NL2011652A - Gripper, lithographic apparatus, method of thermally conditioning a substrate, and device manufacturing method. - Google Patents

Gripper, lithographic apparatus, method of thermally conditioning a substrate, and device manufacturing method. Download PDF

Info

Publication number
NL2011652A
NL2011652A NL2011652A NL2011652A NL2011652A NL 2011652 A NL2011652 A NL 2011652A NL 2011652 A NL2011652 A NL 2011652A NL 2011652 A NL2011652 A NL 2011652A NL 2011652 A NL2011652 A NL 2011652A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
substrate
gripper
support
temperature
channel
Prior art date
Application number
NL2011652A
Other languages
English (en)
Inventor
Martinus Cuijpers
Raimond Visser
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Publication of NL2011652A publication Critical patent/NL2011652A/en

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (1)

1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2011652A 2012-11-30 2013-10-21 Gripper, lithographic apparatus, method of thermally conditioning a substrate, and device manufacturing method. NL2011652A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261732158P 2012-11-30 2012-11-30
US201261732158 2012-11-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2011652A true NL2011652A (en) 2014-06-04

Family

ID=51844915

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2011652A NL2011652A (en) 2012-11-30 2013-10-21 Gripper, lithographic apparatus, method of thermally conditioning a substrate, and device manufacturing method.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2011652A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11650511B2 (en) Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
US11300890B2 (en) Lithographic apparatus, support table for a lithographic apparatus and device manufacturing method
US10191395B2 (en) Thermal conditioning unit, lithographic apparatus and device manufacturing method
US9798253B2 (en) Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
US9715182B2 (en) Lithographic apparatus, substrate support system, device manufacturing method and control program
EP3049869B1 (en) Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
NL2009858A (en) Substrate holder, lithographic apparatus, and device manufacturing method.
NL2009689A (en) Support, lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2006514A (en) Apparatus and method for contactless handling of an object.
NL2010934A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method.
US9904177B2 (en) Fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
US20170131644A1 (en) Lithographic apparatus and a method of manufacturing a device using a lithographic apparatus
NL2011652A (en) Gripper, lithographic apparatus, method of thermally conditioning a substrate, and device manufacturing method.
TW202236378A (zh) 夾持器及包括夾持器之微影設備
NL1036181A1 (nl) A lithographic apparatus, a projection system and a device manufacturing method.
NL2010465A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method.

Legal Events

Date Code Title Description
WDAP Patent application withdrawn

Effective date: 20141127