NL182924C - Inrichting voor het implanteren van ionen in een trefplaat. - Google Patents

Inrichting voor het implanteren van ionen in een trefplaat.

Info

Publication number
NL182924C
NL182924C NLAANVRAGE7805138,A NL7805138A NL182924C NL 182924 C NL182924 C NL 182924C NL 7805138 A NL7805138 A NL 7805138A NL 182924 C NL182924 C NL 182924C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
tipplate
implanting ions
implanting
ions
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7805138,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL182924B (nl
NL7805138A (nl
Inventor
Pieter Bakker
Rudolf Simon Kuit
Jarig Dr Ir Politiek
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NLAANVRAGE7805138,A priority Critical patent/NL182924C/xx
Priority to US06/036,942 priority patent/US4260897A/en
Priority to DE2918446A priority patent/DE2918446C2/de
Priority to GB7916014A priority patent/GB2020896B/en
Priority to JP5685579A priority patent/JPS54158861A/ja
Priority to FR7912055A priority patent/FR2425721B1/fr
Publication of NL7805138A publication Critical patent/NL7805138A/xx
Publication of NL182924B publication Critical patent/NL182924B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL182924C publication Critical patent/NL182924C/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045—Object or beam position registration
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
NLAANVRAGE7805138,A 1978-05-12 1978-05-12 Inrichting voor het implanteren van ionen in een trefplaat. NL182924C (nl)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NLAANVRAGE7805138,A NL182924C (nl) 1978-05-12 1978-05-12 Inrichting voor het implanteren van ionen in een trefplaat.
US06/036,942 US4260897A (en) 1978-05-12 1979-05-07 Method of and device for implanting ions in a target
DE2918446A DE2918446C2 (de) 1978-05-12 1979-05-08 Vorrichtung zum Implantieren von Ionen in eine Auftreffplatte
GB7916014A GB2020896B (en) 1978-05-12 1979-05-09 Ion implantation
JP5685579A JPS54158861A (en) 1978-05-12 1979-05-09 Method of and device for injecting ion
FR7912055A FR2425721B1 (fr) 1978-05-12 1979-05-11 Procede et dispositif pour implanter des ions dans une cible

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NLAANVRAGE7805138,A NL182924C (nl) 1978-05-12 1978-05-12 Inrichting voor het implanteren van ionen in een trefplaat.

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7805138A NL7805138A (nl) 1979-11-14
NL182924B NL182924B (nl) 1988-01-04
NL182924C true NL182924C (nl) 1988-06-01

Family

ID=19830823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7805138,A NL182924C (nl) 1978-05-12 1978-05-12 Inrichting voor het implanteren van ionen in een trefplaat.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4260897A (cs)
JP (1) JPS54158861A (cs)
DE (1) DE2918446C2 (cs)
FR (1) FR2425721B1 (cs)
GB (1) GB2020896B (cs)
NL (1) NL182924C (cs)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2942045A1 (de) * 1979-10-17 1981-04-30 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur gleichmaessigen ausleuchtung von flaechen mittels eines strahles
FR2475069A1 (fr) * 1980-02-01 1981-08-07 Commissariat Energie Atomique Procede de dopage rapide de semi-conducteurs
US4283631A (en) * 1980-02-22 1981-08-11 Varian Associates, Inc. Bean scanning and method of use for ion implantation
JPS5842152A (ja) * 1981-09-08 1983-03-11 Akashi Seisakusho Co Ltd 走査荷電粒子線による試料のアニール加熱装置
ATE24794T1 (de) * 1981-10-21 1987-01-15 Hell Rudolf Dr Ing Gmbh Hochkonstanter strahlerzeuger fuer geladene teilchen.
US4449051A (en) * 1982-02-16 1984-05-15 Varian Associates, Inc. Dose compensation by differential pattern scanning
US4421988A (en) * 1982-02-18 1983-12-20 Varian Associates, Inc. Beam scanning method and apparatus for ion implantation
DE3502902A1 (de) * 1984-01-31 1985-08-08 Futaba Denshi Kogyo K.K., Mobara, Chiba Ionenstrahl-aufdampfvorrichtung
JPS62109445U (cs) * 1985-12-27 1987-07-13
US4700068A (en) * 1986-01-31 1987-10-13 Hughes Aircraft Company Apparatus and method for spatially characterizing and controlling a particle beam
ATE227884T1 (de) * 1986-04-09 2002-11-15 Varian Semiconductor Equipment Ionenstrahlabtastverfahren und vorrichtung
JPS62295347A (ja) * 1986-04-09 1987-12-22 イクリプス・イオン・テクノロジ−・インコ−ポレイテツド イオンビ−ム高速平行走査装置
US4980562A (en) * 1986-04-09 1990-12-25 Varian Associates, Inc. Method and apparatus for high efficiency scanning in an ion implanter
US4751393A (en) * 1986-05-16 1988-06-14 Varian Associates, Inc. Dose measurement and uniformity monitoring system for ion implantation
US4745281A (en) * 1986-08-25 1988-05-17 Eclipse Ion Technology, Inc. Ion beam fast parallel scanning having dipole magnetic lens with nonuniform field
US5438203A (en) * 1994-06-10 1995-08-01 Nissin Electric Company System and method for unipolar magnetic scanning of heavy ion beams
US5481116A (en) * 1994-06-10 1996-01-02 Ibis Technology Corporation Magnetic system and method for uniformly scanning heavy ion beams
US5672879A (en) * 1995-06-12 1997-09-30 Glavish; Hilton F. System and method for producing superimposed static and time-varying magnetic fields
US5981961A (en) * 1996-03-15 1999-11-09 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for improved scanning efficiency in an ion implanter
GB2339959B (en) * 1998-07-21 2003-06-18 Applied Materials Inc Ion implantation beam monitor
US6677599B2 (en) * 2000-03-27 2004-01-13 Applied Materials, Inc. System and method for uniformly implanting a wafer with an ion beam
KR100815635B1 (ko) 2000-05-15 2008-03-20 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크. 작업편에 이온을 주입하기 위한 방법 및 이온 주입 장치
US6661016B2 (en) 2000-06-22 2003-12-09 Proteros, Llc Ion implantation uniformity correction using beam current control
US7282427B1 (en) 2006-05-04 2007-10-16 Applied Materials, Inc. Method of implanting a substrate and an ion implanter for performing the method
US7355188B2 (en) * 2005-05-24 2008-04-08 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Technique for uniformity tuning in an ion implanter system
US7176470B1 (en) 2005-12-22 2007-02-13 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. Technique for high-efficiency ion implantation

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH447408A (de) * 1965-02-23 1967-11-30 Hermsdorf Keramik Veb Verfahren für eine programmgesteuerte Bearbeitung von Dünnschichtbauelementen der Elektrotechnik mittels eines einen Ladungsträgerstrahl erzeugenden Gerätes
US3569757A (en) * 1968-10-04 1971-03-09 Houghes Aircraft Co Acceleration system for implanting ions in specimen
US3585397A (en) * 1968-10-04 1971-06-15 Hughes Aircraft Co Programmed fine ion implantation beam system
JPS4822393B1 (cs) * 1969-02-20 1973-07-05
US3588717A (en) * 1969-06-23 1971-06-28 Kev Electronics Corp Beam scanner with deflection plate capacitance feedback for producing linear deflection
DE1946931A1 (de) * 1969-09-17 1971-03-18 Gen Electric Verfahren zum Pruefen von Schaltungen und Vorrichtung zur Ausfuehrung des Verfahrens
US3662102A (en) * 1970-09-15 1972-05-09 Us Navy Bi-directional television scan system
FR2181467B1 (cs) * 1972-04-25 1974-07-26 Thomson Csf
NL7416395A (nl) * 1974-12-17 1976-06-21 Philips Nv Elektronenmikroskoop.
US3956635A (en) * 1975-06-13 1976-05-11 International Business Machines Corporation Combined multiple beam size and spiral scan method for electron beam writing of microcircuit patterns

Also Published As

Publication number Publication date
US4260897A (en) 1981-04-07
NL182924B (nl) 1988-01-04
FR2425721B1 (fr) 1985-10-31
DE2918446C2 (de) 1987-03-12
NL7805138A (nl) 1979-11-14
GB2020896B (en) 1982-09-15
GB2020896A (en) 1979-11-21
JPS54158861A (en) 1979-12-15
FR2425721A1 (fr) 1979-12-07
DE2918446A1 (de) 1979-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL182924C (nl) Inrichting voor het implanteren van ionen in een trefplaat.
BE871016A (fr) Inrichting voor het opvangen en vernietigen van kriel in een aardappelrooimachine.
NL169820C (nl) Inrichting voor het behandelen van een gebit.
NL7904235A (nl) Klemconstructie, in het bijzonder voor een ashoes.
NL188808C (nl) Inrichting voor het kweken van cellen.
NL7902589A (nl) Inrichting voor het behandelen van oppervlakken.
NL7904877A (nl) Inrichting voor het behandelen van een mens op lichaam- dragende ondergrond.
NL7700521A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een con- servenblik en inrichting voor de uitvoering van deze werkwijze.
NL176522C (nl) Inrichting voor het afgeven van bladvormig materiaal.
NL185056C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van ritssluitingen.
NL7902690A (nl) Werkwijze voor het heien van palen.
NL7900165A (nl) Werkwijze voor het aftakken en een inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7900353A (nl) Werkwijze en inrichting voor het verkrijgen van een deeltjesvormige samenstelling.
NL7902836A (nl) Inrichting voor het behandelen van dieren.
NL7803129A (nl) Inrichting voor het positioneren van een velvormig origineel.
BE879856A (fr) Inrichting voor het schoonspoelen van buizen, meer in het bijzonder van draineerbuizen
NL186285C (nl) Inrichting voor het in een huis brengen van contacten.
NL7803694A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een inrichting voor tabaksconsumptie, alsmede inrichting voor tabaks- consumptie.
NL7901569A (nl) Inrichting voor het vervaardigen van een doek.
NL190209C (nl) Inrichting voor het neutraliseren van een positieve ionenbundel.
NL7805802A (nl) Inrichting voor het besturen van een pieezo-elektrisch positioneringselement.
NL7903848A (nl) Inrichting voor het raderen van onderstrepingen.
NL7901739A (nl) Inrichting voor het controleren van een cilinder-zui- geraggregaat.
NL7703229A (nl) Transportinrichting in het bijzonder voor stortgoed.
NL185951C (nl) Inrichting voor het gelijktijdig transporteren in een zelfde leiding van de bestanddelen van een tweefasenstroom.

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee