Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filedlitigationCriticalhttps://patents.darts-ip.com/?family=65237577&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NL2021607(A)"Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Asml Netherlands BvfiledCriticalAsml Netherlands Bv
Priority to NL2021607ApriorityCriticalpatent/NL2021607A/en
Publication of NL2021607ApublicationCriticalpatent/NL2021607A/en
een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel;
5 een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel;
een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een
10 doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
1/6
2/6
3/6
4/6
I
Im
Ιλ2
NL2021607A2018-09-122018-09-12Metrology apparatus and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate
NL2021607A
(en)
Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method, substrate for use in the methods