Werkwijze voor het invoeren van toevoegingen in een halfgeleidend substraat.Info
- Publication number
- NL7608160A NL7608160A NL7608160A NL7608160A NL7608160A NL 7608160 A NL7608160 A NL 7608160A NL 7608160 A NL7608160 A NL 7608160A NL 7608160 A NL7608160 A NL 7608160A NL 7608160 A NL7608160 A NL 7608160A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- importing
- additions
- semiconductive substrate
- semiconductive
- substrate
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/22—Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities
- H01L21/225—Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities using diffusion into or out of a solid from or into a solid phase, e.g. a doped oxide layer
- H01L21/2251—Diffusion into or out of group IV semiconductors
- H01L21/2254—Diffusion into or out of group IV semiconductors from or through or into an applied layer, e.g. photoresist, nitrides
- H01L21/2255—Diffusion into or out of group IV semiconductors from or through or into an applied layer, e.g. photoresist, nitrides the applied layer comprising oxides only, e.g. P2O5, PSG, H3BO3, doped oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/74—Making of localized buried regions, e.g. buried collector layers, internal connections substrate contacts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/76—Making of isolation regions between components
- H01L21/761—PN junctions
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/043—Dual dielectric
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/085—Isolated-integrated
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Element Separation (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB31358/75A GB1503223A (en) | 1975-07-26 | 1975-07-26 | Formation of buried layers in a substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7608160A true NL7608160A (nl) | 1977-01-28 |
Family
ID=10321924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL7608160A NL7608160A (nl) | 1975-07-26 | 1976-07-22 | Werkwijze voor het invoeren van toevoegingen in een halfgeleidend substraat. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4092185A (nl) |
JP (1) | JPS5252367A (nl) |
AU (1) | AU499569B2 (nl) |
DE (1) | DE2633134A1 (nl) |
GB (1) | GB1503223A (nl) |
NL (1) | NL7608160A (nl) |
ZA (1) | ZA764270B (nl) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2472268A1 (fr) * | 1979-12-21 | 1981-06-26 | Thomson Csf | Procede de formation de caisson dans des circuits integres |
DE19908400A1 (de) * | 1999-02-26 | 2000-09-07 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Herstellung hochdotierter Halbleiterbauelemente |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2804405A (en) * | 1954-12-24 | 1957-08-27 | Bell Telephone Labor Inc | Manufacture of silicon devices |
DE1444521B2 (de) * | 1962-02-01 | 1971-02-25 | Siemens AG, 1000 Berlin u 8000 München | Verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung |
GB1047388A (nl) * | 1962-10-05 | |||
US3293087A (en) * | 1963-03-05 | 1966-12-20 | Fairchild Camera Instr Co | Method of making isolated epitaxial field-effect device |
US3327182A (en) * | 1965-06-14 | 1967-06-20 | Westinghouse Electric Corp | Semiconductor integrated circuit structure and method of making the same |
US3481801A (en) * | 1966-10-10 | 1969-12-02 | Frances Hugle | Isolation technique for integrated circuits |
NL6709192A (nl) * | 1967-07-01 | 1969-01-03 | ||
NL140657B (nl) * | 1968-06-21 | 1973-12-17 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting door een diffusiebehandeling en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. |
US3730787A (en) * | 1970-08-26 | 1973-05-01 | Bell Telephone Labor Inc | Method of fabricating semiconductor integrated circuits using deposited doped oxides as a source of dopant impurities |
JPS5513134B2 (nl) * | 1972-05-01 | 1980-04-07 | ||
US3867204A (en) * | 1973-03-19 | 1975-02-18 | Motorola Inc | Manufacture of semiconductor devices |
JPS5815935B2 (ja) * | 1973-09-14 | 1983-03-28 | セイコーエプソン株式会社 | ハンドウタイソウチノセイゾウホウホウ |
-
1975
- 1975-07-26 GB GB31358/75A patent/GB1503223A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-07-19 ZA ZA764270A patent/ZA764270B/xx unknown
- 1976-07-19 US US05/706,459 patent/US4092185A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-07-22 NL NL7608160A patent/NL7608160A/nl not_active Application Discontinuation
- 1976-07-23 DE DE19762633134 patent/DE2633134A1/de not_active Ceased
- 1976-07-26 JP JP51088972A patent/JPS5252367A/ja active Pending
- 1976-07-28 AU AU16322/76A patent/AU499569B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU1632276A (en) | 1978-02-02 |
GB1503223A (en) | 1978-03-08 |
JPS5252367A (en) | 1977-04-27 |
DE2633134A1 (de) | 1977-02-10 |
ZA764270B (en) | 1977-07-27 |
AU499569B2 (en) | 1979-04-26 |
US4092185A (en) | 1978-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL176818C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL7613204A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL7602760A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL177094C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een verpakking. | |
NL7613472A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een brij. | |
NL7614578A (nl) | Werkwijze voor het modificeren van polyvinylideen- fluoride. | |
NL7603446A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL185690C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakdrukvorm. | |
NL184694C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL186478C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL7602783A (nl) | Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van hechtomslagen. | |
NL182818C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL7613440A (nl) | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting. | |
NL7605927A (nl) | Inrichting en werkwijze voor het behandelen van een oppervlak. | |
NL7601485A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel- versterker en een wasmiddel. | |
NL7611339A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL7601487A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL7509464A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting. | |
NL7505134A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting. | |
NL7614177A (nl) | Werkwijze voor het vormen van een tunnel en daar- bij toegepaste tunnelvormmachine. | |
NL186524C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL166638C (nl) | Werkwijze en bank voor het vervaardigen van gevormde elementen. | |
NL7612483A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een metal- lisering op een substraat. | |
NL184911C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel. | |
NL7608179A (nl) | Werkwijze voor het alkyleren van naftaleen. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |