NL155571B - Werkwijze voor het vormen van een dunne, continue film en gevormd voortbrengsel verkregen onder toepassing van deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vormen van een dunne, continue film en gevormd voortbrengsel verkregen onder toepassing van deze werkwijze.

Info

Publication number
NL155571B
NL155571B NL6803586A NL6803586A NL155571B NL 155571 B NL155571 B NL 155571B NL 6803586 A NL6803586 A NL 6803586A NL 6803586 A NL6803586 A NL 6803586A NL 155571 B NL155571 B NL 155571B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
procedure
applying
forming
product obtained
continuous film
Prior art date
Application number
NL6803586A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6803586A (en:Method
Original Assignee
Gen Electric
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gen Electric filed Critical Gen Electric
Publication of NL6803586A publication Critical patent/NL6803586A/xx
Publication of NL155571B publication Critical patent/NL155571B/xx

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F22/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
    • C08F22/36—Amides or imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G67/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing oxygen or oxygen and carbon, not provided for in groups C08G2/00 - C08G65/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/12—Unsaturated polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1436—Composite particles, e.g. coated particles
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002—Details
    • H01G4/018—Dielectrics
    • H01G4/06—Solid dielectrics
    • H01G4/14—Organic dielectrics
    • H01G4/145—Organic dielectrics vapour deposited
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293—Organic, e.g. plastic
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/03—Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313—Organic insulating material
    • H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30—Technical effects
    • H01L2924/301—Electrical effects
    • H01L2924/3011—Impedance

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
NL6803586A 1967-03-14 1968-03-13 Werkwijze voor het vormen van een dunne, continue film en gevormd voortbrengsel verkregen onder toepassing van deze werkwijze. NL155571B (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US62294467A 1967-03-14 1967-03-14
US62844767A 1967-04-04 1967-04-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6803586A NL6803586A (en:Method) 1968-09-16
NL155571B true NL155571B (nl) 1978-01-16

Family

ID=27089329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL6803586A NL155571B (nl) 1967-03-14 1968-03-13 Werkwijze voor het vormen van een dunne, continue film en gevormd voortbrengsel verkregen onder toepassing van deze werkwijze.

Country Status (5)

Country Link
CH (1) CH507336A (en:Method)
DE (1) DE1720898A1 (en:Method)
FR (1) FR1568200A (en:Method)
GB (1) GB1227843A (en:Method)
NL (1) NL155571B (en:Method)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3782983T2 (de) * 1986-07-30 1993-04-08 Hitachi Ltd Verfahren zur herstellung eines polyimidfilms durch chemische ablagerung aus der dampfphase.
US5206335A (en) * 1991-12-16 1993-04-27 Olin Corporation Selected poly(dianhydrides)

Also Published As

Publication number Publication date
DE1720898A1 (de) 1971-07-29
FR1568200A (en:Method) 1969-05-23
GB1227843A (en:Method) 1971-04-07
CH507336A (de) 1971-05-15
NL6803586A (en:Method) 1968-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL149529B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een filmvormende latex.
NL141799B (nl) Inrichting voor het continu in kleurnuances verven van een warenbaan.
NL165583C (nl) Inrichting voor het stabiliseren van een, in een cardanframe opgehangen platform.
NL159009B (nl) Werkwijze voor de bereiding van een polyvalent staphylococcenpreparaat met anti-mastitiswerking.
NL156327B (nl) Inrichting voor het continu in kleurnuances verven van een warenbaan.
NL140296B (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een siliciumdioxydelaag.
NL160166C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een therapeutisch preparaat met werking tegen ontstekingen, alsmede gevormd preparaat, verkregen onder toepassing van deze werkwijze.
ES194171Y (es) Un dispositivo para aplicar un medicamento en forma de pol-vos.
NL160357C (nl) Werkwijze en machine voor het continu vervaardigen van een langwerpig, samengesteld constructie-element.
NL161738C (nl) Continue werkwijze voor de bereiding van nitroalkanolen.
NL139864B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een dunne film geintegreerde keten, en geintegreerde keten vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL155328B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een schroeflijnwormig getwist wapeningselement en wapeningselement, verkregen onder toepassing van deze werkwijze.
NL156136B (nl) Werkwijze voor het bereiden van ontstekingsremmende verbindingen en geneesmiddelen, alsmede aldus verkregen gevormde geneesmiddelen.
NL7412592A (nl) Werkwijze voor het vormen van een fijn patroon en dunne, transparante, geleidende film.
NL156485B (nl) Hydraulische aandrijving voor een continu heen-en-weer gaande beweging.
NL154980B (nl) Inrichting voor het opwinden, respectievelijk opwikkelen van buigzaam materiaal.
NL157011B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel en onder toepassing daarvan verkregen gevormd geneesmiddel, alsmede een werkwijze voor het bereiden van een verbinding geschikt voor toepassing bij voornoemde werkwijze.
NL146708B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een huidpreparaat.
NL151902B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een medicinale tablet met een gereguleerd afgifte-patroon, alsmede aldus vervaardigde tablet.
NL155571B (nl) Werkwijze voor het vormen van een dunne, continue film en gevormd voortbrengsel verkregen onder toepassing van deze werkwijze.
NL161376C (nl) Werkwijze voor het afzetten van een vloeibaar bekledings- materiaal.
NL146789B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een geneesmiddel met antihistaminewerking, gevormd geneesmiddel verkregen onder toepassing van deze werkwijze en werkwijze voor het bereiden van verbindingen met antihistaminewerking.
NL165685C (nl) Inrichting voor het continu vervaardigen van een dunne houtspaanplaat.
NL140517B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een 17 alfa-hydroxy-8,14-secogonatetraeen-14-on.
NL164219C (nl) Inrichting voor het wijzigen van de breedteafmeting van een continu gietstuk.

Legal Events

Date Code Title Description
VJC Lapsed due to non-payment of the due maintenance fee for the patent or patent application
NL80 Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent

Owner name: GEN ELECTR