NL1022140C2 - Deposition of glass layers inside tube using reactive gases, useful for preparing optical fibres, comprises treating glass forming compounds with deuterium before deposition - Google Patents
Deposition of glass layers inside tube using reactive gases, useful for preparing optical fibres, comprises treating glass forming compounds with deuterium before deposition Download PDFInfo
- Publication number
- NL1022140C2 NL1022140C2 NL1022140A NL1022140A NL1022140C2 NL 1022140 C2 NL1022140 C2 NL 1022140C2 NL 1022140 A NL1022140 A NL 1022140A NL 1022140 A NL1022140 A NL 1022140A NL 1022140 C2 NL1022140 C2 NL 1022140C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- glass
- deposition
- deuterium
- forming compounds
- substrate tube
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
- C03C13/047—Silica-containing oxide glass compositions containing deuterium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
- C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0042—Compositions for glass with special properties for glass comprising or including particular isotopes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/22—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with deuterium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
Description
ΗΗ
Korte omschrijving: Werkwijze voor de depositie van een of meer ' glaslagen met laag hydroxyl gehalte op het inwendige van een substraatbuis.Brief description: Method for the deposition of one or more layers of glass with a low hydroxyl content on the interior of a substrate tube.
5 BESCHRIJVING5 DESCRIPTION
H De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor de depositie van een of meer glaslagen met laag hydroxyl gehalte op het inwendige van een substraatbuis, waarbij aan het inwendige van de substraatbuis een of meer reactieve gassen, die glasvormende verbindingen 10 bevatten, en een zuurstofbevattend gas worden toegevoerd, waarbij in het inwendige van de substraatbuis zodanige omstandigheden worden gecreëerd dat depositie plaatsvindt. De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van optische vezels, waarbij na het op het inwendige van een substraatbuis afzetten van één of 15 meer glaslagen de substraatbuis wordt gecontraheerd tot een massieve I staaf waaruit optische vezels worden getrokken.The present invention relates to a method for the deposition of one or more glass layers with a low hydroxyl content on the interior of a substrate tube, wherein one or more reactive gases containing glass-forming compounds are present on the interior of the substrate tube and an oxygen-containing compound gas are supplied, conditions being created inside the substrate tube such that deposition takes place. The present invention further relates to a method for manufacturing optical fibers, wherein after depositing one or more glass layers on the interior of a substrate tube, the substrate tube is contracted into a solid rod from which optical fibers are drawn.
De depositie van glaslagen op het inwendige van een substraatbuis, waarbij aan de substraatbuis een of meer reactieve gassen I en een zuurstof bevattend gas worden toegevoerd, is op zich bekend, 20 bijvoorbeeld uit het Amerikaans octrooi schrift 6.260.510 ten name van de onderhavige aanvrager. Volgens de daaruit bekende methode wordt een bijvoorbeeld uit kwartsglas bestaande substraatbuis op het inwendige oppervlak hiervan bedekt met lagen van al of niet gedoteerd siliciumdioxide (bijvoorbeeld germanium gedoteerd si 1 iciumdioxide). Een 25 dergelijke deposit!ereactie kan worden uitgevoerd door de substraatbuis te positioneren langs de cilindrische as van de resonatorruimte en vervolgens het inwendige van de substraatbuis te doorleiden met een gasvormig mengsel dat bijvoorbeeld zuurstof, siliciumchloride en germaniumchloride omvat. Vervolgens wordt een plaatselijk plasma binnen 30 de resonatorruimte gegenereerd ter verkrijging van de directe depositie van germanium gedoteerd siliciumoxide op het inwendige oppervlak van de I substraatbuis. Omdat een dergelijke depositie slechts plaatsvindt in de I nabijheid van het plaatselijk plasma moet de resonatorruimte (en aldus I het plasma) over de cilindrische as van de substraatbuis worden verplaatst om de substraatbuis over de volledige lengte hiervan uniform I 5 te bedekken. Wanneer de depositie van lagen is voltooid, wordt de substraatbuis zodanig thermisch behandeld dat deze contraheert tot een I staaf, welke staaf ook wel optische voorvorm wordt genoemd. Indien het I uiteinde van de optische voorvorm zodanig wordt verwarmd dat dit uiteinde I gaat smelten, kan een optische vezel uit het optisch vormdeel worden 10 getrokken en op een spoel worden gewikkeld. Een dergelijke optische vezel bezit aldus een kern-manteldeel overeenkomend met dat van het optisch vormdeel. Omdat een met germanium gedoteerde kern een hogere brekingsindex bezit dan bijvoorbeeld de niet-gedoteerde mantel, kan de optische vezel als een golfgeleider fungeren, te weten voor toepassing in 15 het propageren van optische telecommunicatiesignalen. Er moet echter worden opgemerkt dat het door het inwendige van de substraatbuis geleide gasvormige mengsel ook andere bestanddelen kan omvatten, bijvoorbeeld de toevoeging van een fluor bevattende verbinding waardoor een reductie in de brekingsindex van het gedoteerde siliciumdioxide wordt veroorzaakt.The deposition of glass layers on the interior of a substrate tube, wherein one or more reactive gases I and an oxygen-containing gas are supplied to the substrate tube, is known per se, for example from U.S. Pat. No. 6,260,510 to the present applicant. . According to the method known therefrom, a substrate tube consisting of, for example, quartz glass, is coated on its inner surface with layers of silicon dioxide, whether doped or not (for example, germanium-doped silicon dioxide). Such a deposit reaction can be carried out by positioning the substrate tube along the cylindrical axis of the resonator space and then passing through the interior of the substrate tube with a gaseous mixture comprising, for example, oxygen, silicon chloride and germanium chloride. Subsequently, a local plasma within the resonator space is generated to obtain the direct deposition of germanium-doped silica on the inner surface of the substrate tube. Because such a deposition only takes place in the vicinity of the local plasma, the resonator space (and thus the plasma) must be moved along the cylindrical axis of the substrate tube in order to cover the substrate tube uniformly over its entire length. When the deposition of layers is complete, the substrate tube is thermally treated such that it contrasts to an I bar, which bar is also called an optical preform. If the end of the optical preform is heated so that this end I starts to melt, an optical fiber can be pulled out of the optical molded part and wound on a spool. Such an optical fiber thus has a core-shell part corresponding to that of the optical form part. Because a germanium-doped core has a higher refractive index than, for example, the undoped sheath, the optical fiber can act as a waveguide, namely for use in propagating optical telecommunication signals. It should be noted, however, that the gaseous mixture passed through the interior of the substrate tube may also include other components, for example, the addition of a fluorine-containing compound causing a reduction in the refractive index of the doped silica.
^B 20 De toepassing van een dergelijke optische vezel voor ^B telecommunicatiedoeleinden vereist dat de vezel in wezen vrij van ^B verontreinigingen moet zijn, omdat, indien zo'n optische vezel in grote lengtes wordt toegepast, dergelijke verontreinigingen een ernstige verzwakking van het getransporteerde signaal kunnen veroorzaken. 25 Dientengevolge is het gewenst dat niet alleen het hiervoor genoemde PCVD-proces zeer uniform is maar dat ook de voor de depositie toegepaste ^B reactieve gassen geen ongewenste verontreinigingen bevatten. De chlorideverbindingen, in het bijzonder siliciumchloride en germaniumchloride, die als uitgangsmateriaal bij de glasvezel fabricage H 30 worden toegepast, zijn in het algemeen enigszins verontreinigd met H geringe hoeveelheid si lanen, zoals bijvoorbeeld trichloormethylsilaan 3 (SiCl3)CHj)), SiHCl3 en dergelijke. Tijdens de hiervoor besproken chemische dampdepositie kunnen de waterstofatomen aldus in de op het inwendige van de substraatbuis afgezette glaslagen -OH-bindingen vormen, welke OH-bindingen een sterk nadelige invloed vertonen op het 5 transmissiespectrum van een uit een optische voorvorm getrokken vezel, met name door de sterke absorptie hiervan bij 1240 nm en 1385 nm. Dergelijke absorptieverliezen ten gevolge van de geringe aanwezigheid van verontreinigingen in de gasvormige uitgangsmaterialen kunnen 10 tot 20 dB/km bij een golflengte van 1385 nm bedragen. Hoewel volgens de stand 10 van de techniek methoden bekend zijn om het inbouwen van dergelijke -OH-groepen in de optische glasvezel tegen te gaan, bijvoorbeeld door het uitvoeren van een chloorbehandel ing na depositie bij poreuze glasstructuren, zoals bekend is uit het Amerikaans octrooi schrift 4.675.038, of bijvoorbeeld door het toevoegen van fluor tijdens de 15 chemische dampdepositiereactie, zoals bekend is uit de Europese octrooiaanvrage 0 127 227, hebben beide methoden volgens de stand van de techniek het nadeel dat er respectievelijk een extra hoeveelheid chloor of fluor in de uiteindelijke glasstructuur terechtkomt waardoor de dempingsverliezen ten gevolge van Rayleigh scattering zullen toenemen.The use of such an optical fiber for telecommunication purposes requires that the fiber be essentially free of B contaminants because, if such an optical fiber is used in large lengths, such contaminants seriously weaken the transported. cause a signal. Consequently, it is desirable that not only the aforementioned PCVD process is very uniform, but also that the reactive gases used for deposition do not contain undesired impurities. The chloride compounds, in particular silicon chloride and germanium chloride, which are used as starting material in the glass-fiber manufacture H 30, are generally slightly contaminated with H small amount of silanes, such as, for example, trichloromethylsilane 3 (SiCl 3) CH 3), SiHCl 3 and the like. During the chemical vapor deposition discussed above, the hydrogen atoms can thus form -OH bonds in the glass layers deposited on the interior of the substrate tube, which OH bonds have a strong adverse influence on the transmission spectrum of a fiber drawn from an optical preform, in particular due to its strong absorption at 1240 nm and 1385 nm. Such absorption losses due to the low presence of impurities in the gaseous starting materials can be 10 to 20 dB / km at a wavelength of 1385 nm. Although according to the state of the art, methods are known for preventing the incorporation of such -OH groups into the optical glass fiber, for example by carrying out a chlorine treatment after deposition on porous glass structures, as is known from the American patent specification 4,675,038, or, for example, by adding fluorine during the chemical vapor deposition reaction, as is known from European patent application 0 127 227, both methods according to the prior art have the disadvantage that there is respectively an extra amount of chlorine or fluorine in the end up with a glass structure that will increase the damping losses due to Rayleigh scattering.
20 Uit de Europese octrooiaanvrage 1 182 176 is bovendien een methode bekend voor het verlagen van de waterstofgevoeligheid van optische vezels in het gebied 1380 - 1410 nm door in een afgesloten ruimte de reeds getrokken optische vezel op de spoel in contact te brengen met een deuterium bevattend gasmengsel in een temperatuuromgeving 25 van ten hoogste 85 °C gedurende een periode van 1 dag tot 2 weken, waarna de aldus behandelde optische vezel in een neutrale atmosfeer van bijvoorbeeld lucht of stikstof gedurende een periode van 1 tot 3 weken wordt gebracht. Een nadeel van een dergelijke methode is de lange verblijftijd van de optische vezel in de afgesloten ruimte. Bovendien zal 30 de diffusie van het deuterium bevattende gasmengsel naar de binnenste vezels op de spoel onvoldoende zijn, zodat een volledige uitwisseling van 1 n O O 1 An Η I OH-groepen in OD-groepen niet is gewaarborgd.In addition, European patent application No. 1 182 176 discloses a method for reducing the hydrogen sensitivity of optical fibers in the range 1380 - 1410 nm by bringing the already drawn optical fiber on the coil into contact with a deuterium containing a deuterium. gas mixture in a temperature environment of at most 85 ° C for a period of 1 day to 2 weeks, after which the optical fiber thus treated is introduced into a neutral atmosphere of, for example, air or nitrogen for a period of 1 to 3 weeks. A disadvantage of such a method is the long residence time of the optical fiber in the closed space. In addition, the diffusion of the deuterium-containing gas mixture to the inner fibers on the coil will be insufficient, so that a complete exchange of 1 n O 2 O 4 OH groups in OD groups is not guaranteed.
I Het, hiervoor geschetste probleem van de geringe I onzuiverheden in de glasvormende uitgangsmaterialen is met name van I belang bij het PCVD-proces, welk proces wordt gekarakteriseerd door een I 5 inherent hoog inbouwrendement van uitgangsmaterialen.The above-described problem of the low impurities in the glass-forming starting materials is of particular interest in the PCVD process, which process is characterized by an inherently high incorporation efficiency of starting materials.
Het doel van de onderhavige uitvinding is het verschaffen I van een werkwijze die leidt tot een reductie van het aantal OH-bindingen I in een optische vezel zonder een toename van de Rayleigh scattering.The object of the present invention is to provide a method that leads to a reduction in the number of OH bonds I in an optical fiber without an increase in Rayleigh scattering.
Een ander doel van de onderhavige uitvinding is het I 10 verschaffen van een werkwijze voor het bereiden van een zeer zuiver uitgangsmateriaal waaruit glaslagen kunnen worden verkregen, welk I uitgangsmateriaal als reactief gas in een depositieproces, met name een I PCVD-proces, wordt toegepast.Another object of the present invention is to provide a method for preparing a very pure starting material from which glass layers can be obtained, which starting material is used as a reactive gas in a deposition process, in particular an I PCVD process.
Het doel van de onderhavige uitvinding is aldus het 15 verschaffen van een werkwijze ter vervaardiging van een vormdeel, welke werkwijze dient om het aantal OH-bindingen in de uiteindelijk verkrijgen optische vezel tot een minimum te beperken.The object of the present invention is thus to provide a method for manufacturing a molded part, which method serves to minimize the number of OH bonds in the ultimately obtained optical fiber.
De werkwijze zoals vermeld in de aanhef wordt gekenmerkt I doordat de glasvormende verbindingen met deuterium worden behandeld om de 20 H-atomen te vervangen door D-atomen, voordat de depositie van een of meer glaslagen op het inwendige van de substraatbuis plaatsvindt.The method as stated in the preamble is characterized in that the glass-forming compounds are treated with deuterium to replace the 20 H atoms with D atoms before the deposition of one or more glass layers on the interior of the substrate tube takes place.
Door de glasvormende verbindingen met deuterium te behandelen, zal de aanwezige waterstof doelmatig worden uitgewisseld voor deuterium, zodat de OH-bindingen, die een sterke absorptie bij 1240 nm en 25 1385 nm vertonen, worden omgezet in OD-bindingen, welke OD-bindingen geen nadelige invloed op het absorptiespectrum vertonen.By treating the glass-forming compounds with deuterium, the hydrogen present will be effectively exchanged for deuterium, so that the OH bonds, which show a strong absorption at 1240 nm and 1385 nm, are converted into OD bonds, which OD bonds do not adversely affect the absorption spectrum.
Als glasvormende verbindingen worden bij voorkeur siliciumchloride en/of germaniumchloride toegepast.Silicon chloride and / or germanium chloride are preferably used as glass-forming compounds.
H In een bijzondere uitvoeringsvorm is het gewenst dat het 30 behandelen met deuterium in een vroeg stadium plaatsvindt, in het bijzonder het met deuterium behandelen van uitgangsmaterialen waaruit de 5 glasvormende verbindingen worden verkregen. Aldus worden de glasvormende verbindingen, in het bijzonder siliciumchloride en/of germaniumchloride, bereid uit materialen die reeds van schadelijke H-bindingen zijn ontdaan, zodat zeer zuivere glasvormende verbindingen worden verkregen.In a special embodiment, it is desirable that deuterium treatment takes place at an early stage, in particular deuterium treatment of starting materials from which the glass-forming compounds are obtained. Thus, the glass-forming compounds, in particular silicon chloride and / or germanium chloride, are prepared from materials that have already been stripped of harmful H bonds, so that highly pure glass-forming compounds are obtained.
5 In een andere uitvoeringsvorm verdient het de voorkeur dat de onderhavige behandeling met deuterium omvat het in contact brengen van reeds bereide glasvormende verbindingen met deuterium. In een dergelijke uitvoeringsvorm wordt bijvoorbeeld siliciumchloride met een deuteriumbevattend gas, in het bijzonder een gasmengsel dat naast 10 deuterium een inert dragergas, bijvoorbeeld stikstof, kan bevatten, in contact gebracht, waarbij een dergelijk contact het doorleiden van de glasvormende verbindingen met het deuteriumbevattende gas omvat, al of niet in aanwezigheid van een katalysator.In another embodiment, it is preferable that the present treatment with deuterium comprises contacting already prepared glass-forming compounds with deuterium. In such an embodiment, for example, silicon chloride is contacted with a deuterium-containing gas, in particular a gas mixture which may contain an inert carrier gas, for example nitrogen, in addition to deuterium, such contact comprising passing through the glass-forming compounds with the deuterium-containing gas , whether or not in the presence of a catalyst.
De in de onderhavige uitvinding toegepaste 15 behandelingsmethoden met deuterium worden onder zodanige omstandigheden uitgevoerd dat een nagenoeg volledige uitwisseling tussen H-atomen en D-atomen plaatsvindt.The treatment methods with deuterium used in the present invention are carried out under conditions such that an almost complete exchange between H atoms and D atoms takes place.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van optische vezels, waarbij een 20 substraatbuis tot een massieve staaf wordt gecontraheerd, uit welke massieve staaf optische vezels worden getrokken, welke substraatbuis volgens de hiervoor beschreven werkwijze is verkregen.The present invention further relates to a method for manufacturing optical fibers, wherein a substrate tube is contracted into a solid rod, from which solid rod optical fibers are drawn, which substrate tube is obtained according to the method described above.
De onderhavige uitvinding zal hierna aan de hand van een aantal voorbeelden worden toegelicht waarbij echter dient te worden 25 opgemerkt dat de onderhavige uitvinding in geen geval tot dergelijke bijzondere voorbeelden is beperkt.The present invention will be explained below with reference to a number of examples, but it should be noted that the present invention is by no means limited to such special examples.
Voorbeeld.Example.
Onder toepassing van de werkwijze zoals omschreven in het Amerikaans octrooi schrift 6.260.510 is een voorvorm verkregen van een 30 single mode vezel. Deze voorvorm werd vervaardigd door op het inwendige van een kwartsbuis een aantal lagen ongedoteerde en gedoteerde 1022140 Η I siliciumdioxide af te zetten, waarbij als glasvormende verbindingen I gedeutereerde tetrachloriden werden toegepast. De aldus verkregen substraatbuis, voorzien van aan de binnenzijde hiervan afgezette lagen, werd volgens een voor deskundigen op dit gebied bekende methode 5 gecontraheerd tot een massieve staaf, waaruit een optische vezel werd I getrokken. De aldus verkregen optische vezel werd onderworpen aan een onderzoek voor het vaststellen van de dempingsverliezen, waarbij werd I vastgesteld dat de totale demping bij een golflengte van 1385 nm minder dan 0,35 db/km bedroeg, welk resultaat aanzienlijk is verbeterd ten I 10 opzichte van de dempingsverliezen van 0,40 tot 0,50 db/km, gemeten aan I optische vezels volgens de bekende stand van de techniek.Using the method as described in U.S. Pat. No. 6,260,510, a preform of a single mode fiber has been obtained. This preform was produced by depositing a number of layers of undoped and doped 1022140 Η I silicon dioxide on the interior of a quartz tube, using deuterated tetrachlorides as glass-forming compounds I. The substrate tube thus obtained, provided with layers deposited on the inside thereof, was contracted by a method known to those skilled in the art to a solid rod from which an optical fiber was drawn. The optical fiber thus obtained was subjected to an investigation to determine the attenuation losses, in which it was determined that the total attenuation at a wavelength of 1385 nm was less than 0.35 db / km, which result was considerably improved compared to I 10 of the attenuation losses of 0.40 to 0.50 db / km, measured on optical fibers according to the known state of the art.
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1022140A NL1022140C2 (en) | 2002-12-11 | 2002-12-11 | Deposition of glass layers inside tube using reactive gases, useful for preparing optical fibres, comprises treating glass forming compounds with deuterium before deposition |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1022140A NL1022140C2 (en) | 2002-12-11 | 2002-12-11 | Deposition of glass layers inside tube using reactive gases, useful for preparing optical fibres, comprises treating glass forming compounds with deuterium before deposition |
| NL1022140 | 2002-12-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL1022140C2 true NL1022140C2 (en) | 2004-06-15 |
Family
ID=32822890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL1022140A NL1022140C2 (en) | 2002-12-11 | 2002-12-11 | Deposition of glass layers inside tube using reactive gases, useful for preparing optical fibres, comprises treating glass forming compounds with deuterium before deposition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| NL (1) | NL1022140C2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8006518B2 (en) | 2003-10-08 | 2011-08-30 | Draka Comteq, B.V. | Method for manufacturing a preform for optical fibres |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2384725A1 (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-20 | Canadian Patents Dev | GLASS COMPOSITIONS FOR OPTICAL WAVEGUIDES AND METHOD OF OBTAINING |
| US4445918A (en) * | 1981-06-22 | 1984-05-01 | Cselt Centro Studi E Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Process and apparatus for on-line dehydrogenation of fiber-drawing preforms |
| JPS60145924A (en) * | 1984-01-05 | 1985-08-01 | Fujikura Ltd | Production of base material for optical fiber |
| US4583997A (en) * | 1983-10-25 | 1986-04-22 | Wacker-Chemitronic Gesellschaft Fur Elektronik Grundstoffe Mbh | Process for reducing the hydroxyl content of optical waveguides |
| CA1313071C (en) * | 1989-03-21 | 1993-01-26 | Alexander A. Berezin | Isotopic fiberoptics |
| US6260510B1 (en) * | 1997-12-31 | 2001-07-17 | Plasma Optical Fibre B.V. | PCVD apparatus and method of manufacturing an optical fiber, a preform rod and a jacket tube as well as the optical fiber manufactured therewith |
| WO2001064594A1 (en) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | International Business Machines Corporation | MATERIAL FOR SiON-OPTICAL WAVEGUIDES AND METHOD FOR FABRICATING SUCH WAVEGUIDES |
| US20010047665A1 (en) * | 2000-05-29 | 2001-12-06 | Zenastra Photonics Inc. | Application of deuterium oxide in producing silicon containing and metal containing materials |
-
2002
- 2002-12-11 NL NL1022140A patent/NL1022140C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2384725A1 (en) * | 1977-03-22 | 1978-10-20 | Canadian Patents Dev | GLASS COMPOSITIONS FOR OPTICAL WAVEGUIDES AND METHOD OF OBTAINING |
| US4445918A (en) * | 1981-06-22 | 1984-05-01 | Cselt Centro Studi E Laboratori Telecomunicazioni S.P.A. | Process and apparatus for on-line dehydrogenation of fiber-drawing preforms |
| US4583997A (en) * | 1983-10-25 | 1986-04-22 | Wacker-Chemitronic Gesellschaft Fur Elektronik Grundstoffe Mbh | Process for reducing the hydroxyl content of optical waveguides |
| JPS60145924A (en) * | 1984-01-05 | 1985-08-01 | Fujikura Ltd | Production of base material for optical fiber |
| CA1313071C (en) * | 1989-03-21 | 1993-01-26 | Alexander A. Berezin | Isotopic fiberoptics |
| US6260510B1 (en) * | 1997-12-31 | 2001-07-17 | Plasma Optical Fibre B.V. | PCVD apparatus and method of manufacturing an optical fiber, a preform rod and a jacket tube as well as the optical fiber manufactured therewith |
| WO2001064594A1 (en) * | 2000-02-29 | 2001-09-07 | International Business Machines Corporation | MATERIAL FOR SiON-OPTICAL WAVEGUIDES AND METHOD FOR FABRICATING SUCH WAVEGUIDES |
| US20010047665A1 (en) * | 2000-05-29 | 2001-12-06 | Zenastra Photonics Inc. | Application of deuterium oxide in producing silicon containing and metal containing materials |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 009, no. 306 (C - 317) 3 December 1985 (1985-12-03) * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8006518B2 (en) | 2003-10-08 | 2011-08-30 | Draka Comteq, B.V. | Method for manufacturing a preform for optical fibres |
| US8484996B2 (en) | 2003-10-08 | 2013-07-16 | Draka Comteq B.V. | Method of manufacturing an optical fibre preform |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4125388A (en) | Method of making optical waveguides | |
| US4515612A (en) | Method for optical fiber fabrication including deuterium/hydrogen exchange | |
| EP1181254B1 (en) | Low water peak optical waveguide fiber and method of manufacturing same | |
| JP3202919B2 (en) | Single mode optical transmission fiber and method of manufacturing the same | |
| CA2366451A1 (en) | Method of controlling fluorine doping in soot preforms | |
| US7546750B2 (en) | Method for fabricating optical fiber using deuterium exposure | |
| WO2001047822A1 (en) | Low water peak optical waveguide and method of manufacturing same | |
| AU741032B2 (en) | Decreased h2 sensitivity in optical fiber | |
| NL1024480C2 (en) | Method for manufacturing an optical fiber preform, as well as method for manufacturing optical fibers. | |
| US6760526B2 (en) | Chalcogenide doping of oxide glasses | |
| EP0100174A1 (en) | Method of making glass optical fiber | |
| NL1022140C2 (en) | Deposition of glass layers inside tube using reactive gases, useful for preparing optical fibres, comprises treating glass forming compounds with deuterium before deposition | |
| CA2409187C (en) | Method of fabricating an optical fiber preform using mcvd and nonlinear optical fiber fabricated using the method | |
| JP2003026436A (en) | Method and device for manufacturing optical fiber using adjustment of oxygen stoichiometric ratio | |
| JP2004002106A (en) | Low loss optical fiber preform and its manufacturing method | |
| AU4993900A (en) | Chalcogenide doping of oxide glasses | |
| NL2004874C2 (en) | METHOD FOR MANUFACTURING A PRIMARY FORM | |
| NL1019371C2 (en) | Process for the preparation of highly pure silicon chloride and / or germanium chloride. | |
| JPH0476936B2 (en) | ||
| JP2004529060A (en) | Optical fiber and method for producing optical fiber | |
| JPH0820574B2 (en) | Dispersion shift fiber and manufacturing method thereof | |
| CA1100001A (en) | Method of making optical waveguides | |
| JPS61132531A (en) | Production of optical fiber | |
| JPS6120491B2 (en) | ||
| JPH0583502B2 (en) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD2B | A search report has been drawn up | ||
| VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20090701 |