NL1019638C2 - Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. - Google Patents

Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. Download PDF

Info

Publication number
NL1019638C2
NL1019638C2 NL1019638A NL1019638A NL1019638C2 NL 1019638 C2 NL1019638 C2 NL 1019638C2 NL 1019638 A NL1019638 A NL 1019638A NL 1019638 A NL1019638 A NL 1019638A NL 1019638 C2 NL1019638 C2 NL 1019638C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
probe
cantilever
tip
thin film
wafer
Prior art date
Application number
NL1019638A
Other languages
English (en)
Inventor
Leon Abelmann
Jacobus Christiaan Lodder
Arnout Gerbrand Van Den Bos
Original Assignee
Stichting Tech Wetenschapp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stichting Tech Wetenschapp filed Critical Stichting Tech Wetenschapp
Priority to NL1019638A priority Critical patent/NL1019638C2/nl
Priority to EP02789020A priority patent/EP1459083A1/en
Priority to US10/499,174 priority patent/US20050211915A1/en
Priority to PCT/NL2002/000842 priority patent/WO2003056351A1/en
Priority to JP2003556822A priority patent/JP2005513509A/ja
Priority to AU2002354339A priority patent/AU2002354339A1/en
Application granted granted Critical
Publication of NL1019638C2 publication Critical patent/NL1019638C2/nl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/50MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/50MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
    • G01Q60/54Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/50MFM [Magnetic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. MFM probes
    • G01Q60/54Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
    • G01Q60/56Probes with magnetic coating
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/02Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
    • G01R33/038Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using permanent magnets, e.g. balances, torsion devices
    • G01R33/0385Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using permanent magnets, e.g. balances, torsion devices in relation with magnetic force measurements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Description

Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe
De uitvinding heeft betrekking op een probe voor een magnetische kracht-microscoop (een zogeheten "MFM"), omvattende een in een wafervlak geplaatste beweegbare cantilever en een in hoofdzaak loodrecht op de cantilever geplaatste 5 tip.
Tevens heeft de uitvinding betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke uit de praktijk bekende probe voor een magnetische kracht-microscoop, waarbij in een wafervlak een cantilever wordt aangebracht en 10 op de cantilever een tip wordt geplaatst.
De vervaardiging van een dergelijke uit de praktijk bekende probe is moeilijk. Dit heeft ten dele te maken met de hoge aspectratio die nagestreefd wordt met de tip. Gebruikelijk is dat de tip loodrecht op het wafervlak op de cantile-15 ver wordt geplaatst. De bekende tip is daartoe doorgaans piramidaal gevormd. De cantilever van de bekende probe heeft een trillingsrichting loodrecht op het wafervlak. Na plaatsing wordt de tip voorzien van een dunne magnetische coating, teneinde de probe geschikt te maken voor toepassing bij een 20 magnetische kracht-microscoop. De piramidaal gevormde tip beantwoordt niet aan de ideale vorm, waardoor de bereikbare resolutie in de beeldvorming bij het gebruik van de probe beperkt blijft.
Met de uitvinding is beoogd de vervaardiging van de 25 probe van de in de aanhef bedoelde soort te vereenvoudigen, alsmede de mogelijke resolutie van een dergelijke probe te verbeteren. De werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke probe voor een magnetische kracht-microscoop wordt er daartoe door gekenmerkt, dat in hoofdzaak in het wafervlak, 30 op de cantilever een vrijhangende dunne film wordt aangebracht welke een basisvlak van de tip vormt. De volgens deze werkwijze vervaardigde probe heeft bij voorkeur het kenmerk, dat de cantilever beweegbaar is en een trillingsrichting heeft in het wafervlak, en dat de tip nagenoeg in of evenwij- 10196 38* t 2 dig aan dit wafervlak ligt.
De vervaardiging van de probe voor de magnetische kracht-microscoop kan geschikt zo worden gecompleteerd dat op het vlak van de vrijhangende dunne film met een dunne-film-5 depositietechniek een magnetische dunne film wordt aangebracht. Dit maakt dat de afmetingen van de probe volgens de uitvinding zeer beheersbaar zijn.
De uitvinding zal hierna verder worden toegelicht aan de hand van de tekening.
10 In de tekening toont: fig. 1 schematisch en nevengeschikt een probe volgens de stand van de techniek en een probe volgens de uitvinding ; en fig. 2 een probe volgens de uitvinding op vergrote 15 schaal.
In de figuren gebruikte gelijke verwijzingscijfers verwijzen naar dezelfde onderdelen.
Verwijzend nu eerst naar fig. 1 toont deze een wafer 1 met een in het vlak van de wafer opgenomen probe 2 volgens 20 de stand van de techniek en een probe 3 volgens de uitvinding. Zowel de probe 2 volgens de stand van de techniek als de probe 3 volgens de uitvinding zijn uitgevoerd met een cantilever 4' resp. 4'1. De cantilever 4' van de probe 2 volgens de stand van de techniek is beweegbaar loodrecht op het vlak 25 van de wafer 1, terwijl de cantilever 4' ' van de probe 3 volgens de uitvinding beweegbaar is in het vlak van de wafer 1.
De probe 2 volgens de stand van de techniek is gecompleteerd met een op de cantilever 4' geplaatste piramidaal gevormde tip 5', die voorzien is van een magnetische laag.
3 0 De cantilever 4'' van de probe 3 volgens de uitvin ding is voorzien van een tip 5'1, die is aangebracht zoals hierna verder toegelicht onder verwijzing naar fig. 2.
In fig. 2 is de probe 3 volgens de uitvinding in groter detail getoond. Zoals hiervoor reeds aangegeven, is de 35 cantilever 4'' van deze probe 3 beweegbaar met een trillings-richting in het vlak van de wafer 1, en is in overeenstemming daarmee de tip 51' eveneens in het vlak van de wafer 1 aangebracht . Ten behoeve van de vervaardiging van de tip 51' is in 1019638« 3 het vlak van de wafer 1 en op de cantilever 4' ' een vrijhan-gende dunne film 6 aangebracht welke het basisvlak van de tip 5' ' vormt. Aan de aangezichtszijde (de in de figuur frontaal gerichte zijde) van dit basisvlak 6 is met dunne-5 filmdepositietechniek een magnetische dunne film 7 aangebracht ter completering van de tip 5' 1 . De van belang zijnde afmetingen van de tip 51 1 worden zodoende bepaald door de dikte van het basisvlak 6 en de dikte van de magnetische dunne film 7. Zowel de dikte van het basisvlak 6 als de dikte 10 van de magnetische dunne film 7 zijn zeer goed beheersbaar doordat deze met dunne-filmdepositietechnieken worden aangebracht. De lengte van het basisvlak 6 is eveneens zeer goed beheersbaar doordat deze met bekende lithografische technieken wordt bepaald.
15 De werkwijze volgens de uitvinding maakt de vervaar diging van de tip 5'* op de cantilever 4’1 mogelijk, zodanig dat de tip 5' ' zo goed mogelijk kan beantwoorden aan de ideale vorm die wenselijk is voor het verkrijgen van een hoge resolutie tijdens beeldopnamen. Een verder voordeel van de uit-20 vinding is dat de werkwijze zeer geschikt toepasbaar is voor serieproductie met geringe uitvalpercentages.
1019638·

