NL1023111C2 - System and method for generating an electron beam. - Google Patents

System and method for generating an electron beam.

Info

Publication number
NL1023111C2
NL1023111C2 NL1023111A NL1023111A NL1023111C2 NL 1023111 C2 NL1023111 C2 NL 1023111C2 NL 1023111 A NL1023111 A NL 1023111A NL 1023111 A NL1023111 A NL 1023111A NL 1023111 C2 NL1023111 C2 NL 1023111C2
Authority
NL
Grant status
Grant
Patent type
Application number
NL1023111A
Other languages
Dutch (nl)
Inventor
Sergey Wasiliewich Mitko
Original Assignee
Nl Ct Voor Laser Res B V
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Grant date

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J3/00Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J3/02Electron guns

Description

Titel: Systeem en werkwijze voor het genereren van een elektronensalvo. Title: System and method for generating an electron beam.

De uitvinding heeft betrekking op een systeem voor het genereren van een elektronensalvo. The present invention relates to a system for the generation of an electron beam.

De uitvinding heeft tevens betrekking op een werkwijze voor het genereren van een elektronensalvo. The invention also relates to a method for the generation of an electron beam.

5 Een dergelijke systeem is op zich bekend. 5 Such a system is known per se. Dergelijke bekende systemen omvatten veelal een kathode en een anode. Such prior art systems often comprise a cathode and an anode. Bij het aanlegen van een voldoende groot potentiaalverschil tussen de kathode en de anode worden elektronen aan de kathode ontrokken, of nabij de kathode aan bijvoorbeeld een metaal ontrokken, en versneld in de richting van de anode. In the proposed placing of a sufficiently large potential difference between the cathode and the anode, electrons are extracted from the cathode, or close to the cathode, to, for example, a metal extracted, and accelerated in the direction of the anode. 10 Een dergelijke systeem is veelal voorzien van een filament met een tip van bijvoorbeeld wolfraam of lanthanumboride. 10 Such a system is often provided with a filament with a tip of, for example tungsten or lanthanumboride. Het filament wordt veelal omgeven door de kathode die kapvormig is uitgevoerd en een nabij de tip gelegen uitsparing heeft. The filament is usually surrounded by the cathode which is configured cap-shaped and has a recess located near the tip. In veel voorkomende situaties is de anode plaatvormig en voorzien van een uitsparing die tegenover de uitsparing in 15 de kathode en tegenover de tip van het filament ligt. In many common situations, the anode is plate-shaped and provided with a recess which lies opposite the recess 15 in the cathode and in front of the tip of the filament. Bij elektronenemissie vanuit de tip banen de elektronen zich een weg door de uitsparingen die op één lijn liggen met de tip. When electron emission from the tip paths of the electrons to a path through the recesses which are in alignment with the tip. Hierbij worden de elektronen versneld door het potentiaalverschil tussen de anode en de kathode. Here, the electrons are accelerated by the potential difference between the anode and the cathode. Een nadeel van een dergelijk systeem is dat de elektronen veelal pas uit de tip kunnen worden 20 onttrokken nadat de tip is verhit. A disadvantage of such a system is that generally only the electrons may be extracted 20 from the tip after the tip has been heated. Deze verhitting is nodig om de elektronen voldoende kinetische energie te geven om te kunnen ontsnappen uit de tip. This heating is necessary to give the electrons enough kinetic energy to escape from the tip. Om het ontsnappen van de elektronen uit de tip te kunnen vergemakkelijken dienen geen vreemde atomen of moleculen op posities op het oppervlak van de tip aanwezig te zijn. To escape to facilitate the electrons from the tip should be no foreign atoms or molecules to be present at positions on the surface of the tip. Om zoveel mogelijk te voorkomen 25 dat vreemde atomen en/of moleculen plaats kunnen nemen op het oppervlak van de tip wordt de tip veelal in een relatief hoog vacuüm gehouden. In order to prevent as much as possible, 25 which foreign atoms and / or molecules able to take place on the surface of the tip, the tip is usually maintained in a relatively high vacuum. Ondanks dit hoge vacuüm komt het toch voor dat vreemde atomen en/of moleculen plaatsnemen op het oppervlak van de tip. Despite this high vacuum does it happen that foreign atoms and / or molecules to take place on the surface of the tip. Deze vreemde atomen 1 n? These foreign atoms 1 n? 3111 2 en/of moleculen kunnen worden verwijderd door een enorme spanningspuls aan de tip te geven. 3111 2 and / or molecules can be removed by making a huge voltage pulse to the tip. Hiermee wordt als het ware de tip van de vreemde atomen en/of moleculen ontdaan. This is, as it were, the tip of the foreign atoms and / or molecules stripped. Helaas leidt de hoge spanningspuls veelal tot minuscule beschadigingen van de tip. Unfortunately, the high-voltage pulse often leads to tiny damage to the tip. De vorm van de tip, met name de 5 vorm van een beschadigde tip, leidt tot een inhomogene elektronenbundel, zowel in energetisch als in geometrisch opzicht. The shape of the tip, in particular the 5 form of a damaged tip, leading to an inhomogeneous electron beam, both in energy and in geometric terms. Het noodzakelijke vacumeren van de tip vereist bovendien de aanwezigheid van een aantal vacuümpompen en relatief dure materialen voor het behoud van het vacuüm. moreover, the necessary vacuum in the tip requires the presence of a number of vacuum pumps and are relatively expensive materials for the preservation of the vacuum. Het noodzakelijk vacumeren brengt ook met zich dat na een 10 vervanging van een teveel beschadigde tip enige tijd verloren gaat voordat de elektronenbron wederom actief kan zijn. The necessary evacuation also implies that loss after a 10 replacement of a damaged tip too much for some time before the electron source can be active again.

De uitvinding beoogt tegemoet te komen aan tenminste één van de bovengenoemde problemen. The invention aims to meet at least one of the above-mentioned problems.

Dit doel van de uitvinding wordt bereikt door het systeem volgens 15 de uitvinding, omvattende: een diëlektrisch lichaam; This object of the invention is achieved by the system according to the invention 15, comprising: a dielectric body; een inrichting voor het opwekken van een elektrisch veld; a device for generating an electric field; een bron van elektronen; a source of electrons; en een besturingseenheid voor het besturen van de inrichting, waarbij de besturingseenheid in gebruik dusdanig stuurt dat, 20 · in een eerste fase van een cyclus elektronen vanuit de bron op het diëlektrisch oppervlak terechtkomen, en • in een tweede fase van de cyclus elektronen het diëlektrische oppervlak verlaten. and a control unit for controlling the device, wherein the control unit in use such a manner that, 20 · end up in a first phase of a cycle, electrons from the source on the dielectric surface, and • in a second phase of the cycle, electrons, the dielectric exit surface.

In de eerste fase van de cyclus is het elektrische veld van het 25 oppervlak van het diëlektrisch lichaam af gericht en verplaatsen de elektronen zich tegengesteld aan de richting van de elektrische veldlijnen naar het diëlektrisch lichaam verplaatsen. In the first phase of the cycle, the electric field is directed away from the surface of the dielectric body 25 and to move the electrons move opposite to the direction of the electric field lines towards the dielectric body. De sterkte van het veld is zodanig dat de elektronen vanuit de bron van elektronen de veldlijnen volgen. The strength of the field is such that the electrons follow the field lines from the source of electrons.

3 3

In de tweede fase van de cyclus, is het elektrische veld naar het oppervlak van het diëlektrisch lichaam toe gericht en verplaatsen de elektronen zich tegengesteld aan de richting van de elektrische veldlijnen, van dat oppervlak af. In the second phase of the cycle, the electric field is directed towards the surface of the dielectric body, and to move the electrons are opposite to the direction of the electric field lines away from that surface.

5 Voor het in de tweede fase van de cyclus loskomen van de elektronen van het diëlektrische oppervlak is een naar het oppervlak gericht elektronisch veld nodig waarvan de sterkte minimaal kan zijn. 5 In order to peel off in the second phase of the cycle of the electrons of the dielectric surface is a need addressed electronic field to the surface of which the strength can be minimal. Dit brengt met zich dat het oppervlak zelf geen beschadiging behoeft te ondervinden ten gevolge van de sterkte van dat elektrische veld. This implies that the surface itself does not damage any need to experience as a consequence of the strength of the electric field. Dit verhoogt de 10 levensduur van het lichaam met het diëlektrische oppervlak. This increases the service life of the body 10 with the dielectric surface.

Voor een bijzonder uitvoeringsvorm geldt dat de inrichting voorts is voorzien van een eerste en een tweede elektrode en een spanningsbron voor het aanleggen van een potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode, waarbij de eerste elektrode zodanig tegen het diëlektrische 15 lichaam aanligt dat het diëlektrische lichaam in hoofdzaak tussen de eerste en de tweede elektrode is gelegen, waarbij de besturingseenheid is ingericht om: in de eerste fase een potentiaalverschil tussen de eerste elektrode en de tweede elektrode zodanig aan te leggen dat de eerste elektrode positief is ten opzichte van de tweede elektrode. For a special embodiment it holds that the apparatus is further provided with a first and a second electrode, and a voltage source for applying a potential difference between the first and the second electrode, wherein the first electrode in such a way against the dielectric 15 element abuts in that the dielectric body substantially between the first and the second electrode is located, wherein the control unit is adapted to: a difference in potential between the first electrode and the second electrode in the first phase in such a way to construct that the first electrode is positive with respect to the second electrode.

20 Doordat, in gebruik, in de eerste fase van de cyclus de eerste elektrode positief is ten opzichte van de tweede elektrode zullen elektronen zich in de richting van de eerste elektrode begeven en althans een aantal van deze elektronen zal terechtkomen op het diëlektrische lichaam. 20 Since, in use, in the first phase of the cycle, the first electrode is positive with respect to the second electrode, electrons are traveling in the direction of the first electrode and at least a number of these electrons will end up on the dielectric body. Deze elektronen kunnen bijvoorbeeld zijn ontrokken aan de tweede elektrode. These electrons may for example be extracted from the second electrode. De 25 tweede elektrode fungeert dan als bron van elektronen. The second electrode 25 then acts as a source of electrons. Het is ook mogelijk dat een zich tussen de eerste elektrode en de tweede elektrode bevindend gas als bron van elektronen ontlaadt en dat de daardoor vrijgekomen elektronen terechtkomen op het diëlektrische lichaam van de eerste elektrode. It is also possible that a is located between the first electrode and the second electrode gas contained as a source of electrons, and that discharges the thus released electrons end up on the dielectric body of the first electrode. De elektronen volgen immers een richting die tegengesteld is aan 30 de richting van de elektrische veldlijnen die alsdan gericht zijn van 1n?3i11 diëlektrische lichaam naar de tweede elektrode. The electrons, after all follow a direction that is opposite to the direction 30 of the electric field lines that are then directed from 1n? 3i11 dielectric body to the second electrode. Immers, de tweede I elektrode is in de eerste fase van de cyclus negatief ten opzicht van de eerste I elektrode. After all, the second I electrode is in the first phase of the cycle, negative with respect to the first electrode I. De hoeveelheid elektronen die op het diëlektrische lichaam I terecht kunnen komen is volgens een theorie rechtevenredig met het I 5 potentiaalverschil tussen de eerste elektrode en de tweede elektrode. The amount of electrons which can end up on the dielectric body I is according to any one theory directly proportional to the I 5 potential difference between the first electrode and the second electrode. De I maximale hoeveelheid lading die volgens de theorie op het diëlektrische I lichaam kan worden opgenomen wordt gegeven door: eAUch Q = -waarin Q de hoeveelheid elektrische lading voorstelt, ε de 4nh I diëlektrische constante van het diëlektrische lichaam voorstelt, A het I 10 oppervlak van het diëlektrische lichaam is, UCh de positieve potentiaal van I de eerste elektrode ten opzichte van een geaarde tweede elektrode is en h de I dikte van het diëlektrische lichaam voorstelt wanneer het lichaam de vorm I van een laag heeft. The I maximum amount of charge which, according to the theory on the dielectric I body can be received is given by: represents eAUch Q = -waarin Q represents the amount of electric charge, ε the 4NH I dielectric constant of the dielectric body, A is the I 10 surface of the dielectric body is, UCh the positive potential of the first electrode I is with respect to a grounded second electrode, and h is the thickness I of the dielectric body represents when the body is in the form of an I layer. Met andere woorden, wanneer het diëlektrische lichaam I is vervaardigd van een materiaal met een hoge diëlektrische constante, het 15 diëlektrische lichaam een groot oppervlak heeft, de positieve potentiaal van I de eerste elektrode ten opzichte van een geaarde tweede elektrode groot is, I en het diëlektrische lichaam relatief dun is, kunnen zeer veel elektronen I terecht komen op de diëlektrische deklaag. In other words, when the dielectric body I is made of a material having a high dielectric constant, the 15 dielectric body has a large surface area, the positive potential of I, the first electrode with respect to a grounded second electrode is large, I, and the dielectric body is relatively thin, electrons may reach very much I on the dielectric coating. Wanneer de diëlektrische I deklaag de hoogst mogelijke hoeveelheid aan elektronen heeft opgenomen, I 20 zal de elektronenstroom naar de eerste elektrode stoppen. When the dielectric layer I has recorded the highest possible amount of electrons, the electron current I 20 will stop at the first electrode. Er is als het ware I een evenwicht bereikt tussen het over de eerste en de tweede elektrode I aangebrachte potentiaalverschil en de hoeveelheid lading die op het I diëlektrische lichaam terecht is gekomen. There is, as it were, I achieve a balance between the of the first and the second electrode I applied potential difference, and the amount of charge on the dielectric body I is ended.

I Volgens een bijzondere uitvoeringsvorm geldt dat de I 25 besturingseenheid voorts is ingericht om in de tweede fase het I potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode te laten afnemen. I According to a particular embodiment, it holds that the I control unit 25 is further adapted to decrease the I potential difference between the first and the second electrode in the second phase.

I In de tweede fase van de cyclus wordt het potentiaalverschil tussen I de eerste en de tweede elektrode verlaagd, wanneer in de eerste fase een I hoeveelheid elektronen op het diëlektrische lichaam terecht is gekomen. I In the second phase of the cycle, the potential difference between I is reduced, the first and the second electrode, when it is fallen into the first phase, an I number of electrons on the dielectric body. In 5 de tweede fase zal vanaf een zeker potentiaalverschil een "overschot" aan elektronen op de het diëlektrische lichaam aanwezig zijn. 5 In the second phase, at a certain potential difference is a "surplus" of electrons on the dielectric body are provided. Elektrische veldlijnen zullen zich nu richten van de tweede elektrode in de richting van het oppervlak van het diëlektrische lichaam. Electric field lines will now focus of the second electrode in the direction of the surface of the dielectric body. Immers, het diëlektrische 5 lichaam is alsdan negatief ten opzichte van de tweede elektrode. After all, the dielectric body 5 will then be negative with respect to the second electrode. Met andere woorden, het overschot aan elektronen zal het diëlektrische lichaam verlaten en een richting volgen die tegengesteld is aan de richting van de elektrische veldlijnen. In other words, the excess of electrons will leave the dielectric body and follows a direction that is opposite to the direction of the electric field lines. Het diëlektrische lichaam vormt in dat geval een generator van een elektronensalvo. The dielectric body, in that case, a generator of an electron beam. Een voordeel van een dergelijke 10 generator is dat de elektronen niet aan het diëlektrische lichaam of aan de eerste elektrode behoeven te worden ontrokken. An advantage of such a generator 10 is that the electrons do not to the dielectric body or to require to be extracted, the first electrode. Het is niet nodig om het diëlektrische lichaam of de eerste elektrode te verwarmen. It is not necessary to heat the dielectric body, or the first electrode. Het is ook niet nodig om het diëlektrische lichaam in een vacuüm te onderhouden. It is also not necessary to maintain the dielectric body in a vacuum.

Wanneer de elektronen het diëlektrische lichaam in de tweede fase verlaten 15 ontstaat er een nagenoeg homogeen elektronensalvo. When the electrons the dielectric body at the second stage exit 15, there is created a substantially homogeneous electron beam. Het diëlektrische lichaam zal nagenoeg geen beschadigingen ondervinden en derhalve kan de levensduur van het diëlektrische lichaam lang zijn. The dielectric body will suffer essentially no damage and, therefore, the service life of the dielectric body may be long.

Een bijzondere uitvoeringsvorm wordt gekenmerkt in dat de besturingseenheid is ingericht om in de tweede fase het potentiaalverschil te 20 laten afnemen naar nul. A special embodiment is characterized in that the control unit is arranged to decrease the potential difference to be 20 in the second phase to zero. In dit geval zullen alle in de eerste fase op het diëlektrische lichaam op genomen elektronen het diëlektrische lichaam verlaten. In this case, all taken on the dielectric body in the first stage on electrons leaving the dielectric body. Er is dan sprake van een elektronensalvo met een hoge stroomdichtheid. There is talk of an electron beam with a high current density.

In een bijzondere uitvoeringsvorm geldt bovendien dat de 25 besturingseenheid is ingericht om in een derde fase van de cyclus een zodanig potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode aan te leggen dat in gebruik de elektronen zich daardoor versneld in de richting van de tweede elektrode begeven. In a particular embodiment, moreover, it holds that the 25 control unit is arranged to apply such a potential difference between the first and the second electrode in a third phase of the cycle that, in use, the electrons can therefore move fast in the direction of the second electrode. In dit geval is het ook mogelijk om een homogeen elektronensalvo te verkrijgen met elektronen die een hoge 30 kinetische energie bezitten. In this case, it is also possible to obtain a homogeneous electron beam with electrons 30 which have a high kinetic energy. Het is daarmee mogelijk om de kinetische im 0 111 6 energie van de elektronen af te stemmen op het gewenste gebruik van het elektronensalvo. This makes it possible to tune the kinetic im 0111 6 energy of the electrons on the desired use of the electron beam.

Voorts geldt in het bijzonder dat de inrichting is ingericht om in de eerste en in de tweede fase aan de eerste elektrode een ten opzichte van de 5 potentiaal van de tweede elektrode positieve potentiaal op te leggen. Further, it holds in particular that the device is arranged to impose in the first and in the second phase to the first electrode, a 5 with respect to the potential of the second electrode positive potential.

Dit biedt het voordeel dat er geen omschakeling nodig is. This offers the advantage that there is no need for conversion. In het bijzonder geldt daarbij dat in de eerste fase en in de tweede fase de eerste elektrode is verbonden met eenzelfde positieve pool van de spanningsbron. In particular, it applies thereby that in the first phase and in the second phase, the first electrode is connected with the same positive pole of the voltage source.

In dit geval is het in het geheel niet nodig om de eerste elektrode op te 10 nemen in een circuit dat is verbonden met de besturingseenheid. In this case, it is not at all necessary in order to take on the first electrode 10 in a circuit which is connected to the control unit.

Voorts kan gelden dat de besturingseenheid is ingericht om aan de eerste elektrode een eerste potentiaal op te leggen en om aan de tweede elektrode een tweede potentiaal op te leggen, waarbij geldt dat in de eerste fase de tweede potentiaal negatief is ten opzichte van de eerste potentiaal en 15 waarbij voorts geldt in de tweede fase de tweede potentiaal positief is ten opzichte van de eerste potentiaal. Further, it can hold that the control unit is arranged to impose a first potential to the first electrode and to impose a second potential to the second electrode, it being understood that it is the second potential negative in the first phase with respect to the first potential 15, and with the further provision in the second phase, the second potential is positive with respect to the first potential.

In een dergelijk systeem behoeft de besturingseenheid slechts de tweede elektrode om te polen, hetgeen een relatief eenvoudige handeling is. In such a system, the control unit need only to the second electrode terminals, which is a relatively simple operation.

Een bijzondere uitvoeringsvorm wordt verder gekenmerkt in dat op 20 aan een van de eerste elektrode afgekeerde zijde van de tweede elektrode een derde elektrode is opgesteld, waarbij de inrichting voorts is ingericht om ten minste in de tweede fase een zodanige potentiaal aan de derde elektrode op te leggen dat de van het diëlektrische lichaam vrijgekomen elektronen in de richting van de derde elektrode worden versneld. A particular embodiment is further characterized in that a third electrode is disposed at 20 to one of the first electrode which faces away from the second electrode, wherein the device is further adapted to, at least in the second phase, such a potential on the third electrode on to explain that the dielectric body of the released electrons are accelerated in the direction of the third electrode.

25 Dit biedt het voordeel dat de eenmaal van het diëlektrische lichaam vrijgekomen elektronen een hoge snelheid kunnen verkrijgen en de bundel derhalve een hoog energetische elektronenbundel kan worden. 25 This provides the advantage that, once the dielectric body of released electrons can obtain a high speed, and the beam can therefore be a high-energy electron beam.

Daarbij geldt in het bijzonder dat de besturingseenheid is ingericht om in de eerste fase een zodanige potentiaal aan de tweede elektrode op te 7 leggen dat het elektrische veld tussen de eerste en de tweede elektrode is gericht van de eerste elektrode naar de tweede elektrode. It applies in particular that the control unit is arranged to establish such a potential on the second electrode to be 7 in the first phase, that the electric field between the first and the second electrode is directed from the first electrode to the second electrode.

Bij een dergelijke uitvoeringsvorm is het mogelijk dat de derde elektrode onveranderd gedurende de eerste en de tweede fase met een 5 positieve pool van een hoogspanningsbron is verbonden. In such an embodiment, it is possible that the third electrode is connected unchanged during the first and the second phase with a 5 positive pole of a high voltage source. Het is mogelijk dat in een dergelijke uitvoeringsvorm de besturingseenheid slechts de potentiaal van de tweede elektrode behoeft te besturen. It is possible that the control unit needs to control only the potential of the second electrode in such an embodiment.

Bij voorkeur geldt voorts dat tussen de eerste en de tweede elektrode een geleider als elektronenbron is opgenomen, welke geleider is voorzien 10 van uitsparingen voor het ten minste in de tweede fase door de uitsparingen laten passeren van elektronen die zich van de eerste elektrode in de richting van de tweede elektrode verplaatsen. Preferably, it further holds that between the first and the second electrode includes a conductor as an electron source, which guide is provided with 10 recesses for the at least in the second phase, passing through the recesses of electrons from the first electrode in the direction moving the second electrode. Hierbij is het mogelijk dat de geleider via een relatief hoge elektrische weerstand is verbonden met een elektronenbron. Hereby it is possible that the conductor by means of a relatively high electrical resistance is connected to an electron source. Hierbij kan gelden dat de weerstand elektrisch is 15 verbonden met de aarde die in dat geval als elektronenbron fungeert. It may be that the resistor 15 is electrically connected to the earth, which acts as an electron source in that case.

De geleider zal in een dergelijke uitvoeringsvormen veelal een potentiaal aannemen die ligt tussen de potentiaal van de eerste en de potentiaal van de tweede elektrode. The handler will, in such embodiments, generally take a potential which is between the potential of the first and the potential of the second electrode.

In het bijzonder geldt dat de besturingseenheid is ingericht om een 20 cyclus veelvuldig achtereenvolgens uit te voeren. In particular, it holds that the control unit is arranged to perform a 20 cycle frequent succession. Het is in dit geval mogelijk dat er een nagenoeg continue stroom van elektronen als bundel van elektronen kan worden verkregen. It is possible in this case that there is a substantially continuous flow of electrons can be obtained as a bundle of electrons.

Bij voorkeur geldt dat het eerste lichaam plaatvormig is uitgevoerd. Preferably, it holds that the first member is of plate-shaped. Dit komt de homogeniteit van de elektronenbundel ten goede en 25 vergroot bovendien het opnemingsvermogen van het diëlektrische lichaam voor het op nemen van elektronen in de eerste fase. This improves the homogeneity of the electron beam 25 for the better and, moreover, increases the absorption capacity of the dielectric body for the placing on taking of electrons at the first stage.

Tevens geldt bij voorkeur dat de tweede elektrode is voorzien van tenminste een ring. It also preferably that the second electrode is provided with at least one ring. Dit brengt met zich dat de elektronen die in de tweede fase het diëlektrische lichaam verlaten door de opening in de ring van de in? This implies that the electrons in the second phase, leaving the dielectric body through the opening in the ring in the? a 111 I 8 I tweede elektrode zich kunnen voortbewegen voor verder gebruik van de I elektronenbundel. a second electrode 111 I 8 I are able to travel for further use of the I electron beam.

Het is ook mogebjk dat de tweede elektrode een rooster omvat. It is also mogebjk that the second electrode comprises a grid. Dit I bevordert de homogeniteit van de elektronenbundel. This I promotes the homogeneity of the electron beam.

I 5 Bij voorkeur geldt dat het diëlektrische lichaam is vervaardigd van een keramiek of een polymeer. I 5 Preferably, it applies that the dielectric body is made of a ceramic or a polymer. Deze materialen hebben doorgaans een hoge I diëlektrische constante. These materials generally have a high dielectric constant I.

I Zoals gesteld, de uitvinding heeft tevens betrekking op een I werkwijze voor het genereren van een elektronensalvo, waarbij de 10 werkwijze ten minste het opwekken van een elektrisch veld omvat, met het I kenmerk, dat de werkwijze voorts een cyclus omvat waarvan een eerste fase I ten minste omvat: · het zodanig opwekken van het elektrisch veld dat elektronen op een I diëlectrisch lichaam terechtkomen; I As stated, the invention also relates to an I method for generating an electron beam, said 10 method comprising at least the generation of an electric field, with the I, characterized in that the method further comprises a cycle of which a first phase, I, at least comprising: · in such a way, the generation of the electric field of electrons end up on an I dielectric body; I 15 en waarvan een tweede fase ten minste omvat: I · , het zodanig opwekken van het elektrisch veld dat elektronen het I diëlectrisch lichaam verlaten. I 15, and which comprises a second phase, at least: · I, so the generation of the electric field which electrons leave the I. dielectric body.

De uitvinding wordt thans toegelicht aan de hand van een I tekening. The invention will now be elucidated on the basis of an I drawings. Hierin toont: I 20 Fig. In the drawings: Fig I 20. 1 schematisch een eerste uitvoeringsvorm van een systeem I volgens de uitvinding in gebruik in een eerste fase van de cyclus; 1 schematically shows a first embodiment of a system I according to the invention in use in a first phase of the cycle;

Fig. Fig. 2 het systeem volgens Fig. 2, the system according to Fig. 1 in gebruik in een tweede fase van I de cyclus; 1 in use in a second phase of the cycle I; I Fig. I Fig. 3 schematisch een tweede uitvoeringsvorm van een systeem I 25 volgens de uitvinding in gebruik in een eerste fase van de cyclus; 3 schematically shows a second embodiment of a system I 25 according to the invention in use in a first phase of the cycle; en I Fig. I and Fig. 4 het systeem volgens Fig. 4 the system according to Fig. 3 in gebruik in een tweede fase van I de cyclus. 3 in use in a second phase of the I cycle.

I Fig. I Fig. 1 toont een eerste uitvoeringsvorm van een systeem 1 volgens I de uitvinding. 1 shows a first embodiment of a system 1 according to I the invention. Het systeem omvat een diëlectrisch lichaam dat hier is I 30 uitgevoerd als een diëlektrische deklaag. The system includes a dielectric body which is here constructed as I 30 a dielectric cover layer. Het systeem 1 omvat voorts een 9 inrichting voor het opwekken van een elektrisch veld. The system 1 further comprises a device 9 for generating an electric field. In dit voorbeeld omvat de inrichting een eerste en een tweede elektrode en een spanningsbron 5 voor het aanleggen van een potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode. In this example, the device comprises a first and a second electrode 5 and a voltage source for applying a potential difference between the first and the second electrode. Hierbij geldt dat de eerste elektrode zodanig 5 tegen het diëlectrische lichaam ligt dat het diëlectrische lichaam in hoofdzaak tussen de eerste en de tweede elektrode is gelegen. This applies to the first electrode in such a way against the dielectric body 5 lies in that the dielectric body is substantially between the first and the second electrode is located. In de getoonde voorbeelden is het diëlectrische lichaam als een diëlectrische deklaag op de eerste elektrode 3 aangebracht. In the examples shown, it is the dielectric body as a dielectric coating disposed on the first electrode 3. Voorts omvat het systeem een besturingseenheid B voor het besturen van de inrichting. Further, the system comprises a control unit B for controlling the apparatus. De 10 besturingseenheid B bestuurt in gebruik dusdanig dat in een eerste fase van een cyclus, zoals getoond in Fig. 10, the control unit B controls in use such that in a first phase of a cycle, as shown in Fig. 1, elektronen vanuit de bron op het diëlektrische oppervlak terechtkomen. 1, electrons end up on the dielectric surface from the source. Voorts bestuurt de besturingseenheid B in gebruik dusdanig dat in een tweede fase van de cyclus elektronen het diëlektrische oppervlak verlaten. Furthermore, the control unit B controls in use such that in a second phase of the cycle, electrons leave the dielectric surface. De tweede elektrode kan in dit voorbeeld | The second electrode may, in this example, | 15 tevens als bron van elektronen fungeren. 15 also act as a source of electrons.

In dit voorbeeld is de eerste elektrode 3 plaatvormig uitgevoerd. In this example, the first electrode is carried out three plate-shaped. De tweede elektrode 4 kan eveneens in hoofdzaak plaatvormig uitgevoerd zijn. The second electrode 4 can be also carried out in a substantially plate-shaped.

De tweede elektrode 4 omvat in dit voorbeeld een rooster die schematisch in doorsnede is getoond. The second electrode 4 in this example comprises a lattice which is shown schematically in cross-section. Zo kan de tweede elektrode elektrisch geleidend gaas 20 omvatten. For example, the second electrode may comprise electrically conductive wire mesh 20. De eerste elektrode 3 is in deze uitvoeringsvorm evenwijdig aan de tweede elektrode 4 opgesteld. The first electrode 3 is arranged in this embodiment parallel to the second electrode 4. De eerste elektrode 3 is voorts voorzien van een diëlektrische deklaag 6 die bijvoorbeeld een keramiek of een polymeer omvat. The first electrode 3 is further provided with a dielectric cover layer 6, which comprises for example a ceramic or a polymer. In deze uitvoeringsvorm is de tweede elektrode 4 geaard. In this embodiment, the second electrode 4 is grounded. De eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 zijn parallel aan elkaar geschakeld met 25 een positieve pool van de spanningsbron 5. De besturingseenheid B is tenminste voorzien van een schakelaar S die tussen de tweede elektrode 4 en de spanningsbron 5 is opgenomen. The first electrode 3 and second electrode 4 are connected in parallel to each other by 25, a positive pole of the voltage source 5. The control unit B is at least provided with a switch S which is included between the second electrode 4 and the voltage source 5.

Met een dergelijk systeem 1 volgens de uitvinding is het mogelijk om een elektronensalvo te genereren. With such a system 1 according to the invention, it is possible to generate an electron beam. Hiertoe wordt in een eerste fase van 30 een cyclus een potentiaalverschil tussen de eerste elektrode 3 en de tweede 1073111 I 10 elektrode 4 zodanig aangebracht dat de eerste elektrode 3 positief is ten opzichte van de tweede elektrode 4. In het getoonde uitvoeringsvoorbeeld brengt dit met zich dat de besturingseenheid B de schakelaar S in een I geopende stand houdt. For this purpose, in a first phase of 30, a cycle, a potential difference between the first electrode 3 and the second 1073111 I 10 electrode 4 is arranged such that the first electrode 3 is positive with respect to the second electrode 4. In the exemplary embodiment shown, this entails in that the control unit B keeps the switch S in an I open position. In dat geval is de potentiaal van de tweede elektrode I 5 4 gelijk aan nul; In that case, the potential of the second electrode 5 I 4 equal to zero; de potentiaal van de eerste elektrode 3 gelijk aan de I positieve pool van de spanningsbron 5; the potential of the first electrode 3 is equal to the I positive pole of the voltage source 5; en het potentiaalverschil derhalve I gelijk aan de potentiaal UCh van de positieve pool van de spanningsbron 5. and the potential difference accordingly I UCh equal to the potential of the positive pole of the voltage source 5.

I Het potentiaalverschil tussen de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 is zodanig dat er elektronen op de diëlektrische deklaag 6 van de eerste 10 elektrode 3 terechtkomen. I. The potential difference between the first electrode 3 and the second electrode 4 is such that there are electrons end up on the dielectric layer 6 of the first electrode 10 3. Het is mogelijk dat elektronen zijn ontrokken aan I elektrode 4 die, in het uitvoeringsvoorbeeld, is geaard. It is possible that electrons are extracted from I electrode 4, which, in the exemplary embodiment, is grounded. In dat geval fungeert I de tweede elektrode 4 als een bron van elektronen. In that case, I acts as the second electrode 4 as a source of electrons. Het is ook mogelijk dat I een zich tussen de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 bevindend I gas ontlaadt, hetgeen resulteert in het vrijkomen van elektronen en I 15 positieve ionen. It is also possible that a I is located between the first electrode 3 and second electrode 4 I standing gas discharge, which results in the release of electrons and positive ions I 15. Het gas fungeert dan als een bron van elektronen. The gas then acts as a source of electrons. In elk I geval zullen de daarbij vrijgekomen elektronen onder invloed van het aanwezige elektrische veld E zich bewegen in de richting van de I diëlektrische laag 6 op de eerste elektrode 3. Eenmaal op de diëlektrische I deklaag 6 aangekomen, zullen de elektronen door de aanwezigheid van het I 20 elektrische veld E op de diëlektrische deklaag 6 worden gehouden. In each I case, the thereby released electrons will be under the influence of the electric field present E move in the direction of the I dielectric layer 6 on the first electrode 3. Once on the dielectric I cladding layer 6 arrived, the electrons will by the presence of the electric field E I 20 are held on the dielectric layer 6.

I Een tweede fase van de cyclus omvat tenminste het I potentiaalverschil tussen de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 te I laten afnemen zodat de elektronen die diëlektrische deklaag 6 verlaten. I A second phase of the cycle includes at least the I potential difference between the first electrode 3 and second electrode 4 to decrease I so that the electrons which dielectric cover layer 6 abandoned. Dit I wordt schematisch in Fig. This I is schematically shown in Fig. 2 getoond. 2 is shown.

I 25 In dit uitvoeringsvoorbeeld wordt de scheiding tussen de eerste I fase van de cyclus en de tweede fase van de cyclus bepaald door de stand I van de schakelaar S, hetgeen een zeer eenvoudige en zeer robuuste I besturingseenheid met zich brengt. I 25 In this embodiment, the separation between the first I-phase of the cycle and the second phase of the cycle determined by the position I of the switch S, which is a very simple and very robust I control unit brings with it. Door het gebruik van maar één I schakelaar S kan de overgang een scherpe overgang zijn en één stap I 30 omvatten. Through the use of only one switch S I, the transition may be a sharp transition, and include one step I 30. Voor het van de eerste fase overgaan naar de tweede fase van de 11 cyclus sluit volgens dit voorbeeld de besturingseenheid B de schakelaar S. For the transition from the first phase to the second phase of the cycle of closure 11 in accordance with this example, the control unit B, the switch S.

Op het moment van sluiten van de schakelaar S zijn de potentialen van de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 in één stap aan elkaar gelijk. At the time of closing of the switch S, the potentials of the first electrode 3 and the second electrode 4 in one step, equal to each other. Immers, zowel de eerste elektrode 3 als de tweede elektrode 4 worden dan 5 geaard. After all, both the first electrode 3 and second electrode 4 are then five grounded. Men zou ook kunnen stellen dat in de tweede fase van de cyclus de eerste elektrode wordt verbonden met de tweede elektrode en dat dientengevolge het potentiaalvershil tussen de eerste en de tweede elektrode in de tweede fase gelijk is aan nul. One could also state that is connected to the first electrode in the second phase of the cycle, with the second electrode and that consequently the potentiaalvershil between the first and the second electrode in the second phase is equal to zero. Het is daarbij niet noodzakelijk dat de eerste elektrode en de tweede elektrode in de tweede fase met de 10 aarde zijn verbonden. It is not necessary that the first electrode and the second electrode are connected in the second phase with the 10 earth. In de tweede fase ontstaat in elk geval door de aanwezigheid van de elektronen op de diëlektrische deklaag 6 een elektrisch veld E dat loodrecht op het oppervlak van de diëlektrische deklaag is gericht. In the second phase occurs, in any case, due to the presence of the electrons on the dielectric covering layer 6, an electric field E which is directed perpendicularly to the surface of the dielectric coating. De elektronen zullen de diëlektrische deklaag verlaten in een richting die tegengesteld is aan de richting van het elektrische veld E. Bij 15 . The electron will leave the dielectric cover layer in a direction which is opposite to the direction of the electric field E. At 15. een inrichting volgens de getoonde uitvoeringsvorm zullen de elektronen in de richting van de tweede elektrode de diëlektrische deklaag verlaten. an apparatus according to the embodiment shown, will leave the electrons in the direction of the second electrode, the dielectric cover layer. De elektronen zullen zich derhalve van de diëlektrische deklaag 6 af voortbewegen in de richting van de tweede elektrode 4. The electron will continue moving away, therefore, of the dielectric covering layer 6 in the direction of the second electrode 4.

De elektronen worden in dit voorbeeld niet door de tweede 20 elektrode 4 aangetrokken daar de tweede elektrode 4 geaard is. The electrons are not attracted to the second electrode 4 is 20 in this example, since the second electrode 4 is grounded. De elektronen zullen zich door het rooster verplaatsen en daarmee een elektronenbundel vormen. The electrons will move through the grid and thereby form an electron beam. Het is nu mogelijk om zeer snel weer in de eerste fase van een volgende cyclus terecht te komen door het simpelweg met behulp van de besturingseenheid B in één stap sluiten van schakelaar S. Op 25 het wederom sluiten van schakelaar S, wordt de potentiaal van de eerste elektrode wederom Uch, en draait de richting van het elektrische veld weer om. It is now possible to very quickly again to end up in the first phase of a subsequent cycle by simply with the aid of the control unit B in one step, closing of the switch S. At 25, the re-closing of the switch S, the potential is of the first electrode Uch again, and turns the direction of the electric field again. Zo kunnen de cycli snel achtereenvolgens worden uitgevoerd door het snel schakelen van de schakelaar S. In het getoonde uitvoeringsvoorbeeld is een weerstand R opgenomen om ervoor zorg te dragen dat de spanningsbron 30 5 niet kort wordt gesloten in de tweede fase. For example, the cycles can be carried out in rapid succession by the fast switching of the switch S. In the embodiment shown, is a resistor R to shall ensure that the voltage source 30, 5 will not be short-circuited in the second phase. Deze weerstand kan ook 102 3111 12 nagenoeg gelijk aan nul zijn. This resistance can also be 102 3111 12 be substantially equal to zero. In dat geval is het raadzaam om de spanningsbron te voorzien van een beveiliging voor kortsluiting. In that case it is advisable to provide the power source of protection for short circuit.

De besturingseenheid is in het getoonde uitvoeringsvoorbeeld ingericht om in de tweede fase het potentiaalverschil tussen de eerste 5 elektrode 3 en de tweede elektrode 4 naar nul te laten afnemen. The control unit is arranged in the exemplary embodiment shown to decrease in the second phase, the potential difference between the first electrode 3 5 and the second electrode 4 to zero. Het is echter ook mogelijk dat het potentiaalverschil slechts kleiner wordt dan het potentiaalverschil dat aangelegd is in de eerste fase van de cyclus. However, it is also possible that then the potential difference is only the smaller the potential difference which is applied in the first phase of the cycle. In dat geval is bijvoorbeeld de tweede elektrode 4 in de tweede fase niet geaard en is in de schakelaar S een weerstand op genomen die een spanningsval 10 teweegbrengt. In that case, for example, the second electrode 4 is not earthed, and in the second phase is in the switch S taken at a resistance which causes a voltage drop 10. Het zal duidelijk zijn dat de besturingseenheid in een dergelijke situatie en ietwat complexere uitvoering vergt. It will be appreciated that the control unit requires in such a situation, and slightly more complex implementation. Het is eveneens mogelijk dat de besturingseenheid B is ingericht om in de tweede fase het potentiaalverschil stapsgewijs te laten afnemen. It is also possible that the control unit B is arranged to cause the potential difference to decrease step by step in the second phase. In een dergelijke uitvoeringsvorm is bijvoorbeeld een in de schakelaar S opgenomen 15 weerstand bijvoorbeeld regelbaar uitgevoerd. In such an embodiment, for example, a switch S included in the resistor 15, for example, given a controllable form.

Het is voorts mogelijk dat de besturingseenheid is ingericht om in een derde fase van de cyclus een zodanig potentiaalverschil tussen de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 aan te leggen dat in gebruik de elektronen zich daardoor versneld in de richting van de tweede elektrode 4 20 begeven. It is further possible that the control unit is configured to in a third phase of the cycle, such a potential difference between the first electrode 3 and second electrode 4 to explain that, in use, the electrons thus accelerated in the direction of the second electrode 4 20 proceed. In een dergelijke uitvoeringsvorm dient de tweede elektrode 4 in de derde fase positief te zijn ten opzichte van de eerste elektrode 3. Het is uiteraard ook mogelijk om direct in de tweede fase het potentiaalverschil te laten afnemen tot onder nul. In such an embodiment should be the second electrode 4 in the third stage positive with respect to the first electrode 3. It is of course also possible to go directly into the second phase, to allow the potential difference to decrease to below zero.

De besturingseenheid kan zijn ingericht om de cyclus veelvuldig 25 achtereenvolgens uit te voeren. The control unit may be arranged to carry out the cycle of in the middle 25, successively. Zo kan een uit een veelvoud van elektronensalvo's opgebouwde nagenoeg continue elektronenbundel worden gegenereerd. For instance, a can be generated from a plurality of electron bursts are constructed substantially continuous electron beam. De besturingseenheid kan worden aangedreven met een op zich bekende hoge spanning elektrisch pulser die bijvoorbeeld is uitgerust met een inrichting voor resonerende ladingen of roterende "spark-gaps", 30 thyratrons, semiconducting opening switches etc. Het is eveneens mogelijk 13 om het generen van de elektronensalvo'sl uit te voeren in een omgeving met een ioniseerbaar gas. The control unit can be driven with a known high-voltage electrical pulser which is, for example, equipped with a device for resonant loads or rotating "spark-gaps', 30 thyratrons, semiconducting opening switches, etc. It is also possible 13 to the generation of the elektronensalvo'sl to be carried out in an environment with an ionizable gas. Het ioniseerbare gas kan bij het ontladen in de eerste fase elektronen vrijgeven die kunnen terechtkomen op de diëlektrische deklaag 6. In dit geval vormt het ioniseerbare gas de elektronenbron. The ionizable gas can release when discharging at the initial stage of electrons that may end up on the dielectric layer 6. In this case, the ionizable gas forms the electron source. Het is 5 mogelijk gebleken om in een Helium gas bij een druk van 30 millibar een elektronenbundel te genereren met een stroomdichtheid van circa 8 ampère per cm2, met een maximale energie van 15 kV bij gebruik van een diëlektrische deklaag met een oppervlak van 60 cm2. It has 5 been found possible to generate an electron beam at a pressure of 30 millibars in a helium gas at a current density of approximately 8 amperes per cm 2, with a maximum energy of 15 kV with the use of a dielectric coating having a surface area of ​​60 cm2. De cycli werden hierbij uitgevoerd met een frequentie van 200 Hz. The cycles were carried out here with a frequency of 200 Hz.

10 Het is niet ondenkbaar dat de elektronensalvo's eveneens wordt gegenereerd bij een atmosferische druk. 10, it is not inconceivable that the electron bursts is also generated at an atmospheric pressure. De energie van de elektronensalvo's kan variërën van een paar kV tot honderden kVs. The energy of the electron beam can vary from a few to hundreds kV KVS. De vakman kan de relevante parameters zodanig afstemmen dat de elektronen een vooraf bepaalde energie hebben. The skilled person, the relevant parameters can tune in such a way that the electrons have predetermined energy. De vakman kan met routine-experimenten 15 bepalen hoe de stroomdichtheid bijvoorbeeld afhangt van de frequentie waarmee de cycli worden uitgevoerd. The skilled person can determine by routine experimentation how to 15, for example, the current density depends on the frequency with which the cycles are performed. De vakman kan bijvoorbeeld de dimensies van de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 vrij bepalen. The skilled person can, for example, the dimensions of the first electrode 3 and to determine the second electrode 4 is exposed. Het is eveneens mogelijk om de afstand d tussen de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4 naar wens af te stemmen. It is also possible to tune the distance d between the first electrode 3 and the second electrode 4 as desired. Ook de optimale dikte h van 20 de deklaag kan met behulp van routine-experimenten worden bepaald. Also, the maximum thickness h of the cover layer 20 can be determined by means of routine experimentation. De besturingsmiddelen kunnen zodanig zijn ingericht dat de frequentie waarmee de cycli worden uitgevoerd vooraf bepaald is, instelbaar is, of bijvoorbeeld afhangt van de in de eerste fase naar de diëlektrische deklaag 6 gerichte stroom van elektronen. The control means may be arranged such that the frequency of the cycles to be performed is predetermined, can be adjusted, or for example, depends on the in the first phase to the dielectric cover layer 6 directed flow of electrons. Het is bijvoorbeeld niet uitgesloten dat een 25 detector, bijvoorbeeld aan de hand van deze stroom elektronen, bepaalt of op de diëlektrische deklaag 6 de maximale hoeveelheid elektronen is terechtgekomen. It is for example not excluded that a detector 25, for example, on the basis of this flow of electrons, determines whether or not on the dielectric layer 6, the maximum amount of electrons is ended. Bij bereiking van deze maximale hoeveelheid heeft het geen zin om de eerste fase langer te laten voortduren. Upon reaching this maximum amount it makes no sense to perpetuate the initial stage longer. De besturingsmiddelen kunnen dan overgaan tot het uitvoeren van de tweede fase van de 30 cyclus, of wachten op een nadere inspectie. The control means may then proceed to carry out the second stage of the 30th cycle, or waiting for a closer inspection. De tweede elektrode 4 kan een 1 no q 1 1 1 14 rooster omvatten, echter ook een enkele ring. The second electrode 4 can comprise a No. 1 q 1 1 1 14 grid, however, also be a single ring. De tweede elektrode kan echter ook een elektrisch geleidende plaat met perforaties omvatten. However, the second electrode may also comprise an electrically conductive plate with perforations. Alhoewel de tweede elektrode bij voorkeur is voorzien van openingen waardoor de van de eerste elektrode vrijgekomen elektronen zich kunnen 5 voortbewegen, kan het voor bijzondere uitvoeringsvormen ook nuttig zijn dat de plaat gesloten is, dat wil zeggen, vrij van dergelijke openingen. Although the second electrode is preferably provided with openings through which the first electrode of the released electrons are able to travel 5, it can be used for particular embodiments can also be useful that the plate is closed, that is to say, free from such openings.

Uiteraard is het eveneens mogelijk om een veelvoud van aan elkaar geschakelde ringen te omvatten. Of course, it is also possible to include a plurality of rings connected to each other. Voorts is het ook mogelijk dat de eerste elektrode in hoofdzaak een cilinder omvat en de tweede elektrode een in 10 hoofdzaak coaxiaal om de eerste elektrode aangebrachte cilinder omvat. Furthermore, it is also possible that the first electrode comprises essentially comprises a cylinder and the second electrode 10 in a substantially coaxial to the first electrode arranged cylinder. Het zal duidelijk zijn dat elke arbitrair gekozen positie en oriëntatie van de eerste elektrode en de tweede elektrode ten opzichte van elkaar binnen het raamwerk van de uitvinding mogelijk is. It will be appreciated that any arbitrarily selected position and orientation of the first electrode and the second electrode relative to each other within the scope of the invention is possible. Voorts geldt dat zowel de eerste elektrode als de tweede elektrode in een arbitrair gekozen vorm kan worden 15 uitgevoerd. Furthermore, it holds that both the first electrode and the second electrode 15 may be carried out in an arbitrarily chosen shape. Hieronder volgt een voorbeeld van een parametersetting voor het in bedrijf zijn van de inrichting volgens de uitvinding. The following is an example of a parameter setting for being in operation of the device according to the invention.

De parameters kunnen zodanig worden ingesteld dat UCh/h < Ebr, waarbij UCh in dit geval het maximale potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode is; The parameters can be set such that UCh / h <Ebr, wherein UCh in this case the maximum potential difference between the first and the second electrode; d de afstand tussen de eerste en de tweede elektrode 20 is; d is the distance between the first and the second electrode 20; h de dikte van de diëlektrische deklaag is, uitgedrukt in cm; h is the thickness of the dielectric layer is, expressed in cm; en Ebr de diëlektrische sterkte is van het materiaal waarvan de diëlektrische deklaag is vervaardigd. and Ebr the dielectric strength of the material of which the dielectric cover layer is manufactured. Wanneer de werkwijze wordt uitgevoerd in een omgeving met He gas geldt bij voorkeur dat: hp/£<0,2; When the process is carried out in an environment with He gas, it preferably holds in that: hp / £ <0.2; 25 * h/£d<l;en pd > 0,4. 25 * h / £ d <l; and pd> 0.4.

waarbij p de gasdruk is, uitgedrukt in Torr; where p is the gas pressure, expressed in torr; waarbij £ de diëlektrische constante is van het materiaal waarvan de diëlektrische deklaag is vervaardigd en waarbij h en d elk zijn uitgedrukt in cm. wherein £ is the dielectric constant of the material of which the dielectric coating is manufactured and where h and d are each expressed in terms of cm.

15 15

Voor een der gelijke parametersetting is gebleken dat „ 100 Iff3 1 J-—tJi—i en pl A hl T ~(£AL/h)1/2 wanneer 5 For any one of the equal parameter setting has been found that "100 Iff3 1, J - Tji pl-i and A T hl ~ (£ U / h) 1/2 when 5

Uch< 800 * (£/p4AL), waarbij J de maximale stoomdichtheid van de gegenereerde elektronenbundel is uitgedrukt in Ampère/cm2; Uch <800 * (£ / p4AL), where J is the maximum steam density of the generated electron beam is expressed in amperes / cm 2; A het oppervlak van de 10 deklaag is, uitgedrukt in cm2; A is the surface of the cover layer 10 is, expressed in terms of cm 2; L de met de ontlading van de eerste elektrode gepaard gaande inductie is, uitgedrukt in μΗ; L is the inductance is associated with the discharge of the first electrode, expressed in μΗ; en T de duur van een elektronenstoompuls is, uitgedrukt in ns. and T is the duration of steam is an electron pulse, expressed in ns. Hierbij geldt wederom dat h de dikte is van de diëlektrische deklaag en d de afstand tussen de eerste en de tweede elektrode is. Here again, it holds that h is the thickness of said dielectric coating film, and d is the distance between the first and the second electrode. Het is gebleken dat binnen het geldigheidsbereik van de 15 bovenstaande formule voor J, bij h=0.5 cm, £ =2000, A = 60 cm2, L= 0.2 μΗ en p = 10 mbar He de stroomdichtheid 60 A/cm2 bedraagt. It has been found that the amount of the current density is 60 A / cm2 within the validity range of the 15 formula above for Y, at h = 0.5 cm, £ = 2000, A = 60 cm2, L = 0.2 μΗ and p = 10 mbar He. Indien UCh kleiner is dan hier aangegeven zal de stroomdichtheid J toenemen terwijl de puisduur T zal afnemen ten opzichte van de hierboven vermelde waarde van J en T. If UCh is smaller than specified here will increase the current density J and the puisduur T will decrease in relation to the above-mentioned value of J, and T.

20 Fig. 20 Fig. 3 toont een alternatieve uitvoeringsvorm van een systeem voor het genereren van een elektronensalvo volgens de uitvinding. 3 shows an alternative embodiment of a system for generating an electron beam according to the invention. Ook in dit geval omvat het systeem een diëlektrisch lichaam; Also in this case, the system comprises a dielectric body; een inrichting voor het opwekken van een elektrisch veld, een bron van elektronen; a device for generating an electric field, a source of electrons; en een besturingseenheid voor het besturen van de inrichting. and a control unit for controlling the device. De inrichting omvat 25 ook in deze uitvoeringsvorm een eerste en een tweede elektrode en een spanningsbron voor het aanleggen van een potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode. The device 25 also comprises, in this embodiment, a first and a second electrode, and a voltage source for applying a potential difference between the first and the second electrode. De eerste elektrode is zodanig tegen het diëlektrische lichaam aangelegen dat het diëlektrische lichaam in hoofdzaak 1023111 16 tussen de eerste en de tweede elektrode is gelegen. The first electrode is in such a way against the dielectric body adjacent to the dielectric body is substantially 1023111 16 is located between the first and the second electrode. Ook in deze uitvoeringsvorm geldt dat het diëlektrische lichaam als een diëlektrische deklaag op de eerste elektrode is aangebracht. Also in this embodiment, it applies that the dielectric body as a dielectric cover layer is applied to the first electrode. De besturingseenheid is ingericht om: in de eerste fase een potentiaalverschil tussen de eerste 5 elektrode en de tweede elektrode zodanig aan te leggen dat de eerste elektrode positief is ten opzichte van dé tweede elektrode. The control unit is configured to: in the first phase, a potential difference between the first electrode 5 and the second electrode in such a way to construct that the first electrode is positive with respect to the second electrode. De bron van elektronen omvat in deze uitvoeringsvorm een tussen de eerste en de tweede elektrode 3, 4 opgenomen geleider. The source of electrons comprises, in this embodiment, a between the first and the second electrode 3, 4 are conductor. Deze geleider is voorts voorzien van uitsparingen voor het tenminste in de tweede fase door de uitsparing laten 10 passeren van elektronen die zich van de eerste elektrode in de richting van de tweede elektrode verplaatsen. This conductor is furthermore provided with recesses for at least in the second phase, by the recess 10 allow passage of electrons moving from the first electrode in the direction of the second electrode. In dit voorbeeld is de geleider roostervormig uitgevoerd zodat de uitsparingen inherent aanwezig. In this example, has been carried out, the grid-shaped conductor so that the recesses inherently present. Deze geleider 7 is via een relatief hoge weerstand verbonden met een elektronenbron van. This conductor 7 is connected to an electron source through a relatively high resistance. In het getekende voorbeeld is de geleider 7 via de 15 relatief hoge elektrische weerstand R verbonden met de aarde. In the illustrated example, the conductor 7 through 15, the relatively high electrical resistance R is connected to the ground.

De besturingseenheid bestuurt de inrichting in gebruik dusdanig dat: in een eerste fase van een cyclus elektronen vanuit de bron 7 op het diëlektrische oppervlak 6 terechtkomen en in een tweede fase van de cyclus elektronen het diëlektrische oppervlak 6 verlaten. The control unit controls the device in use such that: end up in a first phase of a cycle, electrons from the source 7 on the dielectric surface 6 and, in a second phase of the cycle, electrons leaving, the dielectric surface 6. Hiertoe legt de 20 besturingseenheid B in de eerste fase met behulp van de niet getoonde spanningsbron een zodanig potentiaalverschil aan tussen de eerste en de tweede elektrode dat de eerste elektrode positief is ten opzichte van de tweede elektrode. To this end, places the controller 20 B in the first phase with the aid of the voltage source, not shown, such a potential difference at between the first and the second electrode such that the first electrode is positive with respect to the second electrode. Bij het systeem volgens het voorbeeld zoals getoond in de figuren 3 en 4 is de elektrode 3 zowel in de eerste als in de tweede fase 25 verbonden met een positieve pool 5 van een niet getoonde spanningsbron. In the system according to the example as shown in Figures 3 and 4, the electrode 3, both in the first and in the second stage 25 is connected to a positive pole 5 of a not shown power source. In dit voorbeeld is het systeem zelfs zodanig ingericht dat zowel in de eerste fase als in de tweede fase een potentiaal in absolute zin ter grootte van UCh aan de eerste elektrode 3 wordt opgelegd. In this example, the system even in such a way that both in the first phase and in the second phase, a potential in an absolute sense the size of UCh is imposed on the first electrode 3. De besturingseenheid B is voorts ingericht om in de eerste fase een in absolute zin negatieve potentiaal UBw 30 aan de tweede elektrode 4 op te leggen. The control unit B is further arranged to impose in the first phase, a negative potential in the absolute sense ubw 30 to the second electrode 4.

17 17

De besturingseenheid B is voorts zodanig ingericht dat in de tweede fase ten opzichte van de aan de eerste elektrode opgelegde potentiaal, een positieve 5 potentiaal aan de tweede elektrode kan worden opgelegd. The control unit B is further arranged such that in the second phase with respect to the potential imposed on the first electrode, 5 a positive potential can be applied to the second electrode. Er geldt dus dat de besturingseenheid is ingericht om aan de eerste elektrode een eerste potentiaal op te leggen en om aan de tweede elektrode een tweede potentiaal op te leggen. It therefore holds that the control unit is arranged to impose a first potential to the first electrode and to impose a second potential to the second electrode. Hierbij geldt dat in de eerste fase de tweede potentiaal negatief is ten opzichte van de eerste potentiaal en waarbij voorts geldt in de tweede 10 fase de tweede potentiaal positief is ten opzichte van de eerste potentiaal. It is true that in the first phase, the second potential is negative with respect to the first potential and with the further provision in the second phase 10, the second potential is positive with respect to the first potential.

In het getoonde voorbeeld brengt dit met zich dat de besturingseenheid zodanig is ingericht dat in de tweede fase de tweede potentiaal positief is ten opzichte van de eerste potentiaal. In the example shown, this entails that the control unit is arranged in such a way that in the second phase, the second potential is positive with respect to the first potential.

Het systeem zoals getoond in de figuren 3 en 4 omvat voorts aan 15 één van de eerste elektrode afgekeerde zijde van de tweede elektrode opgestelde derde elektrode. The system as shown in Figures 3 and 4, further comprising 15 to one of the first electrode which faces away from the second electrode arranged third electrode. Het systeem is ingericht om tenminste in de tweede fase een zodanige potentiaal aan de derde elektrode op te leggen dat de van de diëlektrische deklaag vrijgekomen elektronen in de richting van de derde elektrode worden versneld. The system is arranged to, at least in the second phase, to impose a potential on the third electrode such that the dielectric covering layer of the released electrons are accelerated in the direction of the third electrode. In het getoonde voorbeeld is deze 20 potentiaal zowel in de eerste als in de tweede fase aan de derde elektrode opgelegd. In the example shown, these 20 potential imposed both in the first and in the second phase to the third electrode. In dat geval is de besturingseenheid B ingericht om in de eerste fase een zodanig potentiaal aan de tweede elektrode op te leggen dat het elektrisch veld tussen de eerste en de tweede elektrode in de eerste fase is gericht van de eerste elektrode naar de tweede elektrode. In that case, the control unit B are adapted to impose on the second electrode such a potential in the first stage, that the electric field between the first and the second electrode in the first stage is directed from the first electrode to the second electrode.

25 De werking van deze uitvoeringsvorm is als volgt. 25 The operation of this embodiment is as follows. In de eerste fase stuurt de besturingseenheid B dusdanig dat de tweede elektrode 4 wordt met behulp van schakelaar SR aangesloten op een negatieve pool Usw (neg) van een niet getoonde spanningsbron. In the first phase, sends the control unit B such that the second electrode 4 is by means of switch SR connected to a negative pole Usw (neg) from an unshown voltage source. Het dan geldende potentiaalverschil tussen de tweede elektrode 4 en de eerste elektrode 3 heeft tot gevolg dat er 30 een elektrisch veld ontstaat waarvan de veldlijnen zijn gericht zoals 1 ΠΟ Q 1 1 1 18 weergegeven met pijl E. Vanuit de bron van elektronen, in dit geval uitgevoerd als geleider 7, verplaatsten de elektronen zich zoals weergegeven met de pijlen 2 naar het diëlektrische oppervlak 6. Het spanningsverschil tussen de tweede elektrode 4 en de eerste elektrode 3 is overigens dusdanig 5 dat de elektrische veldlijnen tussen de geleider 7 en het diëlektrische oppervlak 6 gericht zijn van het diëlektrische oppervlak naar de geleider 7. Met andere woorden, een op de derde elektrode aangebrachte relatief hoge potentiaal heeft geen invloed op de in de eerste fase gewenste richting van de veldlijnen nabij het diëlektrische oppervlak. The then-current potential difference between the second electrode 4 and the first electrode 3 has the result that there are 30 creates an electric field whose field lines are oriented, such as 1 ΠΟ Q 1 1 1 18 indicated by the arrow E. From the source of electrons, in this case constructed as a conductor 7, the electrons moved as shown by the arrows 2 to the dielectric surface 6. the voltage difference between the second electrode 4 and the first electrode 3 is fitted in such a way that the electric field lines 5 between the conductor 7 and the dielectric surface 6 are directed from the dielectric surface to the conductor 7. in other words, an electrode arranged on the third relatively high potential has no effect on the first phase in the desired direction of the field lines near the dielectric surface.

10 In de tweede fase stuurt de besturingseenheid B de inrichting zodanig dat de tweede elektrode een ten opzichte van de eerste elektrode hogere positieve potentiaal verkrijgt. 10 In the second phase, the control unit B controls the device in such a manner that the second electrode is obtained a with respect to the first electrode higher positive potential. De schakelaar SR wordt daartoe omgeschakeld naar een pool met een andere potentiaal. The switch SR is for this purpose is switched to a pole with a different potential. In het getekende voorbeeld betreft het de potentiaal Usw (pos). In the illustrated example relates to the potential Usw (pos). In dit geval zullen de 15 elektrische veldlijnen zich loodrecht richten op het diëlektrische oppervlak 6. De op het diëlektrische oppervlak aanwezige elektronen zullen als gevolg daarvan het diëlektrische oppervlak verlaten in een richting die tegengesteld is aan de richting van de elektrische veldlijnen een en ander zoals uiteengezet bij de beschrijving van de eerste uitvoeringsvorm. In this case, the 15 electric field lines extend perpendicular to focus on the dielectric surface 6. The electrons present on the dielectric surface will as a result thereof, leaving the dielectric surface in a direction which is opposite to the direction of the electric field lines of the foregoing as set put in the description of the first embodiment. De 20 potentiaal van de geleider 7 zal vanwege de hoge weerstand R in de verbinding van de geleider 7 met de aarde, een potentiaal aannemen die ligt tussen de potentiaal van de eerste elektrode 3 en de tweede elektrode 4. In de tweede fase is er derhalve sprake van een oplopende potentiaal in de richting van de derde elektrode. 20, the potential of the conductor 7, it will because of the high resistance R in the compound of the conductor 7 to the ground, take a potential which is between the potential of the first electrode 3 and the second electrode 4. In the second phase, there is, therefore, there is a rising potential in the direction of the third electrode. De van het diëlektrische oppervlak 25 vrijgekomen elektronen zullen in de richting van de derde elektrode owrden versneld. The surface of the dielectric 25 will owrden released electrons are accelerated in the direction of the third electrode. Het zal duidelijk zijn dat de afstand dl tussen de eerste elektrode en de geleider 7, de afstand d2 tussen de geleider 7 en de tweede elektrode, en de afstand d3 tussen de tweede elektrode 4 en de derde elektrode 9 door de vakman zodanig kan worden gekozen dat een optimale werking van het 30 systeem wordt verkregen. It will be clear that can be chosen, the distance dl between the first electrode and the conductor 7, the distance d2 between the conductor 7 and the second electrode, and the distance d3 between the second electrode 4 and the third electrode 9 by the skilled artisan in such a way that an optimum operation of the system 30 is obtained. Met betrekking tot bijvoorbeeld de vorm van 19 elektroden gelden voor deze uitvoeringsvorm dezelfde opmerkingen als gemaakt bij de bespreking van de eerste uitvoeringsvorm, het is in beide uitvoeringsvormen mogelijk dat een naar de tweede elektrode toegekeerde zijde van het diëlektrisch lichaam enigszins concaaf is uitgevoerd. With respect to, for example, in the form of 19 electrodes shall be construed as made the same comments for this embodiment, in the discussion of the first embodiment, it is possible that a is outputted to the second electrode-facing side of the dielectric body is slightly concave in both embodiments. Dit 5 bevordert de bundelvorming. This 5 promotes beamforming.

Ook voor deze uitvoeringsvorm gelden dat de cyclus veelvuldig wordt herhaald met bijvoorbeeld een frequentie zoals aangegeven bij een bespreking van de figuren 1 en 2. Also applicable for this embodiment that the cycle is constantly repeated with a frequency, for example, as indicated at a discussion of the figures 1 and 2.

Ook voor deze uitvoeringsvorm geldt dat de cycli kunnen worden 10 uitgevoerd in een omgeving met ioniseerbaas gas, zoals bijvoorbeeld He. Also for this embodiment, it holds that the 10 cycles may be carried out in an environment with ioniseerbaas gas, such as for instance He. Het is ook mogelijk om de inrichting te plaatsen en te laten opereren in een omgeving met een atmosferische druk. It is also possible to place the device and to allow to operate in an environment with an atmospheric pressure. Ook deze uitvoeringsvorm kan worden gebruikt ten behoeve van het genereren van röntgenstraling of het genereren van een plasma. Also this embodiment may be used for the purpose of generating X-ray radiation or the generation of a plasma.

15 Dergelijke uitbreidingen en varianten worden elk geacht tot de uitvinding te behoren. Such extensions 15 and its variants are each understood to belong to the invention.

Λ no o -! Λ no o - 1 1

Claims (50)

  1. 1. Systeem voor het genereren van een elektronensalvo, omvattende: I een diëlektrisch lichaam; 1. A system for generating an electron beam, comprising: I a dielectric body; een inrichting voor het opwekken van een I elektrisch veld; a device for generating an electrical field I; een bron van elektronen; a source of electrons; en een besturingseenheid voor het I besturen van de inrichting, waarbij de besturingseenheid in gebruik I 5 dusdanig stuurt dat, · in een eerste fase van een cyclus elektronen vanuit de bron op het I diëlektrisch lichaam terechtkomen, en · in een tweede fase van de cyclus elektronen het diëlektrische lichaam I verlaten. and a control unit for the I control of the device, wherein the control unit in use, I 5 such a manner that, · end up in a first phase of a cycle, electrons from the source to the I dielectric body, and • in a second phase of the cycle, electrons leave the dielectric body I. I 10 I 10
  2. 2. Systeem volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de inrichting I voorts is voorzien van een eerste en een tweede elektrode en een I spanningsbron voor het aanleggen van een potentiaalverschil tussen de I eerste en de tweede elektrode, waarbij de eerste elektrode zodanig tegen het diëlektrische lichaam aanligt dat het diëlektrische lichaam in hoofdzaak I 15 tussen de eerste en de tweede elektrode is gelegen en waarbij de I besturingseenheid is ingericht om: in de eerste fase een potentiaalverschil tussen de eerste elektrode en de tweede elektrode zodanig aan te leggen dat I de eerste elektrode positief is ten opzichte van de tweede elektrode. 2. A system as claimed in claim 1, characterized in that the apparatus I is further provided with a first and a second electrode, and a I voltage source for applying a potential difference between the I first and the second electrode, wherein the first electrode in such a way against the dielectric body abuts that the dielectric body is substantially I 15 between the first and the second electrode is located, and wherein the I controller is configured to: a difference in potential between the first electrode and the second electrode in the first phase in such a way to impose that I the first electrode is positive with respect to the second electrode.
  3. 3. Systeem volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de I 20 besturingseenheid voorts is ingericht om in de tweede fase het I potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode te laten afnemen. 3. A system according to claim 2, characterized in that the I controller 20 is further adapted to allow the I potential difference between the first and the second electrode to decrease in the second phase.
  4. 4. Systeem volgens conclusie 3, met het kenmerk, dat de I besturingseenheid is ingericht om in de tweede fase het potentiaalverschil te I laten afnemen naar nul. 4. A system according to claim 3, characterized in that the I controller is arranged to decrease the potential difference to I in the second phase to zero. I 25 I 25
  5. 5. Systeem volgens conclusie 3 of 4, met het kenmerk, dat de I besturingseenheid is ingericht om in de tweede fase de eerste elektrode en I de tweede elektrode met elkaar te verbinden. 5. A system according to claim 3 or 4, characterized in that the I controller is adapted such that in the second phase, the first electrode and I to connect the second electrode to each other.
  6. 6. Systeem volgens één der conclusies 3-5, met het kenmerk, dat de besturingseenheid is ingericht om in de tweede fase de eerste elektrode en de tweede elektrode met de aarde te verbinden. 6. A system according to any one of claims 3-5, characterized in that the control unit is arranged to connect the first electrode and the second electrode with the earth during the second phase.
  7. 7. Systeem volgens één der voorgaande conclusies 3-6, met het kenmerk, 5 dat de besturingseenheid is voorzien van een schakelaar voor het in de tweede fase in één stap laten afnemen van het potentiaalverschil. 7. A system according to any one of the preceding claims 3-6, characterized 5 in that the control unit is provided with a switch for decreasing the potential difference in one step in the second stage.
  8. 8. Systeem volgens conclusie 7, met het kenmerk, dat de tweede elektrode is geaard, de eerste elektrode en de tweede elektrode parallel aan elkaar zijn geschakeld met een positieve pool van de spanningsbron, en de 10 schakelaar tussen de tweede elektrode en de spanningsbron is opgenomen. 8. A system according to claim 7, characterized in that the second electrode is grounded, the first electrode and the second electrode are connected in parallel with each other with a positive pole of the voltage source, and the tenth switch connected between the second electrode and the voltage source is included.
  9. 9. Systeem volgens conclusie 3 met het kenmerk, dat de besturingseenheid is ingericht om in de tweede fase het potentiaalverschil te laten afhemen tot onder nul. 9. A system according to claim 3, characterized in that the control unit is arranged to cause the potential difference in the second phase afhemen to below zero.
  10. 10. Systeem volgens één der conclusies 3-9, met het kenmerk, dat de 15 besturingseenheid is ingericht om in een derde fase van de cyclus een zodanig potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode aan te leggen dat in gebruik de elektronen zich daardoor versneld in de richting van de tweede elektrode begeven. 10. A system as claimed in any one of claims 3-9, characterized in that the control unit 15 is arranged in such a way to have a potential difference between the first and the second electrode to apply that, in use, the electrons are accelerated thereby, in a third phase of the cycle move in the direction of the second electrode.
  11. 11. Systeem volgens één der conclusies 3-10, met het kenmerk, dat de 20 tweede elektrode tevens als elektronenbron fungeert. 11. A system according to any one of claims 3-10, characterized in that the second electrode 20 also functions as an electron source.
  12. 12. Systeem volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat tussen de eerste en de tweede elektrode een geleider als elektronenbron is opgenomen, welke geleider is voorzien van uitsparingen voor het ten minste in de tweede fase door de uitsparingen laten passeren van elektronen die zich van de eerste 25 elektrode in de richting van de tweede elektrode verplaatsen. 12. A system according to claim 2, characterized in that a conductor is included as an electron source between the first and the second electrode, which conductor is provided with recesses for the at least in the second phase, passing through the recesses of electrons moving from the first electrode 25 to move in the direction of the second electrode.
  13. 13. Systeem volgens conclusie 12, met het kenmerk, dat de geleider via een relatief hoge elektrische weerstand is verbonden met een elektronenbron. 13. A system according to claim 12, characterized in that the conductor by means of a relatively high electrical resistance is connected to an electron source.
  14. 14. Systeem volgens conclusie 13, met het kenmerk, dat de weerstand 30 met de aarde elektrisch is verbonden. 14. A system according to claim 13, characterized in that the resistor 30 is electrically connected to the earth. m?3iii m? 3iii
  15. 15. Systeem volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat de inrichting is ingericht om in de eerste en in de tweede fase aan de eerste elektrode een ten opzichte van de potentiaal van de tweede elektrode positieve potentiaal op te leggen. 15. A system according to claim 2, characterized in that the device is arranged to impose in the first and in the second phase to the first electrode a with respect to the potential of the second electrode positive potential.
  16. 16. Systeem volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat in de eerste fase en in de tweede fase de eerste elektrode is verbonden met eenzelfde positieve pool van de spanningsbron. 16. A system according to claim 15, characterized in that, in the first phase and in the second phase, the first electrode is connected with the same positive pole of the voltage source.
  17. 17. Systeem volgens conclusie 2 of één der conclusies 12-16, met het kenmerk, dat de besturingseenheid is ingericht om aan de eerste elektrode 10 een eerste potentiaal op te leggen en om aan de tweede elektrode een tweede potentiaal op te leggen, waarbij geldt dat in de eerste fase de tweede potentiaal negatief is ten opzichte van de eerste potentiaal en waarbij voorts geldt in de tweede fase de tweede potentiaal positief is ten opzichte van de eerste potentiaal. 17. A system according to claim 2 or to any one of claims 12-16, characterized in that the control unit is arranged to impose a first potential to the first electrode 10 and to impose a second potential to the second electrode, it being that in the first phase, the second potential is negative with respect to the first potential and with the further provision in the second phase, the second potential is positive with respect to the first potential.
  18. 18. Systeem volgens conclusie 16 en 17, met het kenmerk, dat de besturingseenheid zodanig is ingericht dat in de tweede fase de tweede potentiaal positief is ten opzichte van de eerste potentiaal. 18. A system according to claim 16 and 17, characterized in that the control unit is arranged in such a way that in the second phase, the second potential is positive with respect to the first potential.
  19. 19. Systeem volgens één der conclusies 2-18, met het kenmerk, dat op aan een van de eerste elektrode afgekeerde zijde van de tweede elektrode 20 een derde elektrode is opgesteld, waarbij de inrichting voorts is ingericht om ten minste in de tweede fase een zodanige potentiaal aan de derde elektrode op te leggen dat de van de diëlektrische vrijgekomen elektronen in de richting van de derde elektrode worden versneld. 19. A system as claimed in any one of claims 2-18, characterized in that on one of the first electrode which faces away from the second electrode 20, a third electrode is arranged, wherein the apparatus is further adapted to, at least in the second phase a such a potential to be imposed on the third electrode such that the dielectric of the released electrons are accelerated in the direction of the third electrode.
  20. 20. Systeem volgens conclusie 17 en 19, met het kenmerk, dat de 25 besturingseenheid is ingericht om in de eerste fase een zodanige potentiaal aan de tweede elektrode op te leggen dat het elektrische veld tussen de eerste en de tweede elektrode is gericht van de eerste elektrode naar de tweede elektrode. 20. A system according to claim 17 and 19, characterized in that the 25 control unit is arranged to impose on the second electrode such a potential in the first stage that the electric field between the first and the second electrode is directed from the first electrode to the second electrode.
  21. 21. Systeem volgens één der conclusies, met het kenmerk dat de besturingseenheid is ingericht om de cyclus veelvuldig achtereenvolgens uit te voeren. 21. A system according to any one of the claims, characterized in that the control unit is adapted to carry out frequent the cycle in succession.
  22. 22. Systeem volgens één der conclusies 1-21, met het kenmerk, dat het 5 lichaam in hoofdzaak plaatvormig is uitgevoerd. 22. A system according to any one of claims 1-21, characterized in that the body 5 is of substantially plate-shaped.
  23. 23. Systeem volgens een der conclusies 2-22, met het kenmerk dat een naar de tweede elektrode toegekeerde zijde van het diëlektrisch lichaam enigszins concaaf is uitgevoerd. 23. A system according to any one of claims 2-22, characterized in that a second electrode to the facing side of the dielectric body is of slightly concave.
  24. 24 Systeem volgens één der conclusies 3-23, met het kenmerk, dat de 10 tweede elektrode in hoofdzaak plaatvormig is uitgevoerd. 24 System according to any one of claims 3-23, characterized in that the second electrode 10 is of a substantially plate-shaped.
  25. 25. Systeem volgens een der conclusies 2-24, met het kenmerk, dat de eerste elektrode evenwijdig aan de tweede elektrode is opgesteld. 25. A system as claimed in any one of claims 2-24, characterized in that the first electrode is disposed parallel to the second electrode.
  26. 26. Systeem volgens één der conclusies 2-21, met het kenmerk, dat de eerste elektrode in hoofdzaak een cilinder omvat en de tweede elektrode een 15 in hoofdzaak coaxiaal om de eerste elektrode aangebrachte cilinder omvat. 26. A system according to any one of claims 2-21, characterized in that said first electrode substantially comprises a cylinder and the second electrode 15 in a substantially coaxial to the first electrode arranged cylinder.
  27. 27. Systeem volgens één der conclusies 2-26, met het kenmerk dat de tweede elektrode is voorzien van tenminste een ring. 27. A system as claimed in any one of claims 2-26, characterized in that the second electrode is provided with at least one ring.
  28. 28. Systeem volgens één der conclusies 2-27, met het kenmerk dat de tweede elektrode een rooster omvat. 28. A system as claimed in any one of claims 2-27, characterized in that the second electrode comprises a grid.
  29. 29. Systeem volgens één der conclusies 2-28, met het kenmerk, dat de tweede elektrode elektrisch geleidend gaas omvat. 29. A system as claimed in any one of claims 2-28, characterized in that the second electrode comprises electrically conductive mesh.
  30. 30. Systeem volgens één der conclusies 3-28, met het kenmerk, dat de tweede elektrode is vervaardigd van een elektrisch geleidende plaat met perforaties. 30. A system as claimed in any one of claims 3-28, characterized in that the second electrode is made of an electrically conductive plate with perforations.
  31. 31. Systeem volgens één der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het diëlektrische lichaam van een keramisch materiaal is vervaardigd. 31. A system according to any one of the preceding claims, characterized in that the dielectric body is made of a ceramic material.
  32. 32. Systeem volgens één der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het diëlektrische lichaam van een polymeer is vervaardigd. 32. A system according to any one of the preceding claims, characterized in that the dielectric body is made of a polymer.
  33. 33. Werkwijze voor het genereren van een elektronenbundel, waarbij 30 de werkwijze ten minste het opwekken van een elektrisch veld omvat, met r,0*11. 33. A method for generating an electron beam, in which 30, the method comprising at least the generation of an electric field, with r, 0 * 11. 1 het kenmerk, dat de werkwijze voorts een cyclus omvat waarvan een eerste fase ten minste omvat: • het zodanig opwekken van het elektrisch veld dat elektronen op een diëlectrisch lichaam terechtkomen; 1, characterized in that the method further comprises a cycle of which comprises a first phase, at least: • in such a way, the generation of the electric field which electrons end up on a dielectric body; 5 en waarvan een tweede fase ten minste omvat: • het zodanig opwekken van het elektrisch veld dat elektronen het diëlectrisch lichaam verlaten. 5, and which comprises a second phase, at least: • in such a way, the generation of the electric field that electrons leaving the dielectric body.
  34. 34. Werkwijze volgens conclusie 33, met het kenmerk, dat het lichaam een eerste elektrode omvat en het diëlektrische oppervlak als een 10 diëlektrische deklaag is aangebracht op de eerste elektrode, waarbij nabij de eerste elektrode een tweede elektrode is gelegen. 34. A method according to claim 33, characterized in that the body comprises a first electrode, and the dielectric surface as a 10 dielectric coating is applied to the first electrode, wherein a second electrode is located near the first electrode.
  35. 35. Werkwijze volgens conclusie 34, met het kenmerk, dat de eerste fase ten minste omvat: het zodanig aanleggen van een potentiaalverschil over de eerste elektrode 15 en de tweede elektrode dat de eerste elektrode positief is ten opzichte van de tweede elektrode . 35. A method according to claim 34, characterized in that the first phase comprises at least: in such a way, the application of a potential difference across the first electrode 15 and the second electrode such that the first electrode is positive with respect to the second electrode.
  36. 36. Werkwijze volgens conclusie 34, met het kenmerk, dat de tweede fase ten minste omvat het laten afnemen van het potentiaalverschil tussen de eerste en de tweede elektrode zodat elektronen het diëlektrische lichaam 20 verlaten. 36. A method according to claim 34, characterized in that the second phase comprises at least the decrease in the potential difference between the first and the second electrode so that electrons leaving the dielectric body 20.
  37. 37. Werkwijze volgens conclusie 36, met het kenmerk, dat de tweede fase van de werkwijze omvat: • het potentiaalverschil naar nul laten afnemen. 37. The method according to claim 36, characterized in that the second phase of the method comprises: • the difference in potential decreasing to zero.
  38. 38. Werkwijze volgens conclusie 36 of 37, met het kenmerk, dat de tweede 25 fase van de werkwijze omvat: • het met elkaar verbinden van de eerste en de tweede elektrode. 38. A method as claimed in claim 36 or 37, characterized in that the second consists of 25 phase of the method: • interlocking of the first and the second electrode.
  39. 39. Werkwijze volgens één der conclusies 33-38, met het kenmerk, dat de tweede fase van de werkwijze omvat: • het met de aarde verbinden van de eerste en de tweede elektrode. 39. The method according to any one of claims 33-38, characterized in that the second phase of the method comprises: • connecting with the ground of the first and the second electrode.
  40. 40. Werkwijze volgens één der conclusies 33-39, met het kenmerk, dat de tweede fase van de werkwijze omvat: • het met behulp van een schakelaar in een stap laten afhemen van het potentiaalverschil. 40. A method as claimed in any one of claims 33-39, characterized in that the second phase of the method comprises: • with the aid of a switch in a step let afhemen of the potential difference.
  41. 41. Werkwijze volgens één der conclusies 33-40 met het kenmerk, dat de tweede fase van de werkwijze omvat: • het met de aarde verbinden van de eerste en de tweede elektrode. 41. The method according to any one of claims 33-40, characterized in that the second phase of the method comprises: • connecting with the ground of the first and the second electrode.
  42. 42. Werkwijze volgens conclusie 33 met het kenmerk, dat de tweede fase van de werkwijze omvat: 10. het tot onder nul laten afhemen van het potentiaal verschil. 42. The method according to claim 33, characterized in that the second phase of the method comprises: 10. to below zero, the show afhemen of the potential difference.
  43. 43. Werkwijze volgens één der conclusies 33-42 met het kenmerk, dat de werkwijze in een derde fase van de cyclus omvat: • het tussen de eerste en de tweede elektrode aanleggen van een zodanig potentiaal verschil dat, in gebruik, de elektronen zich 15 daardoor versneld in de richting van de tweede elektrode begeven. 43. The method according to any one of claims 33-42, characterized in that the method comprises in a third phase of the cycle: • applying between the first and the second electrode of a potential difference in such a way that, in use, the electrons 15 thereby move accelerated in the direction of the second electrode.
  44. 44. Werkwijze volgens conclusie 33, met het kenmerk, dat de werkwijze voorts omvat, het in de eerste fase aan de eerste elektrode opleggen van een potentiaal die positief is ten opzichte van de potentiaal van de tweede elektrode en het in de tweede fase aan de tweede elektrode opleggen van een 20 potentiaal die positief is ten opzichte van de potentiaal van de eerste elektrode. 44. The method according to claim 33, characterized in that the method further comprises, the imposition of a potential at the first stage to the first electrode which is positive relative to the potential of the second electrode, and in the second phase to the second electrode 20 impose a potential which is positive relative to the potential of the first electrode.
  45. 45. Werkwijze volgens één der conclusies 33-44 met het kenmerk, dat de werkwijze omvat: • het veelvuldig achtereenvolgens uitvoeren van de cyclus. 45. The method according to any one of claims 33-44, characterized in that the method comprises: • the frequent sequentially performing the cycle.
  46. 46. Werkwijze volgens één der conclusies 33-45, met het kenmerk, dat de werkwijze wordt uitgevoerd in een omgeving met een ioniseerbaar gas. 46. ​​A method as claimed in any one of claims 33-45, characterized in that the process is carried out in an environment with an ionizable gas.
  47. 47. Werkwijze volgens één der conclusies 33-46 met het kenmerk, dat het gas Helium omvat. 47. A method according to any one of claims 33-46, characterized in that the gas comprises helium. < noo 1 1 1 <Noo 1 1 1
  48. 48. Werkwijze volgens één der conclusies 33-47 met het kenmerk, dat de werkwijze wordt uitgevoerd bij een atmosferische druk. 48. The method according to any one of claims 33-47, characterized in that the process is carried out at an atmospheric pressure.
  49. 49. Gebruik van een systeem volgens één der conclusies 1-32 ten behoeve van het genereren van röntgenstraling. 49. Use of a system according to any one of claims 1-32 for the purpose of generating X-ray radiation.
  50. 50. Gebruik van een inrichting volgens één der conclusies 1-32 ten behoeve van het genereren van een plasma. 50. Use of a device according to any one of claims 1-32 for the purpose of generating a plasma.
NL1023111A 2003-04-04 2003-04-04 System and method for generating an electron beam. NL1023111C2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1023111A NL1023111C2 (en) 2003-04-04 2003-04-04 System and method for generating an electron beam.
NL1023111 2003-04-04

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1023111A NL1023111C2 (en) 2003-04-04 2003-04-04 System and method for generating an electron beam.
PCT/NL2004/000224 WO2004088708A3 (en) 2003-04-04 2004-04-05 System and method for generating an electorn beam

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1023111C2 true NL1023111C2 (en) 2004-10-05

Family

ID=33129156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1023111A NL1023111C2 (en) 2003-04-04 2003-04-04 System and method for generating an electron beam.

Country Status (2)

Country Link
NL (1) NL1023111C2 (en)
WO (1) WO2004088708A3 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7615931B2 (en) 2005-05-02 2009-11-10 International Technology Center Pulsed dielectric barrier discharge
GB0819748D0 (en) * 2008-10-28 2008-12-03 Ex Beams Ltd Apparatus for generating an electron beam

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3824400A (en) * 1969-09-25 1974-07-16 K Lehovec Induced charge transfer devices
US4363774A (en) * 1978-01-24 1982-12-14 Bennett Willard H Production and utilization of ion cluster acceleration
US5508590A (en) * 1994-10-28 1996-04-16 The Regents Of The University Of California Flat panel ferroelectric electron emission display system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3824400A (en) * 1969-09-25 1974-07-16 K Lehovec Induced charge transfer devices
US4363774A (en) * 1978-01-24 1982-12-14 Bennett Willard H Production and utilization of ion cluster acceleration
US5508590A (en) * 1994-10-28 1996-04-16 The Regents Of The University Of California Flat panel ferroelectric electron emission display system

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BENEDEK G ET AL: "Displacement and emission currents from PLZT 8/65/35 and 4/95/5 excited by a negative voltage pulse at the rear electrode" NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH, SECTION - A: ACCELERATORS, SPECTROMETERS, DETECTORS AND ASSOCIATED EQUIPMENT, NORTH-HOLLAND PUBLISHING COMPANY. AMSTERDAM, NL, deel 393, nr. 1-3, 1 juli 1997 (1997-07-01), bladzijden 469-473, XP004093002 ISSN: 0168-9002 *

Also Published As

Publication number Publication date Type
WO2004088708A3 (en) 2005-07-07 application
WO2004088708A2 (en) 2004-10-14 application

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5330800A (en) High impedance plasma ion implantation method and apparatus
US4596945A (en) Modulator switch with low voltage control
US3767551A (en) Radio frequency sputter apparatus and method
Nation et al. Advances in cold cathode physics and technology
US5286360A (en) Apparatus for coating a substrate, especially with electrically nonconductive coatings
US5537005A (en) High-current, low-pressure plasma-cathode electron gun
US20110101863A1 (en) Extreme ultraviolet light source device and method for producing extreme ultraviolet light
Srinivasan‐Rao et al. Photoemission studies on metals using picosecond ultraviolet laser pulses
US20050184669A1 (en) Methods and Apparatus for Generating Strongly-Ionized Plasmas with Ionizational Instabilities
US5054046A (en) Method of and apparatus for production and manipulation of high density charge
US4587430A (en) Ion implantation source and device
US5054047A (en) Circuits responsive to and controlling charged particles
US6768120B2 (en) Focused electron and ion beam systems
US6548817B1 (en) Miniaturized cathodic arc plasma source
US20060066248A1 (en) Apparatus for generating high current electrical discharges
Anders et al. Triggerless' triggering of vacuum arcs
US4771168A (en) Light initiated high power electronic switch
US4058697A (en) Electron beam unit for heat treatment by electron bombardment technique
US6534775B1 (en) Electrostatic trap for particles entrained in an ion beam
US6896773B2 (en) High deposition rate sputtering
US3218431A (en) Self-focusing electron beam apparatus
US20050092596A1 (en) Method and apparatus for plasma generation
US5212425A (en) Ion implantation and surface processing method and apparatus
US7147759B2 (en) High-power pulsed magnetron sputtering
WO2005025280A2 (en) Method and apparatus for producing extreme ultraviolett radiation or soft x-ray radiation

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20091101