NL1019638C2 - Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. - Google Patents
Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1019638C2 NL1019638C2 NL1019638A NL1019638A NL1019638C2 NL 1019638 C2 NL1019638 C2 NL 1019638C2 NL 1019638 A NL1019638 A NL 1019638A NL 1019638 A NL1019638 A NL 1019638A NL 1019638 C2 NL1019638 C2 NL 1019638C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- probe
- cantilever
- tip
- thin film
- wafer
- Prior art date
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 10
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/50—MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/50—MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
- G01Q60/54—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/50—MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
- G01Q60/54—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
- G01Q60/56—Probes with magnetic coating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/038—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using permanent magnets, e.g. balances, torsion devices
- G01R33/0385—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using permanent magnets, e.g. balances, torsion devices in relation with magnetic force measurements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Description
Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe
De uitvinding heeft betrekking op een probe voor een magnetische kracht-microscoop (een zogeheten "MFM"), omvattende een in een wafervlak geplaatste beweegbare cantilever en een in hoofdzaak loodrecht op de cantilever geplaatste 5 tip.
Tevens heeft de uitvinding betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke uit de praktijk bekende probe voor een magnetische kracht-microscoop, waarbij in een wafervlak een cantilever wordt aangebracht en 10 op de cantilever een tip wordt geplaatst.
De vervaardiging van een dergelijke uit de praktijk bekende probe is moeilijk. Dit heeft ten dele te maken met de hoge aspectratio die nagestreefd wordt met de tip. Gebruikelijk is dat de tip loodrecht op het wafervlak op de cantile-15 ver wordt geplaatst. De bekende tip is daartoe doorgaans piramidaal gevormd. De cantilever van de bekende probe heeft een trillingsrichting loodrecht op het wafervlak. Na plaatsing wordt de tip voorzien van een dunne magnetische coating, teneinde de probe geschikt te maken voor toepassing bij een 20 magnetische kracht-microscoop. De piramidaal gevormde tip beantwoordt niet aan de ideale vorm, waardoor de bereikbare resolutie in de beeldvorming bij het gebruik van de probe beperkt blijft.
Met de uitvinding is beoogd de vervaardiging van de 25 probe van de in de aanhef bedoelde soort te vereenvoudigen, alsmede de mogelijke resolutie van een dergelijke probe te verbeteren. De werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke probe voor een magnetische kracht-microscoop wordt er daartoe door gekenmerkt, dat in hoofdzaak in het wafervlak, 30 op de cantilever een vrijhangende dunne film wordt aangebracht welke een basisvlak van de tip vormt. De volgens deze werkwijze vervaardigde probe heeft bij voorkeur het kenmerk, dat de cantilever beweegbaar is en een trillingsrichting heeft in het wafervlak, en dat de tip nagenoeg in of evenwij- 10196 38* t 2 dig aan dit wafervlak ligt.
De vervaardiging van de probe voor de magnetische kracht-microscoop kan geschikt zo worden gecompleteerd dat op het vlak van de vrijhangende dunne film met een dunne-film-5 depositietechniek een magnetische dunne film wordt aangebracht. Dit maakt dat de afmetingen van de probe volgens de uitvinding zeer beheersbaar zijn.
De uitvinding zal hierna verder worden toegelicht aan de hand van de tekening.
10 In de tekening toont: fig. 1 schematisch en nevengeschikt een probe volgens de stand van de techniek en een probe volgens de uitvinding ; en fig. 2 een probe volgens de uitvinding op vergrote 15 schaal.
In de figuren gebruikte gelijke verwijzingscijfers verwijzen naar dezelfde onderdelen.
Verwijzend nu eerst naar fig. 1 toont deze een wafer 1 met een in het vlak van de wafer opgenomen probe 2 volgens 20 de stand van de techniek en een probe 3 volgens de uitvinding. Zowel de probe 2 volgens de stand van de techniek als de probe 3 volgens de uitvinding zijn uitgevoerd met een cantilever 4' resp. 4'1. De cantilever 4' van de probe 2 volgens de stand van de techniek is beweegbaar loodrecht op het vlak 25 van de wafer 1, terwijl de cantilever 4' ' van de probe 3 volgens de uitvinding beweegbaar is in het vlak van de wafer 1.
De probe 2 volgens de stand van de techniek is gecompleteerd met een op de cantilever 4' geplaatste piramidaal gevormde tip 5', die voorzien is van een magnetische laag.
3 0 De cantilever 4'' van de probe 3 volgens de uitvin ding is voorzien van een tip 5'1, die is aangebracht zoals hierna verder toegelicht onder verwijzing naar fig. 2.
In fig. 2 is de probe 3 volgens de uitvinding in groter detail getoond. Zoals hiervoor reeds aangegeven, is de 35 cantilever 4'' van deze probe 3 beweegbaar met een trillings-richting in het vlak van de wafer 1, en is in overeenstemming daarmee de tip 51' eveneens in het vlak van de wafer 1 aangebracht . Ten behoeve van de vervaardiging van de tip 51' is in 1019638« 3 het vlak van de wafer 1 en op de cantilever 4' ' een vrijhan-gende dunne film 6 aangebracht welke het basisvlak van de tip 5' ' vormt. Aan de aangezichtszijde (de in de figuur frontaal gerichte zijde) van dit basisvlak 6 is met dunne-5 filmdepositietechniek een magnetische dunne film 7 aangebracht ter completering van de tip 5' 1 . De van belang zijnde afmetingen van de tip 51 1 worden zodoende bepaald door de dikte van het basisvlak 6 en de dikte van de magnetische dunne film 7. Zowel de dikte van het basisvlak 6 als de dikte 10 van de magnetische dunne film 7 zijn zeer goed beheersbaar doordat deze met dunne-filmdepositietechnieken worden aangebracht. De lengte van het basisvlak 6 is eveneens zeer goed beheersbaar doordat deze met bekende lithografische technieken wordt bepaald.
15 De werkwijze volgens de uitvinding maakt de vervaar diging van de tip 5'* op de cantilever 4’1 mogelijk, zodanig dat de tip 5' ' zo goed mogelijk kan beantwoorden aan de ideale vorm die wenselijk is voor het verkrijgen van een hoge resolutie tijdens beeldopnamen. Een verder voordeel van de uit-20 vinding is dat de werkwijze zeer geschikt toepasbaar is voor serieproductie met geringe uitvalpercentages.
1019638·
Claims (3)
1. Probe voor een magnetische kracht-microscoop, omvattende een in een wafervlak geplaatste beweegbare cantilever en een in hoofdzaak loodrecht op de cantilever geplaatste tip, met het kenmerk, dat de cantilever beweegbaar is en een 5 trillingsrichting heeft in het wafervlak, en dat de tip nagenoeg in of evenwijdig aan dit wafervlak ligt.
2. Werkwijze voor het vervaardigen van een probe voor een magnetische kracht-microscoop, waarbij in een wafervlak een cantilever wordt aangebracht en op de cantilever een 10 tip wordt geplaatst, met het kenmerk, dat in hoofdzaak in het wafervlak, op de cantilever een vrijhangende dunne film wordt aangebracht, welke een basisvlak van de tip vormt.
3. Werkwijze volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat op de vrijhangende dunne film met een dunne-film- 15 depositietechniek een magnetische dunne film wordt aangebracht ter completering van de tip. 1019638·
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1019638A NL1019638C2 (nl) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. |
EP02789020A EP1459083A1 (en) | 2001-12-21 | 2002-12-18 | Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe |
US10/499,174 US20050211915A1 (en) | 2001-12-21 | 2002-12-18 | Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe |
PCT/NL2002/000842 WO2003056351A1 (en) | 2001-12-21 | 2002-12-18 | Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe |
JP2003556822A JP2005513509A (ja) | 2001-12-21 | 2002-12-18 | 磁気力顕微鏡用プローブおよびそのプローブの製造方法 |
AU2002354339A AU2002354339A1 (en) | 2001-12-21 | 2002-12-18 | Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL1019638A NL1019638C2 (nl) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. |
NL1019638 | 2001-12-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL1019638C2 true NL1019638C2 (nl) | 2003-06-24 |
Family
ID=19774422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL1019638A NL1019638C2 (nl) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050211915A1 (nl) |
EP (1) | EP1459083A1 (nl) |
JP (1) | JP2005513509A (nl) |
AU (1) | AU2002354339A1 (nl) |
NL (1) | NL1019638C2 (nl) |
WO (1) | WO2003056351A1 (nl) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111089988B (zh) * | 2019-12-27 | 2023-01-31 | 季华实验室 | 一种高均匀性磁性探针及其制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6239426B1 (en) * | 1998-07-08 | 2001-05-29 | Seiko Instruments Inc. | Scanning probe and scanning probe microscope |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06249933A (ja) * | 1993-03-01 | 1994-09-09 | Seiko Instr Inc | 磁気力顕微鏡用カンチレバー |
US5856672A (en) * | 1996-08-29 | 1999-01-05 | International Business Machines Corporation | Single-crystal silicon cantilever with integral in-plane tip for use in atomic force microscope system |
US5729026A (en) * | 1996-08-29 | 1998-03-17 | International Business Machines Corporation | Atomic force microscope system with angled cantilever having integral in-plane tip |
US6676813B1 (en) * | 2001-03-19 | 2004-01-13 | The Regents Of The University Of California | Technology for fabrication of a micromagnet on a tip of a MFM/MRFM probe |
SG103326A1 (en) * | 2001-11-30 | 2004-04-29 | Inst Data Storage | Magnetic force microscopy having a magnetic probe coated with exchange coupled magnetic mutiple layers |
US20050088173A1 (en) * | 2003-10-24 | 2005-04-28 | Abraham David W. | Method and apparatus for tunable magnetic force interaction in a magnetic force microscope |
-
2001
- 2001-12-21 NL NL1019638A patent/NL1019638C2/nl not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-12-18 WO PCT/NL2002/000842 patent/WO2003056351A1/en not_active Application Discontinuation
- 2002-12-18 AU AU2002354339A patent/AU2002354339A1/en not_active Abandoned
- 2002-12-18 JP JP2003556822A patent/JP2005513509A/ja active Pending
- 2002-12-18 US US10/499,174 patent/US20050211915A1/en not_active Abandoned
- 2002-12-18 EP EP02789020A patent/EP1459083A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6239426B1 (en) * | 1998-07-08 | 2001-05-29 | Seiko Instruments Inc. | Scanning probe and scanning probe microscope |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
CHUI B W ET AL: "Sidewall-implanted dual-axis piezoresistive cantilever for AFM data storage readback and tracking", MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS, 1998. MEMS 98. PROCEEDINGS., THE ELEVENTH ANNUAL INTERNATIONAL WORKSHOP ON HEIDELBERG, GERMANY 25-29 JAN. 1998, NEW YORK, NY, USA,IEEE, US, 25 January 1998 (1998-01-25), pages 12 - 17, XP010270175, ISBN: 0-7803-4412-X * |
RIED R P ET AL: "6-MHZ 2-N/M PIEZORESISTIVE ATOMIC-FORCE-MICROSCOPE CANTILEVERS WITHINCISIVE TIPS", JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS, IEEE INC. NEW YORK, US, vol. 6, no. 4, 1 December 1997 (1997-12-01), pages 294 - 302, XP000779954, ISSN: 1057-7157 * |
SCHERER V ET AL: "Local elasticity and lubrication measurements using atomic force and friction force microscopy at ultrasonic frequencies", 1997 IEEE INTERNATIONAL MAGNETICS CONFERENCE (INTERMAG '97), NEW ORLEANS, LA, USA, 1-4 APRIL 1997, vol. 33, no. 5, pt.2, IEEE Transactions on Magnetics, Sept. 1997, IEEE, USA, pages 4077 - 4079, XP001104010, ISSN: 0018-9464 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2003056351A1 (en) | 2003-07-10 |
US20050211915A1 (en) | 2005-09-29 |
AU2002354339A1 (en) | 2003-07-15 |
EP1459083A1 (en) | 2004-09-22 |
JP2005513509A (ja) | 2005-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Sharpe | Murray lecture tensile testing at the micrometer scale: Opportunities in experimental mechanics | |
Scrivens et al. | Development of patterns for digital image correlation measurements at reduced length scales | |
US6369400B2 (en) | Magnetic scanning or positioning system with at least two degrees of freedom | |
US5580827A (en) | Casting sharpened microminiature tips | |
US20030170996A1 (en) | Method and apparatus for high density nanostructures | |
US5368898A (en) | Method of generating micro-topography on a surface | |
KR960024492A (ko) | 현미경 탐침 팁의 제조방법 | |
WO2007078316A2 (en) | Tapered probe structures and fabrication | |
US6756584B2 (en) | Probe tip and method of manufacturing probe tips by peel-off | |
Auyeung et al. | Laser decal transfer of freestanding microcantilevers and microbridges | |
US6291140B1 (en) | Low-cost photoplastic cantilever | |
EP0530473B1 (en) | Cantilever for atomic force microscope and method of manufacturing the same | |
JP5889510B2 (ja) | 原子間力顕微鏡プローブ構成の製造方法 | |
NL1019638C2 (nl) | Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. | |
US6664123B2 (en) | Method for etching metal layer on a scale of nanometers | |
Avramescu et al. | Atomic force microscope nanolithography on SiO 2/semiconductor surfaces | |
Li et al. | Investigation of strain in microstructures by a novel moiré method | |
CN100555076C (zh) | 用于纳米压印的压模及其制备方法 | |
Lochel et al. | Magnetically driven microstructures fabricated with multilayer electroplating | |
EP1191331B1 (en) | Method for manufacturing tips and probes for a STM or an AFM | |
KR100477365B1 (ko) | 원자힘 현미경의 팁 보호막 형성 방법 | |
DE19509903A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Abtastvorrichtung zur kombinierten Untersuchung von verschiedenen Oberflächeneigenschaften mit Auflösung im Nanometerbereich | |
Loechel et al. | Application of ultraviolet depth lithography for surface micromachining | |
Yapici et al. | A novel scanning probe array with multiple tip sharpness for variable-resolution scanning probe lithography applications | |
JPH09304410A (ja) | Afmカンチレバー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PD2B | A search report has been drawn up | ||
VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20070701 |