Claims (3)

1. Probe voor een magnetische kracht-microscoop, omvattende een in een wafervlak geplaatste beweegbare cantilever en een in hoofdzaak loodrecht op de cantilever geplaatste tip, met het kenmerk, dat de cantilever beweegbaar is en een 5 trillingsrichting heeft in het wafervlak, en dat de tip nagenoeg in of evenwijdig aan dit wafervlak ligt.
2. Werkwijze voor het vervaardigen van een probe voor een magnetische kracht-microscoop, waarbij in een wafervlak een cantilever wordt aangebracht en op de cantilever een 10 tip wordt geplaatst, met het kenmerk, dat in hoofdzaak in het wafervlak, op de cantilever een vrijhangende dunne film wordt aangebracht, welke een basisvlak van de tip vormt.
3. Werkwijze volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat op de vrijhangende dunne film met een dunne-film- 15 depositietechniek een magnetische dunne film wordt aangebracht ter completering van de tip. 1019638·
NL1019638A 2001-12-21 2001-12-21 Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe. NL1019638C2 (nl)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1019638A NL1019638C2 (nl) 2001-12-21 2001-12-21 Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe.
EP02789020A EP1459083A1 (en) 2001-12-21 2002-12-18 Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe
US10/499,174 US20050211915A1 (en) 2001-12-21 2002-12-18 Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe
PCT/NL2002/000842 WO2003056351A1 (en) 2001-12-21 2002-12-18 Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe
JP2003556822A JP2005513509A (ja) 2001-12-21 2002-12-18 磁気力顕微鏡用プローブおよびそのプローブの製造方法
AU2002354339A AU2002354339A1 (en) 2001-12-21 2002-12-18 Probe for an atomic force microscope and method for making such a probe

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1019638A NL1019638C2 (nl) 2001-12-21 2001-12-21 Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe.
NL1019638 2001-12-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1019638C2 true NL1019638C2 (nl) 2003-06-24

Family

ID=19774422

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1019638A NL1019638C2 (nl) 2001-12-21 2001-12-21 Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20050211915A1 (nl)
EP (1) EP1459083A1 (nl)
JP (1) JP2005513509A (nl)
AU (1) AU2002354339A1 (nl)
NL (1) NL1019638C2 (nl)
WO (1) WO2003056351A1 (nl)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111089988B (zh) * 2019-12-27 2023-01-31 季华实验室 一种高均匀性磁性探针及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6239426B1 (en) * 1998-07-08 2001-05-29 Seiko Instruments Inc. Scanning probe and scanning probe microscope

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06249933A (ja) * 1993-03-01 1994-09-09 Seiko Instr Inc 磁気力顕微鏡用カンチレバー
US5856672A (en) * 1996-08-29 1999-01-05 International Business Machines Corporation Single-crystal silicon cantilever with integral in-plane tip for use in atomic force microscope system
US5729026A (en) * 1996-08-29 1998-03-17 International Business Machines Corporation Atomic force microscope system with angled cantilever having integral in-plane tip
US6676813B1 (en) * 2001-03-19 2004-01-13 The Regents Of The University Of California Technology for fabrication of a micromagnet on a tip of a MFM/MRFM probe
SG103326A1 (en) * 2001-11-30 2004-04-29 Inst Data Storage Magnetic force microscopy having a magnetic probe coated with exchange coupled magnetic mutiple layers
US20050088173A1 (en) * 2003-10-24 2005-04-28 Abraham David W. Method and apparatus for tunable magnetic force interaction in a magnetic force microscope

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6239426B1 (en) * 1998-07-08 2001-05-29 Seiko Instruments Inc. Scanning probe and scanning probe microscope

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHUI B W ET AL: "Sidewall-implanted dual-axis piezoresistive cantilever for AFM data storage readback and tracking", MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS, 1998. MEMS 98. PROCEEDINGS., THE ELEVENTH ANNUAL INTERNATIONAL WORKSHOP ON HEIDELBERG, GERMANY 25-29 JAN. 1998, NEW YORK, NY, USA,IEEE, US, 25 January 1998 (1998-01-25), pages 12 - 17, XP010270175, ISBN: 0-7803-4412-X *
RIED R P ET AL: "6-MHZ 2-N/M PIEZORESISTIVE ATOMIC-FORCE-MICROSCOPE CANTILEVERS WITHINCISIVE TIPS", JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS, IEEE INC. NEW YORK, US, vol. 6, no. 4, 1 December 1997 (1997-12-01), pages 294 - 302, XP000779954, ISSN: 1057-7157 *
SCHERER V ET AL: "Local elasticity and lubrication measurements using atomic force and friction force microscopy at ultrasonic frequencies", 1997 IEEE INTERNATIONAL MAGNETICS CONFERENCE (INTERMAG '97), NEW ORLEANS, LA, USA, 1-4 APRIL 1997, vol. 33, no. 5, pt.2, IEEE Transactions on Magnetics, Sept. 1997, IEEE, USA, pages 4077 - 4079, XP001104010, ISSN: 0018-9464 *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003056351A1 (en) 2003-07-10
US20050211915A1 (en) 2005-09-29
AU2002354339A1 (en) 2003-07-15
EP1459083A1 (en) 2004-09-22
JP2005513509A (ja) 2005-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Sharpe Murray lecture tensile testing at the micrometer scale: Opportunities in experimental mechanics
Scrivens et al. Development of patterns for digital image correlation measurements at reduced length scales
US6369400B2 (en) Magnetic scanning or positioning system with at least two degrees of freedom
US5580827A (en) Casting sharpened microminiature tips
US20030170996A1 (en) Method and apparatus for high density nanostructures
US5368898A (en) Method of generating micro-topography on a surface
KR960024492A (ko) 현미경 탐침 팁의 제조방법
WO2007078316A2 (en) Tapered probe structures and fabrication
US6756584B2 (en) Probe tip and method of manufacturing probe tips by peel-off
Auyeung et al. Laser decal transfer of freestanding microcantilevers and microbridges
US6291140B1 (en) Low-cost photoplastic cantilever
EP0530473B1 (en) Cantilever for atomic force microscope and method of manufacturing the same
JP5889510B2 (ja) 原子間力顕微鏡プローブ構成の製造方法
NL1019638C2 (nl) Probe en werkwijze voor de vervaardiging van een dergelijke probe.
US6664123B2 (en) Method for etching metal layer on a scale of nanometers
Avramescu et al. Atomic force microscope nanolithography on SiO 2/semiconductor surfaces
Li et al. Investigation of strain in microstructures by a novel moiré method
CN100555076C (zh) 用于纳米压印的压模及其制备方法
Lochel et al. Magnetically driven microstructures fabricated with multilayer electroplating
EP1191331B1 (en) Method for manufacturing tips and probes for a STM or an AFM
KR100477365B1 (ko) 원자힘 현미경의 팁 보호막 형성 방법
DE19509903A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Abtastvorrichtung zur kombinierten Untersuchung von verschiedenen Oberflächeneigenschaften mit Auflösung im Nanometerbereich
Loechel et al. Application of ultraviolet depth lithography for surface micromachining
Yapici et al. A novel scanning probe array with multiple tip sharpness for variable-resolution scanning probe lithography applications
JPH09304410A (ja) Afmカンチレバー

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
VD1 Lapsed due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20070701