NL2006550A - Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method. - Google Patents

Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method. Download PDF

Info

Publication number
NL2006550A
NL2006550A NL2006550A NL2006550A NL2006550A NL 2006550 A NL2006550 A NL 2006550A NL 2006550 A NL2006550 A NL 2006550A NL 2006550 A NL2006550 A NL 2006550A NL 2006550 A NL2006550 A NL 2006550A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
radiation
reflector
rotatably mounted
laser
mounted reflector
Prior art date
Application number
NL2006550A
Other languages
English (en)
Inventor
Erik Loopstra
Gerardus Swinkels
Erik Buurman
Uwe Stamm
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Priority to NL2006550A priority Critical patent/NL2006550A/en
Publication of NL2006550A publication Critical patent/NL2006550A/en

Links

Claims (1)

1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2006550A 2011-04-06 2011-04-06 Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method. NL2006550A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2006550A NL2006550A (en) 2011-04-06 2011-04-06 Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2006550 2011-04-06
NL2006550A NL2006550A (en) 2011-04-06 2011-04-06 Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2006550A true NL2006550A (en) 2011-05-17

Family

ID=44185678

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2006550A NL2006550A (en) 2011-04-06 2011-04-06 Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2006550A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102072064B1 (ko) 방사선 소스
NL2009372A (en) Methods to control euv exposure dose and euv lithographic methods and apparatus using such methods.
WO2011082891A1 (en) Euv radiation source comprising a droplet accelerator and lithographic apparatus
US20130015373A1 (en) EUV Radiation Source and EUV Radiation Generation Method
US9986628B2 (en) Method and apparatus for generating radiation
US9110377B2 (en) Lithographic apparatus, EUV radiation generation apparatus and device manufacturing method
US20120280148A1 (en) Euv radiation source and lithographic apparatus
US20110013166A1 (en) Radiation system and lithographic apparatus
NL2003777A (en) Laser device.
WO2010149438A1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2018536199A (ja) リソグラフィ装置のためのｅｕｖソースチャンバーおよびガス流れ様式、多層ミラー、およびリソグラフィ装置
JP6047573B2 (ja) 放射源
WO2013029897A1 (en) Radiation source and lithographic apparatus
NL2016538A (en) Radiation Source, Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method.
NL2006550A (en) Lithographic apparatus, euv radiation generation apparatus and device manufacturing method.
US20160195819A1 (en) Radiation source and lithographic apparatus
NL2004978A (en) Euv radiation source and lithographic apparatus.
NL2007863A (en) Radiation source.
NL2005750A (en) Euv radiation source and euv radiation generation method.
JP2008060570A (ja) リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
NL2006106A (en) Lithographic apparatus.
NL2007861A (en) Radiation source and lithographic apparatus.
NL2011514A (en) Beam delivery system for an euv radiation source, euv radiation source and method of generating euv radiation.
NL2005763A (en) Lithographic apparatus.
NL2004977A (en) Euv radiation source and lithographic apparatus.