NL2021774A - Metrology apparatus - Google Patents
Metrology apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- NL2021774A NL2021774A NL2021774A NL2021774A NL2021774A NL 2021774 A NL2021774 A NL 2021774A NL 2021774 A NL2021774 A NL 2021774A NL 2021774 A NL2021774 A NL 2021774A NL 2021774 A NL2021774 A NL 2021774A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- radiation
- optical system
- illumination
- metrology tool
- substrate
- Prior art date
Links
Claims (7)
1/7
Figure 2
1. Een lithografieinrichting omvattende:
een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel;
2/7
Figure 3
3/7 •134
Figure 4
4/7 o
CN
5/7
Figure 6
5 een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel;
een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een
10 doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
6/7
Figure 7
7/7 o o
Figure 8
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP18177431 | 2018-06-13 | ||
| EP18189926.1A EP3614207A1 (en) | 2018-08-21 | 2018-08-21 | Metrology apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL2021774A true NL2021774A (en) | 2018-11-07 |
Family
ID=65235592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL2021774A NL2021774A (en) | 2018-06-13 | 2018-10-08 | Metrology apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| NL (1) | NL2021774A (nl) |
-
2018
- 2018-10-08 NL NL2021774A patent/NL2021774A/en unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8724087B2 (en) | Inspection apparatus for lithography | |
| TWI551957B (zh) | 檢查方法和裝置，微影裝置，微影製程單元及器件製造方法 | |
| US11940739B2 (en) | Metrology apparatus | |
| TW202004356A (zh) | 判定一結構之一特性的方法及度量衡設備 | |
| US11549806B2 (en) | Metrology apparatus | |
| US8994921B2 (en) | Scatterometer and lithographic apparatus | |
| TW200821770A (en) | Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization | |
| EP3696606A1 (en) | A metrology apparatus with radiation source having multiple broadband outputs | |
| WO2020249332A1 (en) | Metrology method and method for training a data structure for use in metrology | |
| EP3614207A1 (en) | Metrology apparatus | |
| US20220276180A1 (en) | Illumination and detection apparatus for a metrology apparatus | |
| US11675276B2 (en) | Metrology apparatus and photonic crystal fiber | |
| EP3731018A1 (en) | A method for re-imaging an image and associated metrology apparatus | |
| NL2021774A (en) | Metrology apparatus | |
| US20110102774A1 (en) | Focus Sensor, Inspection Apparatus, Lithographic Apparatus and Control System | |
| EP3620857A1 (en) | Metrology apparatus | |
| US11454887B2 (en) | Metrology apparatus and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate | |
| WO2024033036A1 (en) | Metrology method and associated metrology device | |
| WO2024028046A1 (en) | Sensor module, illuminator, metrology device and associated metrology method | |
| WO2024033035A1 (en) | Metrology method and associated metrology device | |
| NL2023181A (en) | Detection apparatus for simultaneous acquisition of multiple diverse images of an object | |
| NL2023305A (en) | Metrology method and method for training a data structure for use in metrology | |
| NL2022997A (en) | A method for re-imaging an image and associated metrology apparatus